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[发明专利]显影方法和显影装置-CN201911132271.1有效
发明人：吉原孝介;京田秀治;牟田行志;山本太郎;泷口靖史;福田昌弘 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2014-08-05 - 公布日： 2023-06-16 - 主分类号： G03F7/30 文献下载
摘要：本发明提供一种显影方法，用于进行显影，其包括：将曝光后的基板水平地保持在基板保持部上的步骤；从显影液喷嘴向基板的一部分供给显影液形成积液的步骤；使基板旋转的步骤；使上述显影液喷嘴移动，以使得进行旋转的上述基板上的显影液的供给位置沿着该基板的径向进行移动，从而使上述积液扩展到基板的整个表面的步骤；和与使上述积液扩展到基板的整个表面的步骤并行进行，使与上述显影液喷嘴一起移动的接触部与上述积液接触的步骤，其中，上述接触部与上述基板相对的面比上述基板的表面小。根据该方法能够抑制落到基板外的液体量。另外，由于能够降低基板的转速，所以，能够抑制液体飞溅。并且，通过搅拌显影液，能够提高处理能力。
显影方法装置

[发明专利]基片处理装置、基片处理方法和存储介质-CN202110263205.9有效
发明人： 泷口靖史;山本太郎;冈本芳树;保坂隼斗;小玉辉彦;久保明广;小篠龙人;有内雄司;木村慎佑 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-11-29 - 公布日： 2023-05-09 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本发明提供了基片处理装置、基片处理方法和存储介质。关于滑动部件在基片的背面滑动来进行处理，能够在面内进行均匀性高的处理且将由滑动部件的滑动产生的作用可靠地施加到基片。上述装置构成为包括：为了在基片的背面滑动来进行处理而绕铅直轴自转的滑动部件；和公转机构，其使自转中的该滑动部件绕铅直的公转轴以具有比该滑动部件的直径小的公转半径的方式公转。基片被保持于第一保持部时，滑动部件在所述基片的背面的中央部滑动，上述第一保持部水平地保持与基片的背面的中央部不重叠的区域。基片被保持于第二保持部时，滑动部件在旋转的基片的背面的周缘部滑动，上述第二保持部水平地保持基片的背面的中央部并使之绕铅直轴旋转。
处理装置方法存储介质

[发明专利]涂敷显影装置-CN202080056483.0在审
发明人： 泷口靖史 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-08-05 - 公布日： 2022-03-22 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明的涂敷显影装置(1)包括送入送出站(S1)、处理站(S4)、涂敷前清洗部(23)和涂敷后清洗部(54)。送入送出站包括载置收纳有多个基片(W)的盒(C)的盒载置部(11)。处理站包括：涂敷处理部(COT)，其对基片的正面进行涂敷抗蚀剂的涂敷处理；显影处理部(DEV)，其对由曝光装置(EXP)曝光后的基片的正面供给显影液来进行显影处理；和对基片进行加热的加热部(BK1、BK2)。涂敷前清洗部设置在送入送出站与曝光装置之间，对涂敷处理前的基片的正面进行物理清洗。涂敷后清洗部设置在处理站与曝光装置之间，对涂敷处理后的基片的背面进行物理清洗。
显影装置

[发明专利]基片清洗装置和基片清洗方法-CN202110029564.8在审
发明人：久保明广;泷口靖史;小玉辉彦;冈本芳树 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-01-11 - 公布日： 2021-08-06 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及基片清洗装置和基片清洗方法，在清洗基片时，能够提高基片面内的杂质、颗粒等的除去率的均匀性。基片清洗装置能够将清洗部件抵接到圆形的基片的面，使上述基片与清洗部件相对地旋转来清洗上述面，上述清洗部件的与上述面接触的接触区域从基片中心侧以辐射状向基片周边侧扩展。
清洗装置方法

[发明专利]基片处理装置、基片处理方法和存储介质-CN201711229358.1有效
发明人： 泷口靖史;山本太郎;冈本芳树;保坂隼斗;小玉辉彦;久保明广;小篠龙人;有内雄司;木村慎佑 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-11-29 - 公布日： 2021-03-30 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本发明提供了基片处理装置、基片处理方法和存储介质。关于滑动部件在基片的背面滑动来进行处理，能够在面内进行均匀性高的处理且将由滑动部件的滑动产生的作用可靠地施加到基片。上述装置构成为包括：为了在基片的背面滑动来进行处理而绕铅直轴自转的滑动部件；和公转机构，其使自转中的该滑动部件绕铅直的公转轴以具有比该滑动部件的直径小的公转半径的方式公转。基片被保持于第一保持部时，滑动部件在所述基片的背面的中央部滑动，上述第一保持部水平地保持与基片的背面的中央部不重叠的区域。基片被保持于第二保持部时，滑动部件在旋转的基片的背面的周缘部滑动，上述第二保持部水平地保持基片的背面的中央部并使之绕铅直轴旋转。
处理装置方法存储介质

