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[发明专利]基片处理装置和基片处理方法-CN201880053792.5有效
发明人：饭野正;甲斐义广;德永容一;绪方信博;东岛治郎 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2018-08-17 - 公布日： 2023-06-06 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：实施方式的基片处理装置包括处理单元(16)、控制部(18)和测量部(102)。处理单元包括：能够保持基片并使其旋转的保持部(31)；释放处理液的喷嘴(41)；和对喷嘴供给处理液的导电性的配管部(44)。控制部对处理单元执行通过从喷嘴对由保持部保持并旋转的基片供给处理液来处理基片的液处理。测量部测量因处理液在配管部中流动而产生的流动电流。此外，控制部基于测量部的测量结果来监视液处理。
处理装置方法

[发明专利]基板处理装置和处理液供给方法-CN201710864350.6有效
发明人： 东岛治郎;绪方信博;桥本佑介 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-09-22 - 公布日： 2023-05-23 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：提供一种基板处理装置和处理液供给方法。能够更准确地进行利用期望的温度的SPM液的处理。该基板处理装置具备：处理液供给机构(70)，其向基板供给SPM液；温度调整部(加热器)(303)，其用于对从处理液供给机构(70)向基板供给时的SPM液的温度进行调整；获取部(温度传感器)(80)，其用于获取基板的表面上的SPM液的温度信息；以及控制部(18)，其根据由获取部(温度传感器)(80)获取到的SPM液的温度信息来设定温度调整部(加热器)(303)中的调整量，其中，温度调整部(加热器)(303)基于由控制部(18)设定的调整量来对向基板供给时的SPM液的温度进行调整。
处理装置供给方法

[发明专利]基板处理装置和防雾件的清洗方法-CN202210728783.X在审
发明人：桥本佑介;后藤大辅;森宽太;东岛治郎;绪方信博 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2022-06-24 - 公布日： 2023-01-03 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本公开提供一种基板处理装置和防雾件的清洗方法。基板处理装置具备：保持部，其保持基板；驱动部，其驱动保持部以使保持部旋转；内侧杯体，其以从保持于保持部的基板的外侧包围基板的方式设置于保持部；防雾件，其以使保持部和内侧杯体位于该防雾件的内部的方式从保持部和内侧杯体的外侧包围保持部和内侧杯体，并且构成为能够进行升降；清洗液供给部，其供给清洗液；以及控制部。控制部构成为执行以下处理：第一处理，在基板保持于保持部且防雾件上升了的状态下，从处理液供给部向基板供给处理液；以及第二处理，在第一处理之后，在从保持部搬出基板且防雾件上升了的状态下，使从清洗液供给部供给的清洗液飞散到防雾件的整个内周面。
处理装置防雾件清洗方法

[实用新型]基板处理装置-CN202220277460.9有效
发明人：桥本佑介;东岛治郎;绪方信博;后藤大辅;二俣雄亮;中泽贵士 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2022-02-11 - 公布日： 2022-11-08 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本公开涉及基板处理装置，能够提高蚀刻处理的面内均匀性。基板处理装置具有支承部、基座构件、旋转部、气体供给部、以及气体整流部。气体整流部包含：棒状构件，其包含与基板的下表面相对的顶端部；整流构件，其配置为包围顶端部。顶端部包含以自顶端部的外周面向外侧突出后朝向下方延伸的方式设于外周面的折回部。整流构件包含：底壁部，其配置为内周缘与顶端部的外周面分离开；突出部，其以顶端部位于折回部和顶端部的外周面之间的方式自底壁部的内周部朝向上方延伸；水平整流部，其以与底壁部分离开的状态沿水平方向延伸；以及多个柱部，其连接水平整流部和底壁部。
处理装置

[发明专利]基板处理装置、基板处理方法和计算机可读取的存储介质-CN202210127703.5在审
发明人：桥本佑介;东岛治郎;绪方信博;后藤大辅;二俣雄亮;中泽贵士 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2022-02-11 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本公开涉及基板处理装置、基板处理方法和计算机可读取的存储介质，能够提高蚀刻处理的面内均匀性。基板处理装置具有支承部、基座构件、旋转部、气体供给部、以及气体整流部。气体整流部包含：棒状构件，其包含与基板的下表面相对的顶端部；整流构件，其配置为包围顶端部。顶端部包含以自顶端部的外周面向外侧突出后朝向下方延伸的方式设于外周面的折回部。整流构件包含：底壁部，其配置为内周缘与顶端部的外周面分离开；突出部，其以顶端部位于折回部和顶端部的外周面之间的方式自底壁部的内周部朝向上方延伸；水平整流部，其以与底壁部分离开的状态沿水平方向延伸；以及多个柱部，其连接水平整流部和底壁部。
处理装置方法计算机读取存储介质

