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[发明专利]液体处理装置-CN201810132808.3有效
发明人： 胁山辉史;伊藤规宏 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2018-02-09 - 公布日： 2023-06-13 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供抑制液体附着于基板的下表面的液体处理装置。实施方式的液体处理装置具备基板保持部、驱动部、轴部及喷嘴。基板保持部水平地保持基板。驱动部在利用基板保持部保持着基板的状态下使基板和基板保持部旋转。轴部包含保持于基板保持部的基板的旋转轴线，其沿旋转轴线的轴向延伸设置，且设置于比基板靠下方的位置。喷嘴朝向基板的下表面喷出液体。另外，喷嘴具备：基部，其安装于轴部的上端；及液体供给部，其从基部向基板的径向外侧延伸设置，并形成朝向基板喷出液体的喷出口。另外，轴部和基部具备排出路径，该排出路径沿轴向形成，排出朝向基板的下表面喷出来的液体。另外，基部具备以液体朝向排出路径流动的方式朝向下方凹陷的凹部。
液体处理装置

[发明专利]基板处理装置-CN201711066321.1有效
发明人： 胁山辉史;伊藤规宏 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-11-02 - 公布日： 2023-02-28 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种能够防止在使基板和液体供给部上升时基板的背面被污染的基板处理装置。在升降销(22)和液体供给管(40)从与保持板(30)邻接的邻接位置向分离位置转移时，在第一上推构件(61)与升降销(22)连结的状态下第一上推构件(61)上升到预先设定的位置的期间，升降机构(60)只使升降销(22)上升。在第一上推构件(61)从预先设定的位置向分离位置上升的期间，升降机构(60)使升降销(22)和液体供给管(40)上升。
处理装置

[发明专利]液处理装置-CN201711237047.X有效
发明人： 胁山辉史;伊藤规宏;东岛治郎 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2014-09-12 - 公布日： 2021-11-09 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种能够将杯体的周围的气氛维持为清洁的状态的液处理装置。液处理装置(16)用于对旋转的基板(W)供给处理液来进行液处理，包围构件(20、23、24)在比上述杯体(50)靠外侧的位置将包括包围旋转的基板(W)并在上方设有开口的杯体(50)的上方空间在内的区域包围。气流形成部(21)从杯体(50)的上侧起形成下降气流，板部(28)沿着周向堵塞杯体(50)和包围构件(20、23、24)之间的间隙。在比杯体(50)靠外侧的位置设有排气口(241、231)，用于对比位于板部(28)上方的被包围构件(20、23、24)和板部(28)包围的区域进行排气。
处理装置

[发明专利]基片液处理装置和液体释放评价方法-CN202110182809.0在审
发明人： 胁山辉史;道木裕一;田中明贤;田代稔;北山玲王;山本周 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-02-10 - 公布日： 2021-08-20 - 主分类号： B05C5/02 文献下载
摘要：本发明提供一种基片液处理装置和液体释放评价方法。控制部控制液体供给部，使第一液体释放喷嘴移动并从第一液体释放喷嘴向基片的表面释放液体，使基片的表面上的液体的着落位置持续地变化。并且，控制部通过比较第一温度信息和第二温度信息，来导出液体供给部的释放位置偏移信息，其中第一温度信息使基于在使第一液体释放喷嘴沿第一喷嘴路径移动的情况下由温度测量部测量出的点温度的信息，第二温度信息是基于在使第一液体释放喷嘴沿与第一喷嘴路径不同的第二喷嘴路径移动的情况下由温度测量部测量出的点温度的信息。根据本发明，能够获得关于在对基片供给液体的液体供给部可能产生的释放位置偏移的信息。
基片液处理装置液体释放评价方法

[发明专利]基板处理系统-CN201510809733.4有效
发明人： 胁山辉史;伊藤规宏;东岛治郎;枇杷聪 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2015-11-20 - 公布日： 2019-11-01 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本发明提供一种抑制被供给到基板上之后的处理液附着于干燥后的基板而防止污损基板的基板处理系统。基板处理系统用于处理基板，其包括：保持板，其以绕铅垂轴线旋转自如的方式设置；基板保持构件，其设于保持板，用于保持基板；旋转驱动部，其用于使由基板保持构件保持的基板向预先确定的方向旋转；以及处理流体供给部，其用于向由基板保持构件保持的基板供给处理液，基板保持构件具有设于与基板相对的位置的第1侧面部以及与第1侧面部相邻的第2侧面部和第3侧面部，第1侧面部具有用于把持基板的端面的把持部，在第2侧面部与第1侧面部之间形成有尖端部，第2侧面部具有用于将供给到基板上之后的处理液向基板的下方引导的液流引导部。
处理系统

[发明专利]液处理装置-CN201410466264.6有效
发明人： 胁山辉史;伊藤规宏;东岛治郎 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2014-09-12 - 公布日： 2018-09-18 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种能够将杯体的周围的气氛维持为清洁的状态的液处理装置。液处理装置(16)用于对旋转的基板(W)供给处理液来进行液处理，包围构件(20、23、24)在比上述杯体(50)靠外侧的位置将包括包围旋转的基板(W)并在上方设有开口的杯体(50)的上方空间在内的区域包围。气流形成部(21)从杯体(50)的上侧起形成下降气流，板部(28)沿着周向堵塞杯体(50)和包围构件(20、23、24)之间的间隙。在比杯体(50)靠外侧的位置设有排气口(241、231)，用于对比位于板部(28)上方的被包围构件(20、23、24)和板部(28)包围的区域进行排气。
杯体液处理装置包围构件板部基板包围气流形成部区域包围上方空间下降气流处理液堵塞杯排气口液处理排气开口清洁