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[发明专利]一种相移掩模板、阵列基板、其制备方法及显示装置-CN201810142882.3有效
发明人：张小祥;刘明悬;郭会斌;徐文清;李小龙;吴祖谋;宋勇志 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2018-02-11 - 公布日： 2023-05-26 - 主分类号： G03F1/26 文献下载
摘要：本发明公开了一种相移掩模板、阵列基板、其制备方法及显示装置，相移掩模板在曝光时，虽然走线遮光部对应的区域也存在过曝光的问题，但是将遮光区域的宽度设置成大于图形的设定宽度，虽然形成的图形的实际宽度会小于遮光区域的宽度，但是大于现有相移掩模板的走线遮光部形成的图形的宽度。因此本发明实施例提供的相移掩模板通过调节遮光区域比图形的设定宽度大的宽度，可以使形成的图形的实际宽度等于设定宽度。
一种相移模板阵列制备方法显示装置

[发明专利]阵列基板及显示面板-CN202110943641.0在审
发明人：贾宜訸;栗峰;丁向前;陈维涛;刘明悬;白金超;张向蒙;季延鑫;宋勇志;郭晖;刘建涛;刘静;庞妍 -专利权人：北京京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2021-08-17 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： G09F9/30 文献下载
摘要：本公开涉及显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板及显示面板，用于优化显示装置的封装效果，延长使用寿命。其中，阵列基板包括衬底；设置于衬底上且位于周边区的栅极驱动电路和多条控制信号线，多条控制信号线与栅极驱动电路电连接；至少一条控制信号线中的每条设有至少一个断口；至少一个连接图案，每个连接图案对应一个断口，并与设有断口的控制信号线在断口处的两端电连接；连接图案在衬底上的正投影与对应的断口在衬底上的正投影相互错开设置。上述阵列基板增大多条控制信号线所在区域中可供UV光透过的面积，从而增强与多条控制信号线位置对应的封框胶的固化程度，从而优化显示装置的封装效果。
阵列显示面板

[发明专利]阵列基板、显示模组、电子设备和阵列基板的制造方法-CN202010547597.7有效
发明人： 刘明悬;张向蒙;梁鸿刚;吴祖谋;王洪惠;曲泓铭;丁向前;宋勇志 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2020-06-16 - 公布日： 2022-09-02 - 主分类号： G02F1/1345 文献下载
摘要：本发明公开了一种阵列基板、显示模组、电子设备和阵列基板的制造方法，阵列基板的第二扇出线的宽度方向两侧中的至少一侧设有第一缺口，绝缘层的一部分朝向靠近第二扇出线的方向凹入以形成凹入部，凹入部限定出凹槽，第一扇出线的宽度方向两侧中的至少一侧设有第一凸出部，第一凸出部的一部分朝向靠绝缘层的方向凸出以形成凸起，凹入部与第一缺口配合，凸起与凹槽配合。根据本发明的阵列基板，可提高第一扇出线与绝缘层之间的粘附力，使得第一扇出线不易出现脱落或者断裂之类的不良，进而可提高产品良率。
阵列显示模组电子设备制造方法

[发明专利]阵列基板及其制作方法、显示装置-CN201980002633.7在审
发明人： 刘明悬;张小祥;丁向前;宋勇志;张向蒙;韩笑;梁鸿刚 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2019-11-28 - 公布日： 2021-08-13 - 主分类号： G02F1/1362 文献下载
摘要：一种阵列基板，包括：衬底、至少一个公共电极、至少一条信号线以及至少一条导电连接线。所述至少一个公共电极中的每个和对应的信号线形成于所述衬底的一侧，所述信号线包括沿背离所述衬底的方向上层叠设置的吸光层和金属层，所述吸光层的电导率小于钼的电导率。所述至少一条导电连接线中的每条分别与一公共电极和对应的所述信号线中的金属层电连接。
阵列及其制作方法显示装置

[发明专利]显示基板及其制作方法、显示装置-CN201980001407.7在审
发明人：贾宜訸;丁向前;张小祥;刘明悬;韩皓;杨连捷;宋勇志 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2019-08-20 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： G02F1/1333 文献下载
摘要：一种显示基板及其制作方法、显示装置。其中，显示基板，包括：衬底基板(1)；位于衬底基板(1)上的金属图形(7)，以及位于金属图形(7)靠近衬底基板(1)一侧的减反图形(6)；其中，减反图形(6)的第一坡度角(β)与金属图形(7)的第二坡度角(α)之间的差值小于第一阈值，且减反图形(6)的侧表面靠近金属图形(7)的第一边缘与金属图形(7)的侧表面靠近减反图形(6)的第二边缘之间的距离(d)小于第二阈值，第一坡度角(β)为减反图形(6)的侧表面与衬底基板(1)之间所成的锐角，第二坡度角(α)为金属图形(7)的侧表面与衬底基板(1)之间所成的锐角，第一边缘和第二边缘位于减反图形(6)的同一侧，能够提高显示基板的产品良率。
显示及其制作方法显示装置

