专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种带电粒子束扫描成像设备实际像素尺寸的获取方法-CN202111413852.X有效
  • 刘骊松 - 上海精测半导体技术有限公司
  • 2021-11-25 - 2023-10-24 - G01N23/2251
  • 本发明公开了一种带电粒子束扫描成像设备实际像素尺寸的获取方法,包括:规划晶圆上实际像素尺寸测量的工作区域;将全部待测像素对应的放大倍率区分为第一放大倍率和更高的第二放大倍率;当获取第一放大倍率的实际像素尺寸时,提取满足预设条件的模板,模板包括一或多个子模板,子模板包括子图像和/或独立特征点;当获取第二放大倍率的实际像素尺寸时,提取基于曲线的图像类模板或曲线类模板;依次获得各放大倍率对应的实际像素尺寸,其步骤均包括:移动晶圆采集目标图像,用模板在目标图像中进行匹配,获取模板的位置和匹配位置之间的目标位移,根据晶圆实际位移和目标位移获得实际像素尺寸。本发明可改进成功率、测量精度及时间成本。
  • 一种带电粒子束扫描成像设备实际像素尺寸获取方法
  • [发明专利]一种有图形晶圆对准方法-CN202310512866.X在审
  • 刘骊松 - 上海精测半导体技术有限公司
  • 2023-05-09 - 2023-10-10 - H01L21/68
  • 本发明公开了一种有图形晶圆对准方法,包括:在创建第一级的晶圆对准工作菜单时,采集主模板图像及若干相邻模板图像拼接成拼接模板全图,从拼接模板全图中提取图像类的主模板和次级模板,次级模板包括图像类子模板和特征类子模板;创建其余级的晶圆对准工作菜单;在设备执行第一级的晶圆对准工作菜单时,采集目标图像,先使用主模板到目标图像中进行模板匹配,若成功则确定第一匹配位置,若失败则使用次级模板到目标图像中进行模板匹配,并在成功时确定第一匹配位置,在确定第一匹配位置后进行其余匹配位置的模板匹配并完成第一级的晶圆对准,然后完成后续各级晶圆对准。本发明提高了所述设备晶圆对准的成功率。
  • 一种图形对准方法
  • [发明专利]有图形晶圆的对准方法及半导体设备-CN202110828940.X有效
  • 刘骊松 - 上海精测半导体技术有限公司
  • 2021-07-22 - 2023-06-20 - H01L21/68
  • 本发明提供了有图形晶圆的对准方法及半导体设备,该方法包括创建菜单时,采集基础模板图像及在与基础模板图像的图像采集区域相邻的区域采集若干相邻模板图像以组成拼接模板图像,自基础模板图像提取含有特征的基础正向模板,保存基础正向模板至菜单;执行菜单时,进行正向匹配和/或反向匹配以获得有图形晶圆的第一匹配点,其中,根据基础正向模板和采集的目标图像执行正向匹配,根据目标图像提取含有特征的反向模板,根据反向模板和拼接模板图像执行反向匹配;在获得第一匹配点后,获得其余匹配点,根据第一匹配点和其余匹配点进行有图形晶圆的本级对准。通过本发明,提高了对有图形晶圆的对准效率,降低对准失败的风险。
  • 图形对准方法半导体设备
  • [发明专利]图像处理方法及图像处理设备-CN202211630143.1在审
  • 黄涛;刘骊松 - 上海精测半导体技术有限公司
  • 2022-12-15 - 2023-06-09 - G06T5/00
  • 本公开提供了一种图像处理方法及图像处理设备,该方法包括:获取模板图像;对模板图像进行模糊处理以生成具有不同模糊程度的多个处理后的模板图像;获取待匹配图像;分别计算每个处理后的模板图像与待匹配图像的归一化相关系数,得到一组归一化相关系数矩阵,每个所述归一化相关系数矩阵对应于一个处理后的模板图像,每个归一化相关系数矩阵中的每个值对应于一个像素位置;将每个归一化相关系数矩阵的最大值划分到对应的最大值组中;以及分别计算每个最大值组的匹配分值,将匹配分值中的最大值作为最终值,将最终值对应的像素位置作为匹配位置。该图像处理方法具有更好的鲁棒性,能够避免图像的错匹配情况,提高对待匹配图像成像清晰度的宽容度。
  • 图像处理方法设备
  • [发明专利]晶圆对准模板图像生成方法-CN202011181837.2有效
  • 刘骊松;张旭;杨康康;黄涛;王岗 - 上海精测半导体技术有限公司
  • 2020-10-29 - 2023-06-09 - H01L21/68
  • 本发明公开了一种用于晶圆对准的晶圆模板图像生成方法,能产生各级晶圆对准所需的高精度的模板图像,该晶圆模板图像生成方法包括:对所选模板区域,获得晶圆设计信息包括各层结构和层结构对应的材料信息,对正入射或接近正入射照明的光学成像系统包括OM系统和TDI系统,将晶圆表面结构划分微分区域,计算晶圆上各微分区域到图像采集单元感光区域中对应的微分像素反射率,用图像采集单元感光区域内微分像素反射率的平均值作为图像采集单元对应像素的原始值,并归一(映射)到像素灰度值数据类型所对应的取值范围,构成模板图像中各像素的灰度值。按照本发明实现的晶圆模板图像生成方法,能够避免设置Recipe时占用半导体设备工作时间,从而支持脱机产生Recipe,进一步提高半导体设备晶圆对准的可靠性。
  • 对准模板图像生成方法
