“小佐井一树”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果13个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]基片处理方法和基片处理装置-CN202310155226.8在审
发明人：樱井宏纪;小佐井一树;筱原和义 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-02-22 - 公布日： 2023-05-23 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明提供能够抑制在基片表面的中心位置或其附近产生颗粒的基片处理方法和基片处理装置。基片处理方法具有下述(A)～(D)。(A)向旋转的基片表面的中心位置供给处理液。(B)使所述处理液的供给位置从所述中心位置移动至第一偏心位置。(C)使所述处理液的供给位置停止在所述第一偏心位置，向与所述第一偏心位置不同的第二偏心位置供给用于置换所述处理液的置换液。(D)使所述处理液的供给位置从所述第一偏心位置向与所述中心位置相反的方向移动，并且使所述置换液的供给位置从所述第二偏心位置向所述中心位置移动。
处理方法装置

[发明专利]基板液处理方法和基板液处理装置-CN201710543742.2有效
发明人： 小佐井一树;大塚贵久;篠原和義;铃木启之;八谷洋介;东博之 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-07-05 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种基板液处理方法和基板液处理装置。能够稳定地抑制水痕等微少微粒的产生。基板处理方法包括以下步骤：向旋转的基板供给处理液的步骤(S12、S13)；在供给处理液的步骤(S12、S13)之后，向旋转的基板的中心部供给冲洗液来在基板上形成冲洗液的液膜的步骤(S14)。具有在形成冲洗液的液膜的步骤(S14)之前、在处理液的液膜中断了的基板的周缘部形成处理液的液膜的步骤(S13)。
基板液处理方法装置

[发明专利]基片处理方法和基片处理装置-CN202180017221.8有效
发明人：樱井宏纪;小佐井一树;筱原和义 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-02-22 - 公布日： 2023-03-14 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：基片处理方法具有下述(A)～(D)。(A)向旋转的基片表面的中心位置供给处理液。(B)使所述处理液的供给位置从所述中心位置移动至第一偏心位置。(C)使所述处理液的供给位置停止在所述第一偏心位置，向与所述第一偏心位置不同的第二偏心位置供给用于置换所述处理液的置换液。(D)使所述处理液的供给位置从所述第一偏心位置向与所述中心位置相反的方向移动，并且使所述置换液的供给位置从所述第二偏心位置向所述中心位置移动。(E)以第一流量向所述第一偏心位置供给所述处理液，在使所述处理液的供给位置从所述第一偏心位置开始移动之后、并且到所述置换液的供给位置到达所述中心位置时为止的期间，将所述处理液的流量从所述第一流量减少至第二流量。
处理方法装置

[发明专利]液处理装置和液处理方法-CN202180045439.4在审
发明人： 小佐井一树;井上大诚;高松祐助;大塚贵久;天井胜;菅野至;矢野洋 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-06-22 - 公布日： 2023-03-07 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：实施方式所涉及的液处理装置具备贮存罐、第一循环线路以及第二循环线路。贮存罐贮存处理液。第一循环线路用于使从贮存罐送出的处理液通过第一过滤器后返回到贮存罐。第二循环线路与第一循环线路连接，第二循环线路用于使处理液通过第二过滤器后返回到贮存罐。第二循环线路的流路的长度比第一循环线路的流路的长度短。向第二循环线路流入的处理液的流量比向第一循环线路的比第一循环线路与第二循环线路的连接部位靠下游侧的位置流入的处理液的流量少。第二过滤器中的每单位时间的过滤量比第一过滤器中的每单位时间的过滤量少。
处理装置方法

[发明专利]基板处理装置和基板处理方法-CN202210717705.X在审
发明人： 小佐井一树;有动英明;藤本诚也;高永悠大;中庄谷孝仁;福井祥吾;穴本笃史;长田创 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2022-06-23 - 公布日： 2022-12-30 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法，能够抑制微粒的增加。基板处理装置具备罐、循环线路、分支线路、处理部、排出部、供给部及控制部。所述控制部具有第一判定部、第一补充控制部、计算部及第二补充控制部。所述第一判定部判定所述罐内的所述处理液的贮存量是否小于下限值。在所述第一判定部判定为所述贮存量小于所述下限值的情况下，所述第一补充控制部通过所述供给部向所述罐补充所述处理液。所述计算部计算每设定时间通过所述供给部向所述罐补充所述处理液的补充量。在由所述计算部计算的所述补充量的计算值小于设定值的情况下，所述第二补充控制部通过所述排出部使所述罐的所述贮存量减少，并通过所述供给部向所述罐补充所述处理液。
处理装置方法

[发明专利]基片液处理装置和基片液处理方法-CN202180032981.6在审
发明人：中岛干雄;小宫洋司;中森光则;北野淳一;南辉臣;大塚贵久;小佐井一树;尾嶋智明 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-04-30 - 公布日： 2022-12-23 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明提供有利于抑制颗粒混入到要提供给基片的处理液中的技术。基片液处理装置包括：供给容器，处理液经由引导管线被供给到供给容器的内侧；对供给容器的内侧加压的加压装置；喷出被供给来的处理液的喷出嘴；供给管线，其与供给容器和喷出嘴连接，没有设置对连接供给容器与喷出嘴的流路进行可变限制的调节机构；第一排液管线，其与供给管线中的供给容器与喷出嘴之间的第一分支部分连接；液流调节机构，其设置于第一排液管线，限制压力比设定压低的处理液通过；和调节设定压的控制部。
基片液处理装置方法