[发明专利]基板处理装置和基板处理方法-CN201780009904.2有效
发明人：高木康弘;梅野慎一;永井高志;守田寿;绪方信博;高松祐助;东岛治郎 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-01-20 - 公布日： 2022-08-16 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：实施方式所涉及的基板处理装置具备贮存容器、基板处理部、回收路径、废弃路径、供给路径、切换部和切换控制部。回收路径使供给到基板处理部的混合液返回到贮存容器。废弃路径将所供给的混合液废弃到贮存容器以外的场所。切换部使所供给的混合液的流入目的地在回收路径与废弃路径之间切换。切换控制部对切换部进行控制，使得在从基板处理部开始供给混合液起到第一时间经过的期间，使所供给的混合液向废弃路径流入，在第一时间经过后且到基于预先决定的回收率决定的第二时间经过为止的期间，使所供给的混合液向回收路径流入，在从第二时间经过起到混合液的供给结束为止的期间，使所供给的混合液向废弃路径流入。
处理装置方法

[发明专利]基板处理装置和基板处理装置的清洗方法-CN202111390584.4在审
发明人： 东岛治郎;绪方信博;桥本佑介 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-01-12 - 公布日： 2022-03-29 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种能够将附着到杯状件的周壁部的异物去除的基板处理装置和基板处理装置的清洗方法。实施方式的一技术方案的基板处理装置包括保持部、处理液供给部、第1杯状件、第2杯状件以及清洗液供给部。保持部用于保持基板。处理液供给部用于向基板供给第1处理液和第2处理液。第1杯状件具有周壁部，用于将第1处理液回收于由周壁部形成的回收部中。第2杯状件与第1杯状件相邻地配置，用于对第2处理液进行回收。清洗液供给部用于将清洗液向第1杯状件的回收部供给。在基板处理装置中，通过使由清洗液供给部供给来的清洗液从周壁部向第2杯状件侧溢流，来对周壁部进行清洗。
处理装置清洗方法

[发明专利]基板处理装置和基板处理装置的清洗方法-CN201710022808.3有效
发明人： 东岛治郎;绪方信博;桥本佑介 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-01-12 - 公布日： 2022-03-04 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种能够将附着到杯状件的周壁部的异物去除的基板处理装置和基板处理装置的清洗方法。实施方式的一技术方案的基板处理装置包括保持部、处理液供给部、第1杯状件、第2杯状件以及清洗液供给部。保持部用于保持基板。处理液供给部用于向基板供给第1处理液和第2处理液。第1杯状件具有周壁部，用于将第1处理液回收于由周壁部形成的回收部中。第2杯状件与第1杯状件相邻地配置，用于对第2处理液进行回收。清洗液供给部用于将清洗液向第1杯状件的回收部供给。在基板处理装置中，通过使由清洗液供给部供给来的清洗液从周壁部向第2杯状件侧溢流，来对周壁部进行清洗。
处理装置清洗方法

[发明专利]基板处理装置、基板处理方法以及存储介质-CN201680044518.2有效
发明人：伊藤规宏;东岛治郎;绪方信博;大塚贵久;道木裕一;桥本佑介;相浦一博;后藤大辅 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2016-07-28 - 公布日： 2022-02-18 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：基板处理装置具备：固定杯体(51)，其包围基板保持部(31)并接受被供给到基板的处理液或处理液的雾，且相对于处理容器相对地不动；雾防护件(80)；以及防护件升降机构(84)，其使雾防护件升降。雾防护件以包围固定杯体的方式设置于固定杯体的外侧，对越过固定杯体的上方而向外方飞散的液进行阻断。雾防护件具有：筒状的筒部(81)；以及伸出部(82)，其从筒部的上端朝且向固定杯体的侧伸出。
处理装置方法以及存储介质

