专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果31个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]一种高效激发NV色心的固态磁强计及其制备方法-CN202310377173.4在审
  • 尚正国;袁仁鹏;曾森;刘妍婧 - 重庆大学
  • 2023-04-10 - 2023-07-21 - G01R33/032
  • 本发明涉及一种高效激发NV色心的固态磁强计及其制备方法,属于固态磁强计的制备技术领域。本发明的固态磁强计采用可调焦菲涅尔波带片S1代替传统的物镜,以实现激发激光的准直聚焦,其焦距可通过电控调节;同时在具有NV色心的金刚石的表面制作超表结构S3,以实现微波能量的进一步集中;另外通过M/NEMS方法在金刚石侧壁形成斜面,同时镀以复合膜系结构,在实现荧光高反射的同时,对高反射膜进行有效保护。因此本发明的高效激发NV色心的固态磁强计中的NV色心在激光和磁场双重作用下,实现荧光高效激发、收集的微结构,从而克服目前NV色心磁强计体积大、集成度低及效率低的问题。
  • 一种高效激发nv色心固态磁强计及其制备方法
  • [发明专利]一种适用于压电薄膜d33压电应变常数测量的结构及其制备工艺-CN201911314162.1在审
  • 尚正国;陈宇昕 - 重庆大学
  • 2019-12-18 - 2020-05-19 - H01L41/047
  • 本发明涉及一种适用于压电薄膜d33压电应变常数测量的结构及其制备工艺,属于微光机电系统技术领域。该结构为采用脉冲直流反应磁控溅射的方式制备的压电薄膜结构,该结构包括有衬底低阻硅、下电极层、背部电极层、氮化铝压电薄膜层和上电极层;下电极层采用与硅和氮化铝晶格系数相失配度较小的金属材料进行制备,上电极层采用导电性良好、成本低的金属。与传统方法在普通硅片或氧化硅上制备的结构相比,本发明新的测试结构在测试时,衬底低阻硅是导电材料,电荷信号可直接通过衬底低阻硅引出,因此仅需一步光刻和湿法腐蚀,大大简化了测试结构的制作工艺,同时避免了由光刻和刻蚀步骤中使用的显影液、刻蚀气体对压电薄膜及电极带来的损伤,大幅提升样品良率。
  • 一种适用于压电薄膜d33应变常数测量结构及其制备工艺
  • [发明专利]一种用于高掺钪浓度氮化铝生长的结构-CN201911266969.2在审
  • 尚正国;陈宇昕 - 重庆大学
  • 2019-12-11 - 2020-03-27 - H01L41/047
  • 本发明涉及一种用于高掺钪浓度氮化铝生长的结构,属于机电技术领域。该结构从下到上依次包括:硅衬底、粘附层、下电极层、氮化铝种子层、低掺钪浓度氮化铝钪种子层和高掺钪浓度氮化铝钪压电层。以该结构为核心制备技术生长的高掺钪浓度氮化铝钪压电薄膜,具有良好的晶体生长质量、较低的应力以及较高的压电系数,以此为基础制备的压电薄膜器件具有良好的性能;而且,采用多层种子层以减小层间晶格适配,提高氮化铝钪晶体生长质量以及减小薄膜应力。
  • 一种用于高掺钪浓度氮化生长结构
  • [发明专利]一种基于铁电栅介质和CdSe纳米线的光电晶体管-CN201710523329.X有效
  • 金伟锋;王婧文;牟笑静;尚正国 - 重庆大学
  • 2017-06-30 - 2019-05-21 - H01L31/18
  • 本发明属于微纳光电探测器领域,具体涉及一种基于PZT铁电薄膜栅介质的CdSe纳米线光电晶体管及其制备方法。该器件为背栅结构,主要包括源极、漏极、沟道、栅极、栅介质和衬底。其中,沟道材料为In掺杂的CdSe纳米线,栅极为金属或SrRuO3,栅介质为PZT铁电薄膜,衬底为SiO2/Si或SrTiO3基片。相比之前CdSe纳米线光电晶体管,本发明具有如下优点:1)PZT铁电薄膜的介电常数远高于SiO2、HfO2和Al2O3等传统栅介质,提高了栅极对沟道载流子调控能力;2)PZT铁电薄膜可利用剩余极化场强来调控沟道载流子,降低器件功耗;3)PZT铁电薄膜相比有机铁电材料P(VDF‑TrFE),具有高剩余极化、低矫顽场强、性质稳定且与微电子工艺兼容等优点。
  • 一种铁电栅介质cdse纳米光电晶体管及其制备方法
  • [发明专利]一种基于铁电栅介质和薄层二硫化钼沟道的光电晶体管-CN201710497580.3有效
  • 金伟锋;牟笑静;尚正国;王婧文 - 重庆大学
  • 2017-06-27 - 2019-05-21 - H01L31/113
  • 本发明属于微纳半导体光电子器件领域,具体涉及一种基于铁电栅介质和薄层MoS2沟道的光电晶体管及其制备方法。该器件包括源极、漏极、沟道、栅极、栅介质、金属焊盘和衬底。源极和漏极为石墨烯,沟道为薄层MoS2,栅介质为PZT铁电薄膜。相比之前同类器件,本发明具有如下优点:1)PZT铁电薄膜大的介电常数提高了栅极对沟道载流子的调控能力;2)PZT铁电薄膜可以利用其剩余极化场强来调控沟道载流子,降低器件功耗;3)PZT铁电薄膜相比有机铁电材料P(VDF‑TrFE),具有高剩余极化、低矫顽场强、性质稳定且与微电子工艺兼容等优点;4)石墨烯作为源极和漏极,能增强信号光透过率,提高器件光响应度和增益等性能。
  • 一种基于铁电栅介质薄层二硫化钼沟道光电晶体管
  • [发明专利]硅基ScAlN薄膜GHz谐振器及其制备方法-CN201710470903.X有效
  • 尚正国;牟笑静 - 重庆大学
  • 2017-06-20 - 2018-12-28 - B81B3/00
  • 本发明涉及一种硅基ScAlN薄膜GHz谐振器及其制备方法,所述谐振器由上而下依次包含引线键合辅助层、上电极层、功能层、辅助层、晶种层、布拉格反射层、器件层衬底、上表面氧化层、结构层衬底和上表面氧化层;所述结构层衬底与器件层衬底形成空腔,布拉格反射层位于空腔正上方,辅助层作为功能层图形化的辅助层和功能层并列设置在晶种层之上。本发明的谐振器通过布拉格反射层与空腔型结构的有机结合,可最大限度地抑制声波损耗,提高器件的性能。
  • 硅基scaln薄膜ghz谐振器及其制备方法

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top