专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种车用级压接功率模块-CN202222166791.8有效
  • 王佳柱;姚礼军 - 嘉兴斯达半导体股份有限公司
  • 2022-08-17 - 2023-04-07 - H01L23/49
  • 本实用新型涉及功率模块技术领域,具体涉及一种车用级压接功率模块,包括,散热基板,散热基板上设有散热孔;外壳,与散热基板连接,外壳与散热基板形成一容纳腔,容纳腔内设有:绝缘基板,设于散热基板上,绝缘基板上设有功率芯片和插接信号端子,功率芯片与绝缘基板的导电层键合连接;绝缘基板上还设有热敏电阻,热敏电阻与绝缘基板的导电层连接;功率端子,功率端子的引脚伸入容纳腔内连接绝缘基板的导电层,本实用新型提高功率端子以及插接信号端子和绝缘基板连接的可靠性,在保证电流等级的前提下缩减模块体积,提高模块集成度,增强模块散热能力。
  • 一种车用级压接功率模块
  • [发明专利]一种SiC MOSFET器件及其制备方法-CN202211166305.0有效
  • 盛况;任娜;冉飞荣;沈华;刘志红 - 浙江大学杭州国际科创中心;浙江大学;嘉兴斯达半导体股份有限公司
  • 2022-09-23 - 2023-01-10 - H01L29/417
  • 本发明涉及半导体技术领域中的一种SiC MOSFET器件及其制备方法,包括衬底层、外延层、两组以上间隔排列的栅氧结构、第一隔离层、一组以上的第一源极电极层、第二源极电极层和栅极电极层,外延层设置在衬底层的一端面,衬底层的另一端面设置有漏极电极层,栅氧结构设置在外延层远离衬底层的一端面,且每组栅氧结构上设置有第一隔离层,每两组连续的栅氧结构设置为一个单元结构,且仅在每个单元结构内的两组栅氧结构之间设置有注入层和源极层,注入层和源极层内贯穿设置有掺杂层,第一源极电极层设置在外延层远离衬底层的一端面,外延层上还设置有第二隔离层,栅极电极层设置在第二隔离层上,本发明解决了传统SiC MOS管寄生电感较大的问题。
  • 一种sicmosfet器件及其制备方法
  • [实用新型]一种水冷散热器基板-CN202221822755.6有效
  • 郑松林;姚礼军;陈烨 - 嘉兴斯达半导体股份有限公司
  • 2022-07-15 - 2022-11-22 - H01L23/473
  • 本实用新型提供一种水冷散热器基板,包括:一基板主体,基板主体内部中空形成一腔体,基板主体的上表面设有一散热面,沿基板主体的宽度方向的一侧分别设有一进液口和一出液口;多个散热翅片,每个散热翅片沿基板主体的长度方向设置于腔体内且垂直于散热面,相邻两散热翅片之间具有一空隙冷却液通过进液口流入腔体的各空隙内,并经由出液口流出形成冷却回路。有益效果是本实用新型中的水冷散热器基板于基板主体内设置多个散热翅片,冷却液在散热翅片之间的空隙内循环流动,大大增加了与冷却液的接触面积,冷却液在空隙内分布均匀,散热效果优异。
  • 一种水冷散热器
  • [实用新型]一种半导体芯片用双面直接水冷模块-CN202123271741.8有效
  • 孙静;姚礼军 - 嘉兴斯达半导体股份有限公司
  • 2021-12-20 - 2022-08-19 - H01L23/473
  • 本实用新型涉及一种半导体芯片用双面直接水冷模块,属于电力电子领域,如下:第一直接水冷针翅基板;第一绝缘基板,设置于所述第一直接水冷针翅基板的下方;第二绝缘基板,与所述第一绝缘基板间隔设定距离平行设置;所述第二绝缘基板的左侧连接一功率端子,右侧连接一控制端子;第二直接水冷针翅基板,设置于所述第二绝缘基板的下方;半导体芯片和导电连接块,设置于所述第一绝缘基板和所述第二绝缘基板之间;环氧塑封体,包覆所述第一绝缘基板和所述第二绝缘基板之间的所有器件。有益效果:提高了模块的散热能力,简化了模块的安装方式,解决了模块安装适配问题。
  • 一种半导体芯片双面直接水冷模块
  • [实用新型]一种功率半导体模块-CN202122871024.2有效
  • 马伟力 - 嘉兴斯达半导体股份有限公司
  • 2021-11-22 - 2022-06-14 - H01L23/492
  • 本实用新型公开了一种功率半导体模块,包括:外壳以及与外壳相连接的功率半导体模块主体,功率半导体模块主体至少包括功率端子和信号端子;其中,外壳的表面向第一方向延伸形成多个凸块,每两相邻的凸块之间具有间距,每一凸块上均开设有供功率端子穿过的第一孔;外壳的表面还开设有供信号端子穿过的第二孔;外壳正对于功率端子的安装位置处开设有安装孔。本实用新型可以在宽度为60—65mm封装的功率半导体模块中制作电路,相较于目前使用的封装结构,其具有工艺方便、制作耗时短、性能强、寿命长等优势,有效提高了模块集成度。
  • 一种功率半导体模块
  • [实用新型]一种带式锡片矫平装置-CN202123248857.X有效
  • 程幸农;王稳 - 嘉兴斯达半导体股份有限公司
  • 2021-12-22 - 2022-06-14 - B21D1/02
  • 本实用新型公开了一种带式锡片矫平装置,第二安装板安装于第一安装板,第二安装板上安装支撑和矫辊调节装置;支撑和矫辊调节装置上安装若干上矫辊,第二安装板的一端安装上涨紧轮,第二安装板的另一端安装上驱动轮;上柔性环带依次包覆上涨紧轮、若干上矫辊、上驱动轮。第二安装板上安装若干下矫辊,第二安装板的一端安装下涨紧轮,第二安装板的另一端安装下驱动轮;下柔性环带依次包覆下涨紧轮、若干下矫辊、下驱动轮;上柔性环带的下表面与下柔性环带的上表面之间形成供锡片通过的通道。本实用新型中把不平整的锡片夹在上下柔性带之间通过上下矫辊作用区域,使锡片与柔性环带一起产生交变弯曲变形,弯曲程度从大到小逐步趋于零,得到平整的锡片。
  • 一种带式锡片矫平装
  • [实用新型]一种双工作模式碳化硅功率器件结构-CN202121622505.3有效
  • 汤艺;沈华 - 嘉兴斯达半导体股份有限公司
  • 2021-07-16 - 2022-01-18 - H01L29/16
  • 本实用新型公开了一种双工作模式碳化硅功率器件结构,该功率器件结构包括Bipolar部分及MOSFET部分,其具体包括N型衬底及设置在该N型衬底底部的集电极金属层,N型衬底的顶部设置有P‑base区,P‑base区上通过沟槽设置有若干栅极氧化层及竖直布置在对应栅极氧化层内的沟槽栅极;P‑base区内设置有若干N+注入区和P+注入区,P‑base区的顶部两侧对应于N+注入区和P+注入区的位置上设置有可浮动基级和发射极,且所述可浮动基级和发射极之间通过ILD外绝缘层进行隔离,该功率器件结构的制作包括生长外延层、生长场氧化层等步骤,工艺流程和普通碳化硅MOSFET的流程兼容,不需要增加新步骤。
  • 一种双工模式碳化硅功率器件结构

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