[发明专利]液处理装置-CN201711237047.X有效
发明人：胁山辉史;伊藤规宏;东岛治郎 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2014-09-12 - 公布日： 2021-11-09 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种能够将杯体的周围的气氛维持为清洁的状态的液处理装置。液处理装置(16)用于对旋转的基板(W)供给处理液来进行液处理，包围构件(20、23、24)在比上述杯体(50)靠外侧的位置将包括包围旋转的基板(W)并在上方设有开口的杯体(50)的上方空间在内的区域包围。气流形成部(21)从杯体(50)的上侧起形成下降气流，板部(28)沿着周向堵塞杯体(50)和包围构件(20、23、24)之间的间隙。在比杯体(50)靠外侧的位置设有排气口(241、231)，用于对比位于板部(28)上方的被包围构件(20、23、24)和板部(28)包围的区域进行排气。
处理装置

[发明专利]基片处理装置和基片处理方法-CN202110394355.3在审
发明人：桥本佑介;东岛治郎 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-04-13 - 公布日： 2021-10-22 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种基片处理装置和基片处理方法，能够防止向基片无意地排出处理液。基片处理装置的喷嘴单元包括配管和喷嘴。喷嘴单元包括电压施加用导电部、电压检测部、电压施加用导电部与电压检测部之间的非导电部。从电压施加部对电压施加用导电部施加电压，通过电压检测器检测电压检测部的电压，来求取喷嘴单元内的处理液的位置。
处理装置方法

[发明专利]基板处理装置、基板处理装置的清洗方法和存储介质-CN201710471653.1有效
发明人：绪方信博;伊藤规宏;东岛治郎;桥本佑介;相浦一博 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-06-20 - 公布日： 2021-10-22 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理装置、基板处理装置的清洗方法和存储介质。其中，对液体承接杯的杯体的突出部均匀地进行清洗。使第1杯体(51)和第2杯体(52)中任一者升降而使两者设为接近的状态。此时，在第1突出部(5102)的下表面形成的间隙形成部(5106)与第2突出部(5202)的上表面之间的第1间隙(G1)比第1突出部的没有间隙形成部的部分与第2突出部的上表面之间的第2间隙(G2)小。在该状态下，向第2间隙供给清洗液。欲沿着半径方向朝外流动的清洗液的运动被较窄的第1间隙限制，因此，第1突出部与第2突出部之间的空间的整个区域能够由清洗液充满，能够对清洗对象面均匀地进行清洗。
处理装置清洗方法存储介质

[实用新型]基板处理装置-CN202021556830.X有效
发明人：桥本佑介;东岛治郎 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-07-31 - 公布日： 2021-04-02 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型提供一种基板处理装置。针对从喷嘴单元喷出的处理液具有充分的耐蚀性，且可靠地防止所喷出的处理液的带电。基板处理装置具有喷嘴单元。喷嘴单元具备配管和设置到配管的顶端的喷头，配管具有第1层、第2层以及第3层。喷头由具有导电性的耐蚀性树脂形成。第3层从外方覆盖第1层和第2层，并且从外方覆盖喷头的一部分。
处理装置

[发明专利]基板处理装置-CN201610596540.X有效
发明人： 东岛治郎;绪方信博 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2016-07-26 - 公布日： 2021-03-05 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供一种能够与处理所需的喷出形态相应地不产生喷出不良地喷出处理流体的基板处理装置。实施方式的基板处理装置具有喷嘴和配管。喷嘴朝向基板喷出处理流体。配管向喷嘴供给处理流体。另外，配管具有从内侧依次呈第1层、第2层以及第3层的3层构造，喷嘴与第1层的顶端以及第3层的顶端接合，第1层的顶端位于比第2层的顶端不向处理流体的喷出方向突出的位置。
处理装置

[发明专利]基板处理装置及其制造方法-CN202010756171.2在审
发明人：桥本佑介;东岛治郎 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-07-31 - 公布日： 2021-02-09 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理装置及其制造方法。针对从喷嘴单元喷出的处理液具有充分的耐蚀性，且可靠地防止所喷出的处理液的带电。基板处理装置具有喷嘴单元。喷嘴单元具备配管和设置到配管的顶端的喷头，配管具有第1层、第2层以及第3层。喷头由具有导电性的耐蚀性树脂形成。第3层从外方覆盖第1层和第2层，并且从外方覆盖喷头的一部分。
处理装置及其制造方法

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