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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]用于多源激发拉曼光谱法的设备和方法-CN202310360111.2在审
发明人： G·A·安东内利 -专利权人： 昂图创新有限公司
申请日： 2023-04-06 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： G01N21/65 文献下载
摘要：公开了一种执行多波长偏振共焦拉曼光谱法的光学计量设备。该光学计量设备使用第一光源来产生具有第一波长的第一光束，并且使用第二光源来产生具有第二波长的第二光束。二向色分束器部分地反射第一光束并透射第二光束以将沿着入射在样本上的同一光轴的光束组合。该二向色分束器将响应于该第一光束和该第二光束而从样本发射的拉曼响应一起引导向至少一个光谱仪，并引导该第一光束远离该至少一个光谱仪。斩波器可用于隔离由该至少一个光谱仪接收并进行光谱测量的、对该第一光束和该第二光束的拉曼响应。
用于激发光谱设备方法

[发明专利]用于光学计量设备的聚焦系统-CN202180090044.6在审
发明人： A·沙查夫;D·汤普森;J·F·莱索因 -专利权人： 昂图创新有限公司
申请日： 2021-11-03 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： G01N21/21 文献下载
摘要：使用聚焦系统将来自光学计量设备的光聚焦到样本上的测量斑中。该聚焦系统使用从该测量斑反射的光的图像来确定该样本的期望位置处的最佳焦点位置。该聚焦系统选择反射光的诸如偏振状态或波长的特性以用于聚焦。该反射光的被选择用于确定焦点位置的该特性受到该样本的不同部分的不同影响。例如，从样本的顶表面反射的光可具有与由下面层反射的光不同的特性。该反射光的所选特性被该聚焦系统用来将该测量斑聚焦在该样本的该顶表面或下面层处。
用于光学计量设备聚焦系统

[发明专利]相移干涉仪及执行干涉仪测量的方法-CN201880098092.8有效
发明人： N·P·史密斯 -专利权人： 昂图创新有限公司
申请日： 2018-11-28 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： G01B9/02 文献下载
摘要：一种干涉仪，其使用相移掩模，该相移掩模包括的像素阵列与检测器的对应像素阵列对准。该相移掩模中的每个像素适于产生测试光束和参考光束之间的多个预定相移中的一个预定相移。例如，该像素可为线性偏振器或相位延迟元件，其具有该多个偏振器取向或相位延迟中的一者以产生该测试光束和该参考光束之间的该预定相移。该相移掩模中的该像素被布置在该阵列中以便包括以一列宽的行、一行高的列、或多个行和列的块的重复像素组中的该预定相移中的每一者。
相移干涉仪执行测量方法

[发明专利]涡旋旋光仪-CN202180072986.1在审
发明人： K·E·詹姆斯;J·F·莱索因;P·维格斯 -专利权人： 昂图创新有限公司
申请日： 2021-10-21 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： G01N21/55 文献下载
摘要：一种光学计量装置使用具有方位角变化偏振状态和/或相位状态的多波长光束(称为涡旋光束)。该计量装置在大范围的入射角内将涡旋光束聚焦在待测样本上。该计量装置可以检测从样本反射的涡旋光束的图像，并且根据入射角和方位角测量返回光的偏振状态，该偏振状态可以在多个不同波长下进一步测量。涡旋光束包括方位角变化偏振状态，从而使得能够测量所有期望的偏振状态，而不需要使用移动的光学部件。在多个入射角和波长上检测到的偏振状态信息提供了可以用来确定样本的一个或多个特性的精确确定的数据。
涡旋旋光仪

[发明专利]高混合半导体制造中的深度学习模型-CN202211176999.6在审
发明人：孙嵛蕾;S·克雷恩;S·麦克威廉斯 -专利权人： 昂图创新有限公司
申请日： 2022-09-26 - 公布日： 2023-03-28 - 主分类号： G06F30/27 文献下载
摘要：本公开涉及高混合半导体制造中的深度学习模型。公开了用于将神经网络深度学习模型应用于针对诸如沉积、化学机械抛光(CMP)、蚀刻、光刻、电镀等高混合半导体制造的制造策略的技术。描述了制造策略的训练模式和正常操作模式。
混合半导体制造中的深度学习模型

