|
钻瓜专利网为您找到相关结果 629个,建议您 升级VIP下载更多相关专利
- [发明专利]描画装置及描画方法-CN201811004752.X有效
-
古仲裕;永井妥由;山本强志;八坂智
-
株式会社斯库林集团
-
2018-08-30
-
2020-10-27
-
G03F7/20
- 一种描画装置及描画方法。描画数据生成部根据整体图案数据依次生成多个分割描画数据并传送给描画控制部,多个分割描画数据分别对应于将基板上的一个带区域在移动方向上进行分割而得到的多个分割区域。描画控制部通过与载物台沿着移动方向进行连续移动并行地控制描画头,从而对带区域进行图案描画。在带描画时间比带描画数据准备时间长时,从开始生成多个分割描画数据起至开始对最初的分割区域进行描画的延迟时间为与最初的分割区域对应的分割描画数据的生成/传送所需的时间。在带描画时间为带描画数据准备时间以下时,延迟时间为开始对最后的分割区域进行描画的描画开始时刻成为多个分割描画数据的生成/传送的完成时刻的时间。能够提高描画装置的产量。
- 描画装置方法
- [发明专利]描画系统-CN202110993331.X在审
-
早川直人;原望
-
株式会社斯库林集团
-
2021-08-26
-
2022-03-29
-
G03F7/20
- 本发明提供一种描画系统,第一标记描画部在由第一载物台(21a)保持的基板(9)的下侧主面上描画第一定位标记。第二标记描画部在由第二载物台(21b)保持的基板(9)的下侧主面上描画第二定位标记。因此,通过观察在基板(9)的另一个主面描画的定位标记,可以容易判别对基板(9)的一个主面描画图案时利用的搬运机构。由此,可以在考虑描画图案时利用的搬运机构所特有的正面和背面位置关系来调整描画位置的基础上,在基板(9)的另一个主面上描画图案。结果,可以提高在基板(9)的两侧主面上描画的图案的相对的位置精度。
- 描画系统
- [发明专利]描画装置以及描画方法-CN201210329992.3有效
-
吉和隆夫;本庄由宜
-
大日本网屏制造株式会社
-
2012-09-07
-
2013-03-27
-
G03F7/20
- 本发明涉及一种描画装置以及描画方法。在数据变换部(811)中,对表示各图案的整体的矢量数据进行光栅变换来生成描画光栅数据,并且在生成描画光栅数据时,生成表示该图案中的图案识别用的特征区域的光栅数据即部分光栅数据。将包括描画光栅数据以及部分光栅数据的集合作为描画数据集(51),在存储部(821)中存储有分别与多个图案相对应的多个描画数据集(51)。显示控制部(601),基于包括在多个图案中的被选择的图案的描画光栅数据所属的描画数据集(51)中的部分光栅数据,在显示器(602)上迅速并容易地显示表示该图案的特征区域的图像。
- 描画装置以及方法
- [发明专利]描画装置和描画方法-CN201910797277.4有效
-
久野真士
-
株式会社斯库林集团
-
2019-08-27
-
2022-04-22
-
G03F7/20
- 本发明提供一种对基板照射光来进行图案的描画的描画装置以及描画方法。描画装置的描画头(31)具备光源(32)、光调制器件(341)和投影光学系统(35)。焦点调节机构(353)通过变更焦点透镜组(351)在光轴上的位置来调节描画头(31)的焦点位置。头控制部基于由压力传感器测定出的描画头(31)的周围的压力,控制焦点调节机构(353)。由此,能够对由描画头(31)的周围的压力变动引起的描画头(31)的焦点位置的偏移进行修正。
- 描画装置方法
|