专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种晶圆级光通信器件的快速封装设备-CN202320013243.3有效
  • 黄寓洋 - 苏州苏纳光电有限公司
  • 2023-01-04 - 2023-08-22 - H01L21/677
  • 本实用新型涉及封装设备技术领域,公开了一种晶圆级光通信器件的快速封装设备,包括箱体,所述箱体的内部两侧均转动连接有多个传动轮,多个所述传动轮的外侧壁套设有传动带,靠两侧的所述传动轮的两侧均转动连接有固定杆,多个所述固定杆远离传动轮的一端固定连接有底板,所述底板的上端面两端均固定设置有第二电机,两个所述第二电机的输出端均固定连接有转动杆,两个所述转动杆远离第二电机的一端均固定连接有风扇。本实用新型中,该用于一种晶圆级光通信器件的快速封装设备,其具有可以快速搅合封装材料的功能,同时其还具有可以自主滴胶封装的功能,同时其还具有散热的功能。
  • 一种晶圆级光通信器件快速封装设备
  • [发明专利]平面型边入射光电探测器及其制作方法-CN202310347449.4在审
  • 何婷婷;黄寓洋 - 江西省纳米技术研究院
  • 2023-04-03 - 2023-08-15 - H01L31/0352
  • 本发明揭示了一种平面型边入射光电探测器及其制作方法。所述平面型边入射光电探测器,包括衬底,其具有相背对的第一面和第二面;外延结构,其生长在所述衬底的第一面上;突出部,其形成在所述衬底的第二面上,所述突出部的至少一侧壁的表面为所述探测器的光敏面,并且所述光敏面与衬底的第一面形成大于0但小于90°的夹角,以使透过所述光敏面进入所述外延结构的入射光发生折射和/或反射后进入所述外延结构内的吸收层。本发明平面型边入射光电探测器,同时具备了垂直腔的特性和边入射探测器的优点,具有接近的内量子效率,同时具有波长选择特性,能够适应系统,也能够方便的进行光电混合集成。
  • 平面入射光电探测器及其制作方法
  • [发明专利]一种半导体芯片的无损解理方法-CN202111467885.2有效
  • 黄寓洋;范亚明 - 江西省纳米技术研究院
  • 2021-12-03 - 2023-06-02 - B28D5/00
  • 本发明公开了一种半导体芯片的无损解理方法,包括:提供一半导体芯片,定义第一解理线及第二解理线;根据第一解理线及第二解理线加工第一解理槽和第二解理槽;涂布纯光刻胶树脂形成第一上加强层和第一下加强层;再次切割,形成第三解理槽和第四解理槽;向第三解理槽和第四解理槽内涂布掺杂有增强纤维的光刻胶树脂,形成第二上加强层和第二下加强层;完成解理。本发明方法采用纯光刻胶树脂和掺杂有增强纤维的光刻胶树脂进行逐级填充形成两层加强层,能够有效的平衡半导体芯片在切割过程中受到的应力,从而显著降低芯片破裂的几率,不仅可以简化芯片解理工序,且能产生很好的经济效益,应用前景广阔。
  • 一种半导体芯片无损解理方法
  • [实用新型]用于实验室危废品库的排险和报警系统-CN202221623127.5有效
  • 李军;黄寓洋 - 苏州苏纳光电有限公司
  • 2022-06-27 - 2022-11-08 - G01N33/00
  • 本实用新型公开了一种用于实验室危废品库的排险和报警系统,包括:气体浓度监测单元用于监测储存空间内指定气体的浓度,气流循环单元用于将空气引入储存空间内以及将储存空间的指定气体排送至气体处理单元;气体处理单元至少用于对指定气体进行净化处理,并将净化处理的气体排出至大气中;控制单元用于接收气体浓度监测单元的反馈信息并以此控制气流循环单元和报警单元的工作状态。本实用新型实施例提供的一种用于实验室危废品库的排险和报警系统,不仅能够及时检测储存空间中指定气体的浓度,还能够及时处理并通知相关工作人员,提升处理效率,提高安全性。
  • 用于实验室废品排险报警系统
  • [发明专利]半导体晶圆的刻蚀方法及微纳光学器件-CN202210839467.X在审
  • 刘林韬;黄寓洋 - 苏州苏纳光电有限公司
  • 2022-07-15 - 2022-10-21 - H01L21/306
