专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]基板处理装置-CN201810886178.9有效
  • 泽岛隼;波多野章人;小林健司;西村优大;岛井基行;林豊秀 - 株式会社思可林集团
  • 2016-02-19 - 2022-03-22 - H01L21/67
  • 本发明提供一种基板处理装置,该基板处理装置包括将基板保持为水平并使基板围绕通过基板的中央部的铅垂的旋转轴线旋转的基板保持单元和向由所述基板保持单元保持的基板供给处理液的处理液供给系统。供给流路分支成多个上游流路。多个喷出口分别配置在距旋转轴线的距离不同的多个位置。返回流路与上游流路连接。下游加热器对在上游流路内流动的液体进行加热。下游切换单元能够将从供给流路供给到多个上游流路的液体有选择地供给到多个喷出口以及返回流路中的一方。
  • 处理装置
  • [发明专利]基板处理装置-CN201610091276.4有效
  • 小林健司;泽岛隼;西村优大;中岛章宏;岛井基行;波多野章人 - 株式会社思可林集团
  • 2016-02-18 - 2018-10-12 - H01L21/67
  • 本发明提供一种基板处理装置,包括:基板保持单元,一边将基板保持为水平一边使基板围绕通过基板的中央部的铅垂的旋转轴线旋转;处理液供给系统,将包括通过混合来发热的第一液体以及第二液体的处理液向由所述基板保持单元保持的基板供给。供给流路分支成多个上游流路。多个喷出口分别配置在距旋转轴线的距离不同的多个位置。作为药液(SPM)的成分的之一的过氧化氢从成分液流路向上游流路供给。包括多个第一流量调整阀以及多个第二流量调整阀的混合比变更单元针对各上游流路分别独立变更从多个喷出口喷出的药液所包含的硫酸以及过氧化氢的混合比。
  • 处理装置
  • [发明专利]基板处理装置-CN201610090981.2有效
  • 小林健司;泽岛隼;西村优大;波多野章人;岛井基行;林豊秀 - 株式会社思可林集团
  • 2016-02-18 - 2018-09-07 - H01L21/67
  • 本发明提供一种基板处理装置,该基板处理装置包括将基板保持为水平并使基板围绕通过基板的中央部的铅垂的旋转轴线旋转的基板保持单元和向由所述基板保持单元保持的基板供给处理液的处理液供给系统。供给流路分支成多个上游流路。多个上游流路包括分支成多个下游流路的分支上游流路。多个喷出口分别配置在距旋转轴线的距离不同的多个位置,将经由多个上游流路供给的处理液向由基板保持单元保持的基板的上表面喷出。
  • 处理装置
  • [发明专利]基板处理装置-CN201610092133.5有效
  • 泽岛隼;波多野章人;小林健司;西村优大;岛井基行;林豊秀 - 株式会社思可林集团
  • 2016-02-19 - 2018-09-04 - H01L21/67
  • 本发明提供一种基板处理装置,该基板处理装置包括将基板保持为水平并使基板围绕通过基板的中央部的铅垂的旋转轴线旋转的基板保持单元和向由所述基板保持单元保持的基板供给处理液的处理液供给系统。供给流路分支成多个上游流路。多个喷出口分别配置在距旋转轴线的距离不同的多个位置。返回流路与上游流路连接。下游加热器对在上游流路内流动的液体进行加热。下游切换单元能够将从供给流路供给到多个上游流路的液体有选择地供给到多个喷出口以及返回流路中的一方。
  • 处理装置
  • [发明专利]基板处理装置-CN201680031388.9在审
  • 波多野章人;林豊秀;桥本光治;小林健司;高桥弘明 - 株式会社斯库林集团
  • 2016-04-26 - 2018-01-19 - H01L21/304
  • 基板处理装置具备基板旋转机构,旋转基板;喷嘴部,向所述基板的主面喷出处理液的液滴;以及喷嘴移动机构,使所述喷嘴部在沿所述主面的方向上移动。喷嘴部具备两个引导面(511)、两个气体喷出口(512)和两个处理液供给口(513)。气体喷出口沿引导面喷出气体,形成沿引导面流动的气流。处理液供给口设置于引导面,向气流与引导面之间供给处理液。在喷嘴部中,当将两个气体喷出口中的一个视为形成将处理液作为薄膜流向引导面的下端边缘(516)输送的气流的第一气体喷出口时,另一个成为形成与从下端边缘飞散的处理液碰撞的气流的第二气体喷出口。由此,能够喷出粒径均匀的多个液滴来对基板进行适当地处理。
  • 处理装置
  • [发明专利]基板处理装置-CN201380050151.1有效
  • 波多野章人;林豊秀;桥本光治 - 斯克林集团公司
  • 2013-06-18 - 2017-05-17 - H01L21/677
  • 本发明的目的在于提供一种能够减小基板处理装置的独占体积的技术。为了达成该目的,基板处理装置(1)具有多个处理部(21),对基板(W)进行处理;搬运机械手(CR),沿着一个以上的直行轴进行直行动作,且以铅垂轴为中心进行旋转动作,相对于各处理部(21)搬运基板;搬运室(V),划分为搬运机械手(CR)的动作空间;搬运控制部(301),控制搬运机械手(CR)的动作。在此,搬运室(V)内所规定的第一部分区域(V1)的宽度(即,沿着与一个以上的直行轴垂直的水平轴的宽度)小于搬运机械手(CR)的旋转直径(R)。而且,搬运控制部(301)禁止搬运机械手(CR)在第一部分区域(V1)内进行旋转动作。
  • 处理装置
  • [发明专利]基板处理装置以及基板处理方法-CN201510628190.6在审
  • 桥本光治;波多野章人;林豊秀;土谷庆一 - 株式会社思可林集团
  • 2015-09-28 - 2016-04-06 - H01L21/67
  • 本发明提供一种能够防止基板破损的基板处理装置以及基板处理方法。在利用传感器进退移动部使测绘传感器进入运送器内的状态下,通过传感器升降部使测绘传感器沿上下方向移动。与该动作一起,通过测绘传感器朝向与基板进出运送器的前后方向相交的水平方向检测基板的有无,通过高度传感器检测测绘传感器的高度。由此,在前后方向上的彼此不同的两个以上位置检测基板高度。基板状态取得部基于该基板高度,取得各基板在前后方向上相对于水平面的倾斜度。由于事先取得运送器内的各基板的倾斜度,所以能够防止因基板搬运机构的手部与基板接触而产生的基板破损。
  • 处理装置以及方法

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