专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]描画装置以及描画装置的描画控制方法-CN201510970359.6有效
  • 美藤仁保 - 卡西欧计算机株式会社
  • 2015-12-22 - 2019-11-01 - A45D29/00
  • 本发明涉及描画装置及描画装置的描画控制方法。描画装置具备描画部、试画部以及具有描画用具确定部的控制部。所述描画部中安装有对描画对象物及不同于所述描画对象物的描画介质实施描画的至少一个描画用具。所述描画介质载置于所述试画部。所述描画用确定部从载置于所述试画部的所述描画介质的、由所述描画用具实施了描画的区域取得检查对象图像,根据所述检查对象图像,确定安装于所述描画部的所述描画用具的种类。
  • 描画装置以及控制方法
  • [发明专利]描画装置及描画方法-CN201811004752.X有效
  • 古仲裕;永井妥由;山本强志;八坂智 - 株式会社斯库林集团
  • 2018-08-30 - 2020-10-27 - G03F7/20
  • 一种描画装置及描画方法。描画数据生成部根据整体图案数据依次生成多个分割描画数据并传送给描画控制部,多个分割描画数据分别对应于将基板上的一个带区域在移动方向上进行分割而得到的多个分割区域。描画控制部通过与载物台沿着移动方向进行连续移动并行地控制描画头,从而对带区域进行图案描画。在带描画时间比带描画数据准备时间长时,从开始生成多个分割描画数据起至开始对最初的分割区域进行描画的延迟时间为与最初的分割区域对应的分割描画数据的生成/传送所需的时间。在带描画时间为带描画数据准备时间以下时,延迟时间为开始对最后的分割区域进行描画描画开始时刻成为多个分割描画数据的生成/传送的完成时刻的时间。能够提高描画装置的产量。
  • 描画装置方法
  • [发明专利]描画装置、描画方法及程序-CN201280026637.7无效
  • 山本知弘;石黑博;豊嶋亮藏 - 爱信精机株式会社
  • 2012-05-22 - 2014-02-05 - G06T11/20
  • 描画装置根据在由多个像素构成的画面上描画并由画面上的两点规定的线的线宽,规定对将两点作为端点的线段进行插补的插补范围。另外,描画装置判断像素是否包含在插补范围内。描画装置描画由线段上的像素、判断为包含在插补范围内的像素规定的线。因此,描画装置仅基于与线宽相关的信息,能够确定用于描画线的像素。因此,在进行描画处理时需要处理的信息变少,能够高速地进行描画处理。另外,由于为了进行描画处理而需要事先准备的信息不多,所以能够实现装置的小型化。
  • 描画装置方法程序
  • [发明专利]线描画方法及装置、计算机设备及计算机存储介质-CN201711242998.6有效
  • 鄂永 - 上海联影医疗科技股份有限公司
  • 2017-11-30 - 2021-04-16 - G06T11/20
  • 一种线描画方法及装置、计算机设备及计算机存储介质,通过将任意两个待画线条分别对应的一个端点投影到预设投影面,以及将其他待画线条分别对应的两个端点分别投影到预设投影面,再根据各待画线条的端点以及各投影点进行线描画,确定一条初始描画线,然后,通过去除初始描画线在预设投影面上的线段,并将初始描画线中与各投影点连接的线段投影到各待画线条所在平面中待画线条对应描画线上,即可获得各待画线条分别对应的描画线。如此,根据各待画线条的端点以及各投影点,可一次描画完成得到包括待画线条的描画线的初始描画线,再通过去除多余的线条即可,无需分次进行串行描画,即可实现互相不相接的各待画线条的并行描画,提高了描画效率。
  • 描画方法装置计算机设备存储介质
  • [发明专利]描画系统-CN202110993331.X在审
  • 早川直人;原望 - 株式会社斯库林集团
  • 2021-08-26 - 2022-03-29 - G03F7/20
  • 本发明提供一种描画系统,第一标记描画部在由第一载物台(21a)保持的基板(9)的下侧主面上描画第一定位标记。第二标记描画部在由第二载物台(21b)保持的基板(9)的下侧主面上描画第二定位标记。因此,通过观察在基板(9)的另一个主面描画的定位标记,可以容易判别对基板(9)的一个主面描画图案时利用的搬运机构。由此,可以在考虑描画图案时利用的搬运机构所特有的正面和背面位置关系来调整描画位置的基础上,在基板(9)的另一个主面上描画图案。结果,可以提高在基板(9)的两侧主面上描画的图案的相对的位置精度。
  • 描画系统
  • [发明专利]描画装置、描画方法、层叠基板的制造方法、存储介质-CN202210088844.0在审
  • 鉈落信也;八坂智 - 株式会社斯库林集团
  • 2022-01-25 - 2022-07-26 - H01L21/68
