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[发明专利]液体处理装置-CN201810132808.3有效
发明人：胁山辉史;伊藤规宏 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2018-02-09 - 公布日： 2023-06-13 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供抑制液体附着于基板的下表面的液体处理装置。实施方式的液体处理装置具备基板保持部、驱动部、轴部及喷嘴。基板保持部水平地保持基板。驱动部在利用基板保持部保持着基板的状态下使基板和基板保持部旋转。轴部包含保持于基板保持部的基板的旋转轴线，其沿旋转轴线的轴向延伸设置，且设置于比基板靠下方的位置。喷嘴朝向基板的下表面喷出液体。另外，喷嘴具备：基部，其安装于轴部的上端；及液体供给部，其从基部向基板的径向外侧延伸设置，并形成朝向基板喷出液体的喷出口。另外，轴部和基部具备排出路径，该排出路径沿轴向形成，排出朝向基板的下表面喷出来的液体。另外，基部具备以液体朝向排出路径流动的方式朝向下方凹陷的凹部。
液体处理装置

[发明专利]基板处理装置-CN201711066321.1有效
发明人：胁山辉史;伊藤规宏 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-11-02 - 公布日： 2023-02-28 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种能够防止在使基板和液体供给部上升时基板的背面被污染的基板处理装置。在升降销(22)和液体供给管(40)从与保持板(30)邻接的邻接位置向分离位置转移时，在第一上推构件(61)与升降销(22)连结的状态下第一上推构件(61)上升到预先设定的位置的期间，升降机构(60)只使升降销(22)上升。在第一上推构件(61)从预先设定的位置向分离位置上升的期间，升降机构(60)使升降销(22)和液体供给管(40)上升。
处理装置

[发明专利]基片清洗装置、基片清洗方法和计算机可读取的存储介质-CN202111149320.X在审
发明人：伊藤优树;伊藤规宏 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-09-29 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明说明能够简易且高效地除去附着于支承基片的支承部及其周边部件的异物的基片清洗装置、基片清洗方法和计算机可读取的存储介质。基片清洗装置包括：支承部，其构成为能够与基片的背面抵接来支承基片；环状部件，其以包围由支承部支承的基片的周围的方式配置，并包含沿环状部件的径向相对于水平方向倾斜的倾斜面；旋转部，其构成为能够使支承部和环状部件旋转；第1供给部，其构成为能够向由支承部支承的基片的背面供给清洗液；以及第2供给部，其构成为能够向倾斜面供给清洗液。
清洗装置方法计算机读取存储介质

[发明专利]基板处理装置、基板处理方法以及存储介质-CN201680044518.2有效
发明人： 伊藤规宏;东岛治郎;绪方信博;大塚贵久;道木裕一;桥本佑介;相浦一博;后藤大辅 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2016-07-28 - 公布日： 2022-02-18 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：基板处理装置具备：固定杯体(51)，其包围基板保持部(31)并接受被供给到基板的处理液或处理液的雾，且相对于处理容器相对地不动；雾防护件(80)；以及防护件升降机构(84)，其使雾防护件升降。雾防护件以包围固定杯体的方式设置于固定杯体的外侧，对越过固定杯体的上方而向外方飞散的液进行阻断。雾防护件具有：筒状的筒部(81)；以及伸出部(82)，其从筒部的上端朝且向固定杯体的侧伸出。
处理装置方法以及存储介质

[发明专利]液处理装置-CN201711237047.X有效
发明人：胁山辉史;伊藤规宏;东岛治郎 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2014-09-12 - 公布日： 2021-11-09 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种能够将杯体的周围的气氛维持为清洁的状态的液处理装置。液处理装置(16)用于对旋转的基板(W)供给处理液来进行液处理，包围构件(20、23、24)在比上述杯体(50)靠外侧的位置将包括包围旋转的基板(W)并在上方设有开口的杯体(50)的上方空间在内的区域包围。气流形成部(21)从杯体(50)的上侧起形成下降气流，板部(28)沿着周向堵塞杯体(50)和包围构件(20、23、24)之间的间隙。在比杯体(50)靠外侧的位置设有排气口(241、231)，用于对比位于板部(28)上方的被包围构件(20、23、24)和板部(28)包围的区域进行排气。
处理装置