[发明专利]用于校正光刻过程中的套刻误差的系统和方法-CN202180030346.4在审
发明人：李志洋;T·杨 -专利权人： 昂图创新有限公司
申请日： 2021-02-19 - 公布日： 2023-03-07 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：随着半导体芯片的特征尺寸缩小，光刻过程中需要各层之间更严格的套刻。这意味着可能需要更先进且更大的套刻校正来确保裸片被正确制造成芯片，尤其是在重新建构的衬底中，在该衬底中，该裸片可在形成该衬底的过程中移位。提供了用于校正光刻过程中的这些套刻误差的系统和方法。可通过调节载物台和光罩来进行附加旋转(theta)和投影图像尺寸(mag)校正以校正存在于重新建构的衬底中的套刻误差。此外，可进行这些调节，从而允许逐位点或逐区校正，而不是过去一直进行的光罩卡盘的一次调节。这些校正可减轻与扇出型晶圆级封装(FOWLP)和扇出型面板级封装(FOPLP)相关联的一些问题。
用于校正光刻过程中的误差系统方法

[发明专利]用于沟槽的光学测量的目标-CN202180037337.8在审
发明人： N·J·凯勒;G·A·安东内利 -专利权人： 昂图创新有限公司
申请日： 2021-04-16 - 公布日： 2023-01-31 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：一种计量目标被设计用于测量待测装置中的沟槽的底部处的特征，诸如三维(3D)NAND中的字线中的钨凹陷部竖直轮廓。该计量目标遵循该待测装置的设计规则，并且包括层叠堆叠，该层叠堆叠具有多个层叠堆叠对以及延伸穿过这些层叠堆叠对的沟槽，每个层叠堆叠对包括导体层(诸如钨)和绝缘体层(诸如二氧化硅)。该计量目标包括通孔，该通孔延伸穿过该层叠堆叠对，并且被定位成与该沟槽相距一定横向距离以经由等离子体共振促进光到达该沟槽的底部，以用于测量该沟槽的特性，诸如字线狭缝的底部处的钨凹陷部。
用于沟槽光学测量目标

[发明专利]使用声学计量表征图案化结构-CN202180037553.2在审
发明人： M·梅亨代尔;M·科特兰斯基;P·穆昆德汗;R·梅尔 -专利权人： 昂图创新有限公司
申请日： 2021-03-30 - 公布日： 2023-01-31 - 主分类号： G01N29/12 文献下载
摘要：用于诸如通过表征样本的图案化特征或结构来检测或表征样本的系统和方法。在一个方面，本技术涉及一种用于表征样本的图案化结构的方法。该方法包括将泵浦光束引导到样本的表面上的第一位置以在样本中诱导表面声波，以及将探测光束引导到样本上的第二位置，其中当探测光束从样本的表面反射时，探测光束受到表面声波的影响。该方法还包括检测经反射的探测光束，分析检测到的经反射的探测光束以识别经反射的探测光束中的频率模态，以及基于所识别的频率模态，确定样本中的图案化特征的宽度或间距中的至少一者。
使用声学计量表征图案结构

[发明专利]快速一般化的多波长椭圆偏振仪-CN202180027218.4在审
发明人： A·G·博萨利斯 -专利权人： 昂图创新有限公司
申请日： 2021-01-21 - 公布日： 2022-11-22 - 主分类号： G01N21/21 文献下载
摘要：本发明提供了一种椭圆偏振仪，该椭圆偏振仪使用宽带光源和菲涅耳锥体来产生同时宽带偏振状态发生器，而没有移动部件。该椭圆偏振仪的该检测器包括衍射元件，以在空间上分离来自该样本的光的波长。这些波长可以在空间上充分地分离使得在由二维传感器成像时没有波长带的重叠，或者可以在时间上分离。另外，该检测器分离并且同时分析来自该样本的光的偏振状态，因此当由二维传感器成像时不存在偏振状态的重叠，并且不使用移动部件。具有分离的波长和偏振状态的所得图像可用于确定该样本的至少部分穆勒矩阵。
快速一般化波长椭圆偏振

