专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]半导体器件及其制造方法-CN202210188963.3在审
  • 郑珉在;都桢湖;徐在禹;柳志秀;俞炫圭 - 三星电子株式会社
  • 2022-02-28 - 2022-11-25 - H01L27/088
  • 提供了一种半导体器件及其制造方法。所述半导体器件可以包括:衬底,所述衬底包括在第一方向上彼此相邻并共享单元边界的第一逻辑单元和第二逻辑单元;第一金属层,所述第一金属层位于所述衬底上,所述第一金属层包括电力线,所述电力线设置在所述单元边界上以在与所述第一方向交叉的第二方向上延伸并具有平行于所述第二方向的中心线;以及第二金属层,所述第二金属层位于所述第一金属层上。所述第二金属层可以包括设置在所述第一逻辑单元和所述第二逻辑单元中的每一者上的第一上互连线和第二上互连线。所述第一上互连线可以沿着第一互连轨道在第一方向上延伸。所述第二上互连线可以沿着第二互连轨道在所述第一方向上延伸。
  • 半导体器件及其制造方法
  • [发明专利]集成电路以及集成电路的设计方法-CN202210149873.3在审
  • 柳志秀;都桢湖;徐在禹;俞炫圭;郑珉在 - 三星电子株式会社
  • 2022-02-18 - 2022-09-06 - H01L27/02
  • 发明构思涉及一种集成电路以及集成电路的设计方法。该集成电路包括连续布置在具有第一高度的行和具有不同于第一高度的第二高度的行上的第一标准单元。集成电路还包括连续布置在具有第一高度的行和具有第二高度的行上的第二标准单元、形成在所述多行的边界上并被配置为向标准单元供给第一电源电压的多条第一电源线、以及形成在所述多行的边界上并被配置为向标准单元供给第二电源电压的多条第二电源线。向第一标准单元供给电压的电源线的布置顺序不同于向第二标准单元供给电压的电源线的布置顺序。
  • 集成电路以及设计方法
  • [发明专利]集成电路-CN202210136514.4在审
  • 柳志秀;徐在禹;俞炫圭;郑珉在 - 三星电子株式会社
  • 2022-02-15 - 2022-08-30 - H01L27/02
  • 一种集成电路(IC)包括:多个栅电极,在第一方向上延伸并在与第一方向正交的第二方向上排列;多个第一电源线,在第一方向上延伸以向标准单元供电,并分别被布置为与栅电极的第一侧相邻;以及多个信号线,在第一方向上延伸以传输标准单元的输入信号或输出信号,并分别被布置为与栅电极的第二侧相邻。
  • 集成电路
  • [发明专利]半导体器件-CN202110369109.2在审
  • 俞炫圭;柳志秀;徐在禹;林承万 - 三星电子株式会社
  • 2021-04-06 - 2022-01-14 - H01L27/088
  • 公开了包括位于衬底上的第一逻辑单元和第二逻辑单元的半导体器件。所述第一逻辑单元和所述第二逻辑单元均包括:第一有源区和第二有源区,所述第一有源区和所述第二有源区在第一方向上彼此相邻;栅电极,所述栅电极横跨所述第一有源区和所述第二有源区,并且在所述第一方向上纵长地延伸;以及第一金属层,所述第一金属层位于所述栅电极上。所述第一金属层包括在垂直于所述第一方向的第二方向上纵长地延伸并且彼此平行的第一电力线和第二电力线。所述第一逻辑单元和所述第二逻辑单元沿着所述第一电力线和所述第二电力线在所述第二方向上彼此相邻。所述第一有源区和所述第二有源区在所述第二方向上从所述第一逻辑单元纵长地延伸到所述第二逻辑单元。
  • 半导体器件
  • [发明专利]包括标准单元的集成电路-CN202110356220.8在审
  • 柳志秀;徐在禹;白尚训;俞炫圭 - 三星电子株式会社
  • 2021-04-01 - 2021-10-12 - H01L27/02
  • 提供了一种包括多个标准单元的集成电路。该集成电路包括:第一标准单元组,包括至少两个第一标准单元;第二标准单元组,在第一方向上与第一标准单元组相邻,第二标准单元组包括至少一个第二标准单元;以及第一绝缘栅极,与第一标准单元中的至少一个的一侧和所述至少一个第二标准单元的一侧邻接,其中第一标准单元和第二标准单元中的每个包括集成的p型晶体管(pFET)和n型晶体管(nFET),其中第一标准单元和第二标准单元中的每个具有不同设计的第一布设线,以及其中第一标准单元和第二标准单元中的每个根据对应的设计而具有有源区的相同或不同的布局。
  • 包括标准单元集成电路
  • [发明专利]半导体装置-CN202110208949.0在审
  • 俞炫圭;柳志秀;朴在浩 - 三星电子株式会社
  • 2021-02-24 - 2021-10-01 - H01L27/02
  • 提供一种半导体装置。所述半导体装置包括在第一方向上彼此相邻的第一单元区域和填充区域。所述半导体装置包括:有源图案,在所述第一单元区域内部在所述第一方向上延伸;栅电极,在所述有源图案上在与所述第一方向相交的第二方向上延伸;栅极接触,电连接到所述栅电极的上表面;源极/漏极接触,电连接到所述有源图案的源极/漏极区,所述源极/漏极接触与所述栅电极的一侧相邻;连接线路,在所述第一单元区域和所述填充区域上方在所述第一方向上延伸,并且电连接到所述栅极接触或所述源极/漏极接触中的一者;和填充线路,位于所述填充区域内部。还提供一种相关的布图设计方法以及制造方法。
  • 半导体装置

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