[发明专利]阵列基板及其制造方法、驱动晶体管、显示面板-CN201710142461.6有效
发明人：徐文清;刘明悬;王静;张小祥;郭会斌 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2017-03-10 - 公布日： 2021-03-16 - 主分类号： H01L21/77 文献下载
摘要：本申请公开了一种阵列基板及其制造方法、驱动晶体管、显示面板，属于显示技术领域。阵列基板包括像素电路和有机发光二极管，像素电路包括：驱动晶体管和开关晶体管，驱动晶体管包括第一有源介质，开关晶体管包括第二有源介质，第一有源介质和第二有源介质均为多晶硅，且第一有源介质的晶粒尺寸小于第二有源介质的晶粒尺寸。本申请解决了OLED显示面板的显示效果较差的问题，提高了OLED显示面板的显示效果，本申请用于显示面板。
阵列及其制造方法驱动晶体管显示面板

[发明专利]阵列基板的制造方法、阵列基板及反射式液晶显示器-CN201710888219.3有效
发明人：李小龙;张小祥;郭会斌;刘明悬;徐文清;吴祖谋;宋勇志 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2017-09-27 - 公布日： 2020-12-22 - 主分类号： G02F1/1343 文献下载
摘要：本发明公开了一种阵列基板的制造方法、阵列基板及反射式液晶显示器，属于显示技术领域。所述方法包括：在衬底基板上形成像素电极薄膜，所述像素电极薄膜包括：在所述衬底基板上依次叠加的金属薄膜和保护薄膜，所述保护薄膜的各向异性度大于所述金属薄膜的各向异性度；对所述像素电极薄膜执行一次构图工艺，以形成带有保护层图形的像素电极；去除所述保护层图形，以形成所述像素电极。由于像素电极薄膜中的保护薄膜的各向异性度大于金属薄膜的各向异性度，因此所形成的像素电极的刻蚀偏差较小，进而有效的提高了反射式液晶显示器的反射率。本发明用于反射式液晶显示器中。
阵列制造方法反射液晶显示器

[发明专利]柔性显示基板及其制作方法、显示装置-CN201910049875.3有效
发明人：梁鸿刚;韩笑;丁向前;刘明悬;张向蒙 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2019-01-18 - 公布日： 2020-12-15 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：本发明提供了一种柔性显示基板及其制作方法、显示装置，属于显示技术领域。其中，柔性显示基板的制作方法，包括：提供一第一承载基板；在所述第一承载基板上形成柔性基底；在所述柔性基底上形成吸波材料层，所述吸波材料层能够吸收激光发出的能量；在所述吸波材料层上形成显示结构；从所述第一承载基板背向所述柔性基底的一侧照射激光，使所述柔性基底与所述第一承载基板分离。本发明的技术方案能够提高柔性显示基板的良率。
柔性显示及其制作方法显示装置

[发明专利]一种相移掩模板、阵列基板、其制备方法及显示装置-CN201810142878.7有效
发明人：张小祥;刘明悬;郭会斌;宋勇志;李小龙;徐文清;吴祖谋 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2018-02-11 - 公布日： 2020-08-04 - 主分类号： G03F1/26 文献下载
摘要：本发明公开了一种相移掩模板、阵列基板、其制备方法及显示装置，其中由于在相移掩模板中，由于在第一遮光部的两侧设置有的补偿遮光部，因此，可以利用补偿遮光部来降低第一遮光部两侧的曝光强度，从而避免曝光时在第一遮光部对应的区域出现过曝光的问题。并且将补偿遮光部的宽度设置为小于曝光机的分辨率，由于曝光机的分辨率不足，因此补偿遮光部不能被曝光出来，从而保证补偿遮光部对应的区域的光刻胶不会残留，即保证补偿遮光部对应的区域不形成图形。
一种相移模板阵列制备方法显示装置

[发明专利]一种阵列基板制备方法、阵列基板和显示装置-CN201710326074.8有效
发明人：徐文清;刘明悬;王静;李小龙;郭会斌 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2017-05-10 - 公布日： 2020-05-01 - 主分类号： H01L27/12 文献下载
摘要：本发明提供了一种阵列基板制备方法、阵列基板和显示装置。包括：在基板上图案化形成薄膜晶体管源极、漏极和存储电容的第一极板；形成薄膜晶体管的有源层；形成第一绝缘层，第一绝缘层覆盖有源层、源极、漏极及第一极板；在第一绝缘层上图案化形成薄膜晶体管的栅极及存储电容的第二极板；形成第二绝缘层，第二绝缘层覆盖栅极及第二极板；形成分别暴露薄膜晶体管电极和第一极板的两个过孔；形成像素电极层，像素电极层通过过孔分别与薄膜晶体管电极及第一极板电连接。本发明形成两个存储电容，在不减少开口率的基础上增大了电容存储量；并且有源层的表面不被刻蚀，避免有源层在刻蚀中产生缺陷，提高了阵列基板中薄膜晶体管特性的均一性。
一种阵列制备方法显示装置