[发明专利]基片处理装置和基片处理方法-CN202010376534.X在审
发明人：久保明广;泷口靖史;小玉辉彦;冈本芳树;保坂隼斗 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-05-07 - 公布日： 2020-11-17 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本发明提供基片处理装置和基片处理方法。本发明的一个方面的基片处理装置包括：研磨部件，其具有用于研磨基片的主面的研磨面；第一修整部件，其具有进行研磨面的修整的第一修整面；第二修整部件，其具有进行第一修整面的修整的第二修整面；保持研磨部件和第二修整部件的保持部件；以及通过使保持部件移动来切换第一状态和第二状态的驱动部，其中第一状态为第一修整面与研磨面抵接来进行研磨面的修整的状态，第二状态为第一修整面与第二修整面抵接来进行第一修整面的修整的状态。本发明能够持续进行稳定的研磨处理。
处理装置方法

[发明专利]基片翘曲修正方法、计算机存储介质和基片翘曲修正装置-CN201980016809.4在审
发明人：兼竹望;久保明广;小玉辉彦;山本太郎;泷口靖史;冈本芳树;保坂隼斗 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-02-26 - 公布日： 2020-10-20 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明的基片翘曲修正方法不对基片的正面进行处理就能够修正基片翘曲。该基片翘曲修正方法包括表面粗糙化步骤，使用构成为能够对基片的背面进行表面粗糙化处理的表面粗糙化处理装置，对基片的背面进行表面粗糙化处理，在背面形成槽，来修正基片翘曲。
基片翘曲修正方法计算机存储介质装置

[发明专利]显影方法和显影装置-CN201911132118.9在审
发明人：吉原孝介;京田秀治;牟田行志;山本太郎;泷口靖史;福田昌弘 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2014-08-05 - 公布日： 2020-02-07 - 主分类号： G03F7/30 文献下载
摘要：本发明提供一种显影方法，用于进行显影，其包括：将曝光后的基板水平地保持在基板保持部上的步骤；从显影液喷嘴向基板的一部分供给显影液形成积液的步骤；使基板旋转的步骤；使上述显影液喷嘴移动，以使得进行旋转的上述基板上的显影液的供给位置沿着该基板的径向进行移动，从而使上述积液扩展到基板的整个表面的步骤；和与使上述积液扩展到基板的整个表面的步骤并行进行，使与上述显影液喷嘴一起移动的接触部与上述积液接触的步骤，其中，上述接触部与上述基板相对的面比上述基板的表面小。根据该方法能够抑制落到基板外的液体量。另外，由于能够降低基板的转速，所以，能够抑制液体飞溅。并且，通过搅拌显影液，能够提高处理能力。
基板积液显影液喷嘴显影液整个表面显影移动基板保持部供给位置基板水平基板相对基板旋转液体飞溅液体量并行曝光

[发明专利]显影方法和显影装置-CN201410382270.3有效
发明人：吉原孝介;京田秀治;牟田行志;山本太郎;泷口靖史;福田昌弘 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2014-08-05 - 公布日： 2019-12-13 - 主分类号： G03F7/30 文献下载
摘要：本发明提供一种显影方法，用于进行显影，其包括：将曝光后的基板水平地保持在基板保持部上的步骤；从显影液喷嘴向基板的一部分供给显影液形成积液的步骤；使基板旋转的步骤；使上述显影液喷嘴移动，以使得进行旋转的上述基板上的显影液的供给位置沿着该基板的径向进行移动，从而使上述积液扩展到基板的整个表面的步骤；和与使上述积液扩展到基板的整个表面的步骤并行进行，使与上述显影液喷嘴一起移动的接触部与上述积液接触的步骤，其中，上述接触部与上述基板相对的面比上述基板的表面小。根据该方法能够抑制落到基板外的液体量。另外，由于能够降低基板的转速，所以，能够抑制液体飞溅。并且，通过搅拌显影液，能够提高处理能力。
显影方法装置

[实用新型]基板处理装置-CN201822095095.6有效
发明人：毛利信彦;小原隆宪;泷口靖史;小玉辉彦 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2018-12-13 - 公布日： 2019-10-01 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型提供一种强力地清洗基板的基板处理装置。实施方式所涉及的基板处理装置具备：保持部，其保持基板；第一清洗体，其通过向被保持于所述保持部的所述基板的上表面和下表面中的一个面喷出流体或者与所述一个面接触来清洗所述一个面；第一移动机构，其使对所述一个面喷出所述流体或者与所述一个面接触了的所述第一清洗体水平移动；第二清洗体，其与被保持于所述保持部的所述基板的上表面和下表面中的另一个面接触来清洗所述另一个面；第二移动机构，其使与所述另一个面接触了的所述第二清洗体同所述第一清洗体同步地水平移动。根据该基板处理装置，能够强力地清洗基板。
清洗体基板处理装置面接触基板清洗基板移动机构上表面下表面流体面喷清洗本实用新型