[发明专利]基板处理装置和基板处理方法-CN202180015032.7在审
发明人： 小佐井一树;篠原和义 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-02-15 - 公布日： 2022-09-30 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：基板处理装置具备保持部、液供给部、回收部、循环路、气体供给部以及控制部。所述保持部用于保持基板。所述液供给部用于对保持于所述保持部的所述基板的第一主表面供给处理液。所述回收部回收在所述基板的处理中使用过的已使用的所述处理液。所述循环路用于使由所述回收部回收到的所述处理液返回到所述液供给部。所述气体供给部对保持于所述保持部的所述基板的与所述第一主表面为相反方向的第二主表面供给气体。所述控制部控制所述液供给部和所述气体供给部。所述控制部在使得对所述第一主表面供给通过所述循环路返回到所述液供给部的预定的所述处理液时，使得对所述第二主表面供给所述气体。
处理装置方法

[发明专利]基板液处理装置、基板液处理方法和存储介质-CN201680068848.5有效
发明人： 小佐井一树;甲斐義广;五师源太郎;小宫洋司;藤本诚也;大塚贵久 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2016-11-17 - 公布日： 2022-06-10 - 主分类号： H01L21/306 文献下载
摘要：基板处理装置具备：基板保持部(31)，其保持基板(W)；外喷嘴(45)，其以使基板的表面的至少中心部被喷出的处理液的液膜覆盖的方式从比被基板保持部保持的基板的外周缘靠外侧的位置朝向基板的表面喷出处理液；以及致动器(46、90)，其能够变更外喷嘴的高度位置或俯仰角。
基板液处理装置方法存储介质

[发明专利]基片处理设备和处理液制备方法-CN202080046664.5在审
发明人：李水根;竹口博史;筱原和义;大塚贵久;小佐井一树 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-06-30 - 公布日： 2022-02-08 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明的基片处理设备包括：罐；循环管线，其供从罐出发并返回罐的处理液流动；供给调整部，其调整第一液、第二液和处理液中的至少任一者向罐的供给；排放管线，其供从罐或者循环管线排出的处理液流动；排放调整部，其处理液调整经由排放管线的排出；以及浓度传感器，其测量在浓度测量管线中流动的处理液的浓度。控制部基于浓度传感器的测量结果，控制排放调整部来调整处理液的排出，控制供给调整部来调整第一液、第二液和处理液中的至少任一者向罐的供给。
处理设备制备方法

[发明专利]液处理装置和液处理方法-CN202110666079.1在审
发明人： 小佐井一树;高松祐助;井上大诚 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-06-16 - 公布日： 2021-12-24 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供能够提高处理液的清洁度的液处理装置和液处理方法。本发明的实施方式的液处理装置包括储存罐、循环管线、供给管线、返回管线和至少一个过滤器。储存罐用于储存处理液。循环管线用于使从储存罐输送的处理液返回到储存罐。供给管线用于将循环管线和向基片供给处理液的供给部连接。返回管线与供给管线连接，用于使处理液从供给管线返回到储存罐。过滤器设置在供给管线的比返回管线与供给管线的连接部位靠上游侧的位置和返回管线中的至少一者，用于除去处理液中的异物。
处理装置方法

[发明专利]基板处理装置和基板处理方法-CN202011147776.8在审
发明人： 小佐井一树;篠原和义 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-10-23 - 公布日： 2021-05-11 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法。提供一种能够抑制在对基板处理部进行了清洗处理之后液处理的性能恶化的技术。本公开的一形态的基板处理装置具备基板处理部、排液部以及控制部。基板处理部从处理液供给部向所载置的基板供给处理液而进行液处理。排液部具有与积存处理液的积存部连接的回收路径，对液处理使用后的处理液进行排液。控制部执行液处理的处理制程以及清洗基板处理部和排液部的清洗制程。另外，作为清洗制程，控制部在执行了从清洗液供给部供给清洗液而清洗基板处理部和排液部的清洗动作之后，执行从处理液供给部供给处理液而将附着于基板处理部和排液部的清洗液置换成处理液的恢复动作。
处理装置方法

[实用新型]液体处理装置-CN201920567227.2有效
发明人：薮田贵士;小佐井一树;沟田昌吾 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-04-24 - 公布日： 2019-12-06 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型的目的在于提供一种液体处理装置，其包括：保持机构；旋转机构；药液供给机构；排液杯；排液配管，其设置在排液杯的底部，并将由排液杯挡住的处理后的药液排出；回收机构，其设置在排液配管，并将从排液杯排出的处理后的药液回收以供再次利用；切换机构，其设置在回收机构的分支部分附近，并在将处理后的药液经由排液配管废弃的废弃侧以及通过回收机构回收的回收侧之间进行切换；以及控制部，其与旋转机构、药液供给机构、以及切换机构连接，并控制旋转机构、药液供给机构、以及切换机构。
排液杯药液供给机构回收机构排液配管旋转机构排出废弃液体处理装置本实用新型机构连接控制旋转药液回收再次利用回收挡住

[发明专利]基板液体处理装置以及基板液体处理方法-CN201010513671.X有效
发明人：田中裕司;南辉臣;川渕洋介;伊藤规宏;上村史洋;薮田贵士;小佐井一树;乌野崇;关口贤治;藤井康 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2010-10-15 - 公布日： 2011-05-04 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供一种基板液体处理装置以及基板液体处理方法。防止由于基板带有的电荷放电而产生静电击穿。在本发明中，在用于对基板(2)实施液体处理的基板液体处理装置(1)、基板液体处理方法以及记录有基板液体处理程序的计算机可读取的记录介质(48)中，在利用基板处理药液对基板(2)的电路形成面进行液体处理的液体处理工序之前，进行除电处理工序，在该除电处理工序中，利用除电处理液对基板(2)的电路形成面的相反面进行处理，由此使基板(2)带有的电荷释放出来。
液体处理装置以及方法

1
共 13 条