  • 本发明的描画装置具有:描画单元,在基板上描画图案;以及描画数据生成部(42),生成用于在描画单元中描画图案的描画数据。表示应描画在基板上的图案的设计数据包含作为图案区域的下图形、和重叠在下图形上的上图形。描画数据生成部(42)对下图形以及上图形中的一个图形进行变形处理,通过将未进行变形处理的另一个图形或者进行了与一个图形不同的变形处理的另一个图形与变形后的一个图形重叠,从而生成描画数据。由此,能够适当地生成对下图形以及上图形中的一个图形进行变形处理并且对另一个图形不进行变形处理或者进行了不同的变形处理的描画数据。
  • 描画装置方法层叠制造存储介质
  • [发明专利]实时数据处理装置-CN202180020772.X在审
  • 岩下智;小布施典孝;日比昭道;重政直人;富田奖;永作圭史 - 株式会社电通
  • 2021-10-04 - 2023-04-04 - H04N5/91
  • 在实时数据处理装置(1)中,在将相机影像作为光栅形式的影像数据进行输入、且将手写输入作为向量形式的描画数据进行输入时,生成光栅形式的翻转影像数据和向量形式的翻转描画数据,不仅将向量形式的描画数据显示于触摸面板部的描画区域(A1),而且将光栅形式的翻转影像数据与向量形式的翻转描画数据叠加显示于预览区域(A2)。对向量形式的描画数据进行编码处理,来生成光栅形式的描画数据,对光栅形式的影像数据和光栅形式的描画数据进行渲染处理,来生成保存用的合成数据。
  • 实时数据处理装置
  • [发明专利]描画装置以及描画方法-CN201210329992.3有效
  • 吉和隆夫;本庄由宜 - 大日本网屏制造株式会社
  • 2012-09-07 - 2013-03-27 - G03F7/20
  • 本发明涉及一种描画装置以及描画方法。在数据变换部(811)中,对表示各图案的整体的矢量数据进行光栅变换来生成描画光栅数据,并且在生成描画光栅数据时,生成表示该图案中的图案识别用的特征区域的光栅数据即部分光栅数据。将包括描画光栅数据以及部分光栅数据的集合作为描画数据集(51),在存储部(821)中存储有分别与多个图案相对应的多个描画数据集(51)。显示控制部(601),基于包括在多个图案中的被选择的图案的描画光栅数据所属的描画数据集(51)中的部分光栅数据,在显示器(602)上迅速并容易地显示表示该图案的特征区域的图像。
  • 描画装置以及方法
  • [发明专利]一种道路地图的道路线段描画方法、装置及相关系统-CN201811445897.3在审
  • 赖克 - 沈阳美行科技有限公司
  • 2018-11-29 - 2020-06-05 - G01C21/32
  • 本发明公开了一种道路地图的道路线段描画方法、装置及相关系统。所述方法包括:确定道路线段所在道路地图区域的范围;获取建模数据中的道路线段的边界车道线,围建得到道路线段的底面图形,生成道路线段的底面描画数据,对所述道路线段的底面描画数据进行描画,生成道路线段的底面;获取所述建模数据中道路线段的车道线并进行面化,生成道路线段的车道线描画数据,在所述道路线段的底面对所述车道线描画数据进行描画,生成道路线段的车道线。在进行地图描画时先描画道路线段的底面,再对车道线进行描画,从而使生成的道路线段的道路地图实现车道级的地图显示,提高地图显示的精细度,展现出更符合真实道路的车道信息。
  • 一种道路地图线段描画方法装置相关系统
  • [发明专利]描画装置和描画方法-CN201910797277.4有效
  • 久野真士 - 株式会社斯库林集团
  • 2019-08-27 - 2022-04-22 - G03F7/20
  • 本发明提供一种对基板照射光来进行图案的描画描画装置以及描画方法。描画装置的描画头(31)具备光源(32)、光调制器件(341)和投影光学系统(35)。焦点调节机构(353)通过变更焦点透镜组(351)在光轴上的位置来调节描画头(31)的焦点位置。头控制部基于由压力传感器测定出的描画头(31)的周围的压力,控制焦点调节机构(353)。由此,能够对由描画头(31)的周围的压力变动引起的描画头(31)的焦点位置的偏移进行修正。
  • 描画装置方法
  • [发明专利]光掩模及显示装置的制造方法、光掩模基板的检查方法及装置-CN201710585047.2在审
  • 寺田寿美 - HOYA株式会社
  • 2017-07-18 - 2018-02-02 - G03F1/76
  • 在光掩模的制造方法中,该光掩模在透明基板的第1主面具有基于设计描画数据的转印用图案,所述光掩模的制造方法包括以下工序将在第1主面上层叠了薄膜和抗蚀剂膜的光掩模基板载置在描画装置的载台上;描画工序,对光掩模基板进行描画;以及使用将抗蚀剂膜显影而形成的抗蚀剂图案对薄膜进行图案形成,在描画工序中,准备表示描画装置对光掩模基板的形状带来的变形量的描画装置固有数据、和表示光掩模基板的第2主面形状的背面数据,将起因于描画装置固有数据及背面数据的坐标偏差合成量反映在设计描画数据中,在光掩模基板上描画转印用图案。
  • 光掩模显示装置制造方法光掩模基板检查装置

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