[发明专利]基板处理装置、基板处理装置的清洗方法和存储介质-CN201710471653.1有效
发明人：绪方信博;伊藤规宏;东岛治郎;桥本佑介;相浦一博 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-06-20 - 公布日： 2021-10-22 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理装置、基板处理装置的清洗方法和存储介质。其中，对液体承接杯的杯体的突出部均匀地进行清洗。使第1杯体(51)和第2杯体(52)中任一者升降而使两者设为接近的状态。此时，在第1突出部(5102)的下表面形成的间隙形成部(5106)与第2突出部(5202)的上表面之间的第1间隙(G1)比第1突出部的没有间隙形成部的部分与第2突出部的上表面之间的第2间隙(G2)小。在该状态下，向第2间隙供给清洗液。欲沿着半径方向朝外流动的清洗液的运动被较窄的第1间隙限制，因此，第1突出部与第2突出部之间的空间的整个区域能够由清洗液充满，能够对清洗对象面均匀地进行清洗。
处理装置清洗方法存储介质

[发明专利]基板处理系统-CN201510809733.4有效
发明人：胁山辉史;伊藤规宏;东岛治郎;枇杷聪 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2015-11-20 - 公布日： 2019-11-01 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本发明提供一种抑制被供给到基板上之后的处理液附着于干燥后的基板而防止污损基板的基板处理系统。基板处理系统用于处理基板，其包括：保持板，其以绕铅垂轴线旋转自如的方式设置；基板保持构件，其设于保持板，用于保持基板；旋转驱动部，其用于使由基板保持构件保持的基板向预先确定的方向旋转；以及处理流体供给部，其用于向由基板保持构件保持的基板供给处理液，基板保持构件具有设于与基板相对的位置的第1侧面部以及与第1侧面部相邻的第2侧面部和第3侧面部，第1侧面部具有用于把持基板的端面的把持部，在第2侧面部与第1侧面部之间形成有尖端部，第2侧面部具有用于将供给到基板上之后的处理液向基板的下方引导的液流引导部。
处理系统

[发明专利]液处理装置-CN201410466264.6有效
发明人：胁山辉史;伊藤规宏;东岛治郎 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2014-09-12 - 公布日： 2018-09-18 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种能够将杯体的周围的气氛维持为清洁的状态的液处理装置。液处理装置(16)用于对旋转的基板(W)供给处理液来进行液处理，包围构件(20、23、24)在比上述杯体(50)靠外侧的位置将包括包围旋转的基板(W)并在上方设有开口的杯体(50)的上方空间在内的区域包围。气流形成部(21)从杯体(50)的上侧起形成下降气流，板部(28)沿着周向堵塞杯体(50)和包围构件(20、23、24)之间的间隙。在比杯体(50)靠外侧的位置设有排气口(241、231)，用于对比位于板部(28)上方的被包围构件(20、23、24)和板部(28)包围的区域进行排气。
杯体液处理装置包围构件板部基板包围气流形成部区域包围上方空间下降气流处理液堵塞杯排气口液处理排气开口清洁

[发明专利]液处理装置和液处理方法-CN201711481918.2在审
发明人：竹口博史;脇山辉史;伊藤规宏 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-12-29 - 公布日： 2018-07-10 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种能够以简单的结构在基板的中心位置和外周位置实现与位置相应的液处理的液处理装置和液处理方法。液处理装置具备：保持机构，其保持基板；旋转机构，其使被保持机构保持的基板旋转；喷嘴，其配置为与基板的面相向；以及第一供给路和第二供给路，该第一供给路和第二供给路连接于喷嘴。喷嘴具有：共通流路，其沿从基板的中心部朝向周缘部的径向延伸；以及多个喷出口，该多个喷出口连接于共通流路，沿径向配置。第一供给路连接于共通流路中的基板周缘部侧，将第一液供给到共通流路。第二供给路连接于共通流路中的基板中心部侧，将第二液供给到共通流路。第一供给路与第二供给路经由共通流路相连通。
共通流路供给路基板液处理装置喷嘴液处理喷出口基板中心部基板周缘部基板旋转径向配置径向延伸外周位置旋转机构中心部周缘部配置

[实用新型]基板处理装置和喷嘴-CN201720915109.7有效
发明人：福岛刚史;相浦一博;伊藤规宏 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-07-26 - 公布日： 2018-03-13 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型提供一种基板处理装置和喷嘴，能够在停止了处理液的喷出之后确认喷嘴内的液面位置。实施方式的基板处理装置具备基板保持部和喷嘴。基板保持部保持基板。喷嘴向基板供给处理液。另外，喷嘴具备配管部和观察窗。配管部具有水平部分和从水平部分下垂的下垂部分，从下垂部分的顶端喷出处理液。观察窗设于配管部的水平部分。
处理装置喷嘴

