专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]等离子体辅助的锗掺杂-CN201810153420.1有效
  • 金允上;权赫俊 - 朗姆研究公司
  • 2018-02-22 - 2023-06-06 - H01L21/223
  • 本发明涉及等离子体辅助的锗掺杂。一种在衬底的锗(Ge)层中形成结的方法包括将所述衬底布置在处理室中。所述方法包括使用包含氢气物质的预处理等离子体气体混合物,对所述处理室中的所述衬底执行等离子体预处理持续预定的时间段。所述方法包括向包含磷(P)气体物质和锑(Sb)气体物质的所述处理室供应掺杂等离子体气体混合物。所述方法包括所述处理室中激励等离子体持续预定的掺杂时间段。所述方法包括在预定的退火时间段期间将所述衬底退火以在所述锗(Ge)层中形成所述结。
  • 等离子体辅助掺杂
  • [发明专利]包括与升降的引导部联动的排气调节部的基板处理装置-CN201811368390.2有效
  • 郑相坤;金亨源;权赫俊;郑熙锡 - 吉佳蓝科技股份有限公司
  • 2018-11-16 - 2023-01-31 - H01L21/67
  • 本发明涉及一种包括与在腔室的内部升降的引导部联动的排气调节部的基板处理装置。本发明包括:腔室,其包括处理物质形成区域、处理区域以及排出区域;夹盘,其使基板位于处理区域;引导部,其将处理物质引导至处理区域;排出部,其形成有排出处理物质的多个排气孔;上升下降部,其在基板被搬入及搬出腔室时在腔室的内部使引导部上升,且在处理基板时在腔室的内部使引导部下降;驱动部,其向上升下降部提供驱动力;以及排气调节部,其与上升下降部联动而上升下降,上升下降部在上升下降的一部分区间使引导部和排气调节部一同升降,且在上升下降的另外的一部分区间使排气调节部升降来调节排出部的排出量。
  • 包括升降引导联动排气调节处理装置

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