[发明专利]一种激光退火装置及其控制方法-CN201610681322.6有效
发明人：张治超;张小祥;刘明悬;郭会斌 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2016-08-17 - 公布日： 2020-04-21 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明实施例提供一种激光退火装置及其控制方法，涉及薄膜制备技术领域。通过调光元件的开启和关闭，控制激光器照射在调光板上对应位置的发射源的通过或阻断，以在待退火膜层上形成与预设退火图案相匹配的退火图案，对待退火膜层进行退火。退火图案能够根据预设退火图案进行相应的调整改变，实现同一激光退火装置的多产品共用，节省了对每款产品配备专用退火掩膜版的生产成本。
一种激光退火装置及其控制方法

[发明专利]阵列基板、其制作方法、修复方法、显示面板及显示装置-CN201610590824.8有效
发明人：刘会双;刘明悬;孙增标;罗丽平;姚化礼 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2016-07-25 - 公布日： 2020-04-07 - 主分类号： G02F1/1362 文献下载
摘要：本发明实施例公开了一种阵列基板、其制作方法、修复方法、显示面板及显示装置。该阵列基板包括衬底基板，层叠在所述衬底基板上的像素电极和公共电极；在所述像素电极和所述公共电极之间交叠的区域还设置有导电层；所述导电层至少与所述像素电极和所述公共电极其中的一个绝缘设置。由于在像素电极和公共电极之间的交叠的区域增加了导电层，在进行阵列基板的灭点维修时，在激光处理下，该导电层可熔接像素电极和公共电极，从而提高了灭点效果，进而提高了产品良率。
阵列制作方法修复方法显示面板显示装置

[发明专利]一种阵列基板及其制备方法和显示装置-CN201610509726.7有效
发明人：张小祥;刘明悬;张治超;刘正;刘帅;郭会斌 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2016-06-30 - 公布日： 2020-03-13 - 主分类号： H01L27/12 文献下载
摘要：本发明提供一种阵列基板及其制备方法和显示装置。该阵列基板的制备方法包括：在衬底基板上形成开关管和第一电极，采用化学机械研磨的方法同时形成开关管的源极和漏极以及第一电极。该制备方法通过采用化学机械研磨的方法同时形成开关管的源极和漏极以及第一电极，能够减少阵列基板制备工艺中的源极和漏极构图工艺以及第一电极的构图工艺，从而使阵列基板的制备工艺大大简化，进而提高了阵列基板的制备效率。
一种阵列及其制备方法显示装置

[发明专利]一种相移掩膜板的制作方法及相移掩膜板-CN201810143213.8有效
发明人： 刘明悬;郭会斌;宋勇志;张小祥;徐文清;吴祖谋;李小龙 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2018-02-11 - 公布日： 2020-01-21 - 主分类号： G03F1/26 文献下载
摘要：本发明公开了一种相移掩膜板的制作方法及相移掩膜板，在衬底基板上形成金属遮挡层图案、相位转换层和第一光刻胶层；接着以金属遮挡层图案作为掩模图形，对第一光刻胶层进行构图，形成第一光刻胶层图案，其中，第一光刻胶层图案在衬底基板上的正投影完全覆盖且大于金属遮挡层图案；最后以第一光刻胶层图案作为掩模图形，对相位转换层进行刻蚀，形成相位转换层图案。采用以金属遮挡层图案作为掩模图形，代替现有的采用描画机对第一光刻胶层进行构图，已达到制作出的第一光刻胶层图案与金属遮挡层图案自对准的效果，避免了采用描画机进行曝光时出现的对位偏差，从而保证后续制作出的相位转移层图案与金属遮挡层图案可以严格对准，不存在移位偏差。
图案光刻胶层遮挡层相移掩膜金属相位转换掩模图形衬底基板描画对位偏差相位转移正投影自对准刻蚀移位制作对准曝光保证

[发明专利]显影方法及系统-CN201610566567.4有效
发明人：罗丽平;刘明悬;张小祥;刘会双;孙增标;李伟 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2016-07-18 - 公布日： 2019-11-08 - 主分类号： G03F7/30 文献下载
摘要：本发明公开了一种显影系统及方法，属于显示技术领域，该方法可以应用于显影系统中，该显影系统包括：喷淋组件和浓度调节组件，该方法包括：通过该喷淋组件向待显影基板上的各个显影区域喷淋相同浓度的显影液；通过该浓度调节组件向该待显影基板上的目标显影区域喷淋改变显影液浓度的调节液体，使得在显影过程中该待显影基板上各个显影区域的显影速度相同。本发明可以通过该浓度调节组件对待显影基板上各个显影区域内的显影液浓度进行调节，以保证在显影过程中该待显影基板上各个显影区域的显影速度相同，解决了相关技术中显影均匀性较差的问题，提高了显影系统对基板进行显影时的显影均匀性。本发明用于显影。
显影方法系统

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