[发明专利]透明膜堆叠的光声测量-CN202210368221.9在审
发明人： G·A·安东内利;M·S·梅亨代尔;R·梅尔;N·J·凯勒 -专利权人： 昂图创新有限公司
申请日： 2022-03-30 - 公布日： 2022-10-04 - 主分类号： G01N21/17 文献下载
摘要：本公开涉及透明膜堆叠的光声测量。一种非破坏性光声计量装置检测膜堆叠中不均匀性的存在和位置，该膜堆叠包括大量透明层，例如50个透明层或更多。该膜堆叠的底部处的换能器层响应于激发束而产生声波。探测束从该膜堆叠的层界面和该声波被反射以产生干涉信号，该干涉信号在该声波在该膜堆叠中向上传播时从相消和相长干涉编码时域中的数据。可跨越该时域分析该数据以确定该膜堆叠中的一个或多个不均匀性的该存在和位置。声学计量目标可被制造成具有换能器层，该换能器层被配置为基于该膜堆叠的特性产生具有所期望的声学轮廓的声波。
透明堆叠测量

[其他]用于半导体计量或检测系统的阻尼器-CN202090000570.X有效
发明人： P·A·道尔;M·J·弗朗切斯基;M·A·克拉奇;K·E·詹姆斯 -专利权人： 昂图创新有限公司
申请日： 2020-05-18 - 公布日： 2022-07-12 - 主分类号： F16F13/30 文献下载
摘要：本申请公开了一种用于半导体计量或检测系统的阻尼器，该阻尼器包括一对平行板，其中在板之间保持有粘度可变的流体。至少一条导线设置在这些板之间，这些板可包括一组或多组凸台和凹槽。在一些具体实施中，两个板均包括相互啮合的凸台和凹槽。控制器被配置为向该至少一条导线提供电流，以便调节通过该流体的电磁场或电流。该流体可以是磁流变流体或电流变流体，其中该流体的该粘度可基于通过该流体的该电磁场或该电流而变化。该控制器改变施加到该导线的该电流以调节该流体的该粘度，以基于台的移动来改变该半导体计量或检测系统的阻尼。
用于半导体计量检测系统阻尼

[发明专利]干涉缺陷检查中的样品表面偏振修改-CN202080067781.X在审
发明人： N·P·史密斯 -专利权人： 昂图创新有限公司
申请日： 2020-09-04 - 公布日： 2022-05-10 - 主分类号： G01N21/88 文献下载
摘要：使用从干涉仪中的干涉通道和偏振修改通道采集的数据来检测缺陷。干涉物镜将偏振照明束分成参考照明和样品束，该参考照明由参考表面反射而不修改偏振，并且该样品束由样品表面反射而可能修改偏振。来自具有无偏振变化的该样品束的光与该参考照明组合并且被引导到该干涉通道，其可测量样品的反射率和/或形貌。来自具有修改的偏振的该样品束的光被引导到该偏振修改通道。在该偏振修改通道处检测到的光的强度可与该反射率和形貌数据一起使用以识别该样品的缺陷或其它特性。
干涉缺陷检查中的样品表面偏振修改

[发明专利]基于分束器的椭圆偏振仪聚焦系统-CN202080069846.4在审
发明人： J·F·莱索因 -专利权人： 昂图创新有限公司
申请日： 2020-09-29 - 公布日： 2022-05-10 - 主分类号： G01N21/21 文献下载
摘要：椭圆偏振仪包括聚焦系统，该聚焦系统使用测量斑的图像确定用于椭圆偏振仪的最佳焦点位置。聚焦信号通过在由偏振器分析信号之前分离椭圆偏振仪测量斑来产生，从而避免对具有调制强度的该斑进行成像。该聚焦信号在传感器阵列上成像，并且基于该斑在该传感器阵列上的该位置，可以确定该椭圆偏振仪的该焦点位置。单个图像可用于确定该椭圆偏振仪的该焦点位置，从而允许实时聚焦位置测量。
基于分束器椭圆偏振聚焦系统

[发明专利]无损检测及制造计量系统和方法-CN202080037979.3在审
发明人： M·梅亨代尔;M·阿尔维斯;R·梅尔 -专利权人： 昂图创新有限公司
申请日： 2020-05-22 - 公布日： 2022-03-01 - 主分类号： G01N21/17 文献下载
摘要：通过无损系统和方法测量或检测样本。多个光脉冲从光源发射。这些光脉冲被分离成泵浦脉冲和探测脉冲。第一探测脉冲在第一泵浦脉冲到达样本的表面之后的第一持续时间之后到达该表面。第二泵浦脉冲在该第一探测脉冲之后的持续时间之后到达该表面。当该第二泵浦脉冲反射出该样本时，该第二泵浦脉冲可被由该第一探测脉冲生成的声波改变。可分析所反射的第二泵浦脉冲以确定该样本的特性。
无损检测制造计量系统方法

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