[发明专利]基板处理装置和喷嘴-CN201710620301.8在审
发明人：福岛刚史;相浦一博;伊藤规宏 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-07-26 - 公布日： 2018-02-02 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理装置和喷嘴，能够在停止了处理液的喷出之后确认喷嘴内的液面位置。实施方式的基板处理装置具备基板保持部和喷嘴。基板保持部保持基板。喷嘴向基板供给处理液。另外，喷嘴具备配管部和观察窗。配管部具有水平部分和从水平部分下垂的下垂部分，从下垂部分的顶端喷出处理液。观察窗设于配管部的水平部分。
处理装置喷嘴

[发明专利]基板处理装置和基板处理方法-CN201310230866.7有效
发明人：河野央;伊藤规宏;八谷洋介;野上淳;大石幸太郎;菅野至 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2013-06-09 - 公布日： 2017-04-12 - 主分类号： H01L21/306 文献下载
摘要：本发明提供基板处理装置和基板处理方法。在不对基板的基底层造成损伤的情况下良好地将去除对象层去除。在本发明中，基板处理装置（1）用于向在基底层的表面上形成有去除对象层的基板（3）供给硫酸与过氧化氢水的混合液而将去除对象层去除，包括基板处理室（16），用于处理基板；基板保持部件（12），设于基板处理室内，用于保持基板；混合液供给部件（13），用于以不会对基底层造成损伤的温度和过氧化氢水的混合比向由基板保持部件保持着的基板供给硫酸与过氧化氢水的混合液；OH基供给部件（14），用于向基板供给含有OH基的流体，OH基供给部件供给含有在混合液与OH基在基板上混合时不会对基底层造成损伤的量的OH基的流体。
处理装置方法

[发明专利]基板处理装置和基板处理方法-CN201310145382.2无效
发明人：八谷洋介;伊藤规宏;河野央;野中纯;野上淳 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2013-04-24 - 公布日： 2013-10-30 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供基板处理装置和基板处理方法，在SPM处理中兼顾抗蚀剂膜的去除效率的提高和膜损耗的降低。基板处理方法包括以下工序：通过将加热后的硫酸和过氧化氢水混合而生成充分含有具有抗蚀剂膜剥离效果的卡罗酸的第1温度的SPM液；在生成上述第1温度的SPM液的工序之后，将上述SPM液冷却到具有膜损耗降低效果的第2温度；以及通过使上述第2温度的SPM液接触抗蚀剂膜而去除抗蚀剂膜。
处理装置方法

[发明专利]基板液体处理装置以及基板液体处理方法-CN201010513671.X有效
发明人：田中裕司;南辉臣;川渕洋介;伊藤规宏;上村史洋;薮田贵士;小佐井一树;乌野崇;关口贤治;藤井康 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2010-10-15 - 公布日： 2011-05-04 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供一种基板液体处理装置以及基板液体处理方法。防止由于基板带有的电荷放电而产生静电击穿。在本发明中，在用于对基板(2)实施液体处理的基板液体处理装置(1)、基板液体处理方法以及记录有基板液体处理程序的计算机可读取的记录介质(48)中，在利用基板处理药液对基板(2)的电路形成面进行液体处理的液体处理工序之前，进行除电处理工序，在该除电处理工序中，利用除电处理液对基板(2)的电路形成面的相反面进行处理，由此使基板(2)带有的电荷释放出来。
液体处理装置以及方法

[发明专利]液体处理装置和液体处理方法-CN201010243590.2有效
发明人： 伊藤规宏 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2010-07-30 - 公布日： 2011-03-23 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供液体处理装置和液体处理方法。液体处理装置(10)包括：液体供给机构(15)；供给管线(30)，其与液体供给装置相连接、且具有用于喷出被调节了温度的液体的喷出开口(30a)；处理单元(50)，其用于支承供给管线的喷出开口；回流管线(35)，其使被供给到供给管线中的液体返回到液体供给机构中；液体供给切换阀(38a)，其切换下述动作，即、供给用于在处理单元中处理被处理体的液体的动作以及停止供给该液体的动作。液体供给切换阀(38a)设置在供给管线(30)上，且位于自供给管线(30)经由回流管线(35)返回到液体供给机构(15)中的液体的路径上。
液体处理装置方法

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