  • [发明专利]电子束晶圆缺陷复检设备的复检准备方法和复检方法-CN202211635380.7在审
  • 刘骊松;黄涛;王岗;张旭 - 上海精测半导体技术有限公司
  • 2022-12-19 - 2023-03-28 - G01N23/2251
  • 本发明公开了一种电子束晶圆缺陷复检设备的复检准备方法和复检方法,复检准备方法包括:在晶圆上片并获取初检信息和完成光学显微系统下的晶圆对准后,进行扫描电镜的图像灰度优化;在所述扫描电镜下的多级晶圆对准的实施中判断是否进行扫描电镜的自动聚焦,根据判断结果完成该级晶圆对准或所述自动聚焦,完成该级晶圆对准和其余更高级的晶圆对准;确定晶圆坐标系的参考点。所述方法优化了EBR设备复检准备流程,将判断是否执行快速自动聚焦的内容有机地穿插到WA之中,除去了现有技术中的步骤紊乱和冗余,降低了其不必要的SEM图像采集导致的损坏晶圆的风险,提升了所述复检准备工作的效率和精准度,也提升了设备的吞吐量。
  • 电子束缺陷复检设备准备方法
  • [发明专利]一种半导体设备多级自动晶圆对准方法和半导体设备-CN202211018869.X在审
  • 刘骊松 - 上海精测半导体技术有限公司
  • 2022-08-24 - 2022-11-18 - H01L21/68
  • 本发明公开了一种半导体设备多级自动晶圆对准方法和半导体设备,该方法包括:当设备初次执行工作菜单时,在晶圆上片后自动在晶圆中心区域获取初级晶圆对准所需模板图像和模板,根据晶粒周期性确定晶圆上至少一个目标图像采集位置,采集目标图像并用模板进行模板匹配,完成初级晶圆对准;然后从当前级的晶圆对准模板图像或成功匹配的目标图像中,自动获取更高一级晶圆对准的模板图像采集位置,采集更高一级的模板图像和目标图像,然后完成更高一级晶圆对准,并以同样的方式完成其余各级晶圆对准,并根据所获结果产生晶圆对准工作菜单,以供后续晶圆对准所用。本发明避免了人工创建晶圆对准工作菜单时选择模板出错的风险,无需占用产线上设备机时。
  • 一种半导体设备多级自动对准方法
  • [发明专利]无图形晶圆上实际像素尺寸的获取方法-CN202210570788.4在审
  • 刘骊松 - 上海精测半导体技术有限公司
  • 2022-05-24 - 2022-08-30 - G01N21/95
  • 本发明公开了一种无图形晶圆上实际像素尺寸的获取方法,包括:将无图形晶圆上片至带电粒子束扫描成像设备的机械运动平台上;对全部待测实际像素尺寸所对应的放大倍率区分第一放大倍率LM和第二放大倍率HM,均包括一个或多个不同的放大倍率值;先进行第一放大倍率LM中各实际像素尺寸的测量,再进行第二放大倍率HM中各实际像素尺寸的测量,均从放大倍率相对低的到高的;均在晶圆缺槽处采集模板图像,按既定方向和距离移动晶圆,采集目标图像,以实际移动距离和匹配获得的目标位移计算实际像素尺寸。从而提高测量精度,解决了当前设备在大量使用无图形晶圆时难以确定实际像素尺寸的问题,降低了使用成本。
  • 图形晶圆上实际像素尺寸获取方法
  • [发明专利]一种基于光栅图像的位移测量方法及装置-CN202111593678.1在审
  • 黄涛;刘骊松 - 上海精测半导体技术有限公司
  • 2021-12-23 - 2022-04-22 - G06T7/521
  • 本发明涉及一种基于光栅图像的位移测量方法及装置,首先获取模板图像;其次,沿光栅条纹方向对所述模板图像进行投影得到模板向量;然后,采集待测物位移后的光栅图像,沿光栅条纹方向对所述光栅图像进行投影,构建待测向量,计算待测向量与模板向量的归一化相关系数,其中相关系数最大值对应的像素位置即为待测物位移后的目标特征的像素位置;最后将待测物位移后的目标特征的像素位置与目标特征初始像素位置相减,得到目标特征的相对像素位移,基于所述相对像素位移和所述待测物的初始位置,得到待测物位移后的绝对位置。本发明仅需光栅光源以及采集光栅图像的摄像头即可进行位移测量,适合狭小空间中的位移测量。
  • 一种基于光栅图像位移测量方法装置
  • [发明专利]关于线的关键尺寸的测量方法及带电粒子束设备-CN202111660055.1在审
  • 王岗;刘骊松;杨康康;黄涛 - 上海精测半导体技术有限公司
  • 2021-12-30 - 2022-04-08 - G01B15/00
  • 本发明提供了一种关于线的关键尺寸的测量方法及带电粒子束设备,所述方法包括:提供模板图、实测图、待测量区域信息和矩形的测量框;在实测图中获取具有待测线的感兴趣区域,获取待测线的离散边缘点和边缘直线;计算旋转角、第一矢量距离和第二矢量距离,获取第二矢量距离对应的第一期望和第一方差;在所述模板图中获取参考的第二期望和第二方差;根据第一期望和第二期望的比较结果在实测图上进行测量框的移动,比较所述第一方差和第二方差以在当满足预设的迭代停止阈值时,停止移动并记录测量框在实测图中的目标位置,根据目标位置计算待测线的关键尺寸。本发明可降低定位漂移对关键尺寸测量的干扰,提高测量的可重复性和测量结果的准确性。
  • 关于关键尺寸测量方法带电粒子束设备

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