[实用新型]液处理装置-CN201821288962.1有效
发明人：吉村好贵;高桥彰吾;泷口靖史;山本太郎 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2018-08-10 - 公布日： 2019-07-09 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型提供一种液处理装置，其在将处理液供给到基片进行处理中，能够抑制颗粒向基片的附着。上述液处理装置在从各喷嘴部(5、6、7)对保持为水平的晶片(W)供给处理流体进行处理时，由设置有用于使各喷嘴部(5、6、7)移动的开口部(16a、16b、16c)的覆盖部件(15)覆盖移动基台(54、64、74)和导轨(55、65、75)的上方，对覆盖部件(15)的下方的驱动区域进行排气，其中，移动基台(54、64、74)用于使各喷嘴部(5、6、7)在晶片的上方与待机位置之间移动。并且，当使各喷嘴部位于待机位置时，上述开口部(16a、16b、16c)分别被各个喷嘴部的喷嘴臂(52、62、72)封闭。
喷嘴部液处理装置待机位置覆盖部件移动基台开口部晶片本实用新型处理液供给处理流体处理装置喷嘴部位驱动区域喷嘴臂移动导轨附着排气种液封闭覆盖

[发明专利]基板处理装置和基板处理方法-CN201811528006.0在审
发明人：毛利信彦;小原隆宪;泷口靖史;小玉辉彦 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2018-12-13 - 公布日： 2019-07-02 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种强力地清洗基板的基板处理装置和基板处理方法。实施方式所涉及的基板处理装置具备保持部、第一清洗体、第一移动机构、第二清洗体、第二移动机构以及控制部。保持部保持基板。第一清洗体通过向被保持于保持部的基板的上表面和下表面中的一个面喷出流体、或者与所述一个面接触来清洗一个面。第一移动机构使第一清洗体水平移动。第二清洗体与被保持于保持部的基板的上表面和下表面中的另一个面接触来清洗另一个面。第二移动机构使第二清洗体水平移动。控制部控制第一移动机构和第二移动机构，执行使对一个面喷出流体或者与一个面接触的第一清洗体和与另一个面接触的第二清洗体同步地水平移动的两面清洗处理。
清洗体移动机构面接触基板处理装置基板基板处理上表面下表面流体面喷清洗清洗处理清洗基板

[发明专利]液处理装置-CN201810908250.3在审
发明人：吉村好贵;高桥彰吾;泷口靖史;山本太郎 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2018-08-10 - 公布日： 2019-02-26 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种在将处理液供给到基片进行处理的液处理装置中，抑制颗粒向基片的附着的技术。上述液处理装置构成为，在从各喷嘴部(5、6、7)对保持为水平的晶片(W)供给处理流体进行处理时，由设置有用于使各喷嘴部(5、6、7)移动的开口部(16a、16b、16c)的覆盖部件(15)覆盖移动基台(54、64、74)和导轨(55、65、75)的上方，对覆盖部件(15)的下方的驱动区域进行排气，其中，移动基台(54、64、74)用于使各喷嘴部(5、6、7)在晶片的上方与待机位置之间移动。并且，当使各喷嘴部位于待机位置时，上述开口部(16a、16b、16c)分别被各个喷嘴部的喷嘴臂(52、62、72)封闭。
喷嘴部液处理装置待机位置覆盖部件移动基台开口部晶片处理液供给处理流体喷嘴部位驱动区域喷嘴臂移动导轨附着排气封闭覆盖

[发明专利]液处理装置和液处理方法-CN201180034562.2有效
发明人： 泷口靖史;山本太郎;山畑努;藤本昭浩;藤村浩二 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2011-07-12 - 公布日： 2013-03-20 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供一种液处理装置，当在杯体内水平保持基板，供给药液对基板进行液处理时，该液处理装置能够抑制药液用的喷嘴的数目，并且以高的吞吐量进行处理。作为液处理列举显影处理时，准备两种显影喷嘴以能够应对两个种类的显影处理方式，对于两个方式当中喷嘴的约束时间较长的方式所使用的显影喷嘴，对第一液处理模块（1、2）单独设置，对于喷嘴的约束时间较短的方式所使用的显影喷嘴，对两个模块（1、2）共用化。并且共用化的显影喷嘴在两个模块（1、2）的中间位置待机。
处理装置方法

[发明专利]液处理装置、液处理方法和存储介质-CN201110264012.1有效
发明人：笹川典彦;稻田博一;泷口靖史 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2011-09-01 - 公布日： 2012-03-21 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供一种液处理装置，其能够对基板处理中不使用的处理喷嘴进行维修，能够实现提高生产率和省空间化。该液处理装置包括：围绕铅直轴自由旋转的转动基体；在第一处理区域和第二处理区域的外侧以待机状态设置在所述转动基体上，并被所述第一处理区域和第二处理区域所共用，用于向基板供给各种不同的处理液的多个处理喷嘴；设置在所述转动基体上并且具备进退自如的喷嘴保持部，通过所述喷嘴保持部保持从多个处理喷嘴中选择的处理喷嘴，并输送到从第一处理区域和第二处理区域中选择的处理区域的喷嘴输送机构，在待机部对待机的处理喷嘴进行维修。
处理装置方法存储介质

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