  • 本发明揭示了一种半导体晶圆的刻蚀方法及微纳光学器件。所述半导体晶圆的刻蚀方法,包括:在晶圆上形成具有原始光刻版图的光刻胶抗蚀层;对晶圆依次进行干法刻蚀和湿法腐蚀,得到具有陡直且光滑的微纳结构的半导体晶圆。本发明提供的半导体晶圆的刻蚀方法,采用干湿法混合刻蚀同一种材料,干法刻蚀提高结构陡直度,而在湿法刻蚀过程中,腐蚀液会不断对干法刻蚀的侧壁上的凸起进行修饰,以降低侧壁粗糙度,进而得到陡直且光滑的微纳结构。
  • 半导体刻蚀方法光学器件
  • [实用新型]晶圆预烘烤装置-CN202221765506.8有效
  • 颜志超;张建;黄寓洋 - 苏州苏纳光电有限公司
  • 2022-07-07 - 2022-10-21 - H01L21/67
  • 本实用新型公开了一种晶圆预烘烤装置,包括:烘烤箱体,烘烤箱体的内部设置用于烘烤晶圆片的容置腔室;放置单元,包括安装板、调节结构以及放置板,安装板设置在容置腔室内并与烘烤箱体活动连接,安装板上设置有调节结构,放置板通过调节结构与安装板连接,放置板用于承载晶圆片,调节结构用于调整放置板的水平度。本实用新型实施例提供的一种晶圆预烘烤装置,能够调整用于放置晶圆片的放置板的水平度,避免晶圆片上铺涂的光刻胶因摆放不平而流动,提升晶圆片上光刻胶的均匀度,从而进一步提升烘烤后晶圆片的质量,以便于后续工序的进行。
  • 晶圆预烘烤装置
  • [实用新型]吸盘式搬运装置-CN202221559719.5有效
  • 黄忠练;黄寓洋 - 苏州苏纳光电有限公司
  • 2022-06-21 - 2022-10-21 - B65G47/91
  • 本实用新型公开了一种吸盘式搬运装置包括底座、支架和吸盘,支架与底座活动配合,吸盘设置于支架上,还包括:第一齿轮和第二齿轮,设置于底座的工作台面上,第一齿轮和第二齿轮相互啮合;锁止结构,包括锁止杆,锁止杆与底座活动连接且能够沿第一方向或第二方向活动于第一位置和第二位置;当锁止杆位于第一位置时,吸盘被固定在选定位置处;当锁止杆位于第二位置时,第一齿轮、第二齿轮能够转动。本实用新型实施例提供的一种吸盘式搬运装置,不仅能够依据实际情况调整吸盘与晶圆之间的位置关系,更好的适配不同规格的晶圆,且调整后的吸盘位置可进行固定,避免晶圆在搬运过程中受吸盘移位而造破损或脱落。
  • 吸盘搬运装置
  • [实用新型]分选蓝膜转Gel-Pak盒供料治具-CN202221101924.7有效
  • 党晓伟;黄寓洋 - 苏州苏纳光电有限公司
  • 2022-05-09 - 2022-10-14 - B65B35/30
  • 本实用新型公开了一种分选蓝膜转Gel‑Pak盒供料治具,包括治具本体和至少一个固定组件;固定组件包括设置在治具本体上的定位台、多个立柱以及卡接结构,卡接结构以及多个立柱环绕定位台设置,当Gel‑Pak盒被置于定位台上时,在第一方向上,Gel‑Pak盒与立柱相互抵触,而在第二方向上,Gel‑Pak盒与卡接结构卡接,第一方向和第二方向交叉设置,第一方向与定位台的台面平行。本实用新型实施例提供的一种分选蓝膜转Gel‑Pak盒供料治具,不仅能够快速固定Gel‑Pak盒,避免其排列错位从而影响芯片分选定位的问题,且该治具通用性强,能应用于固定多种规格的Gel‑Pak盒。
  • 分选蓝膜转gelpak供料
  • [发明专利]一种用于半导体芯片扩膜的制备方法-CN202110191989.9有效
  • 阮文静;黄寓洋 - 苏州苏纳光电有限公司
  • 2021-02-20 - 2022-09-20 - H01L21/78
  • 本发明揭示了一种用于半导体芯片扩膜的制备方法,包括:提供第一扩膜环、第二扩膜环和待扩晶圆;取蓝膜固定在所述第一扩膜环上,绷紧后,并在绷好蓝膜的中心区域掏空一个大于待扩晶圆的圆环;在第二扩膜环上固定有放置待扩晶圆的第二蓝膜,并对待扩晶圆进行切割,切割好芯片后,沿第二扩膜环内四周切去多余的第二蓝膜,并去除第二扩膜环;将去除第二扩膜环的芯片放在底部,同时,将掏好圆环的第一扩膜环盖在上面,使第一扩膜环的中心与芯片中心重合,并将重叠的蓝膜和第二蓝膜进行粘结,获得半成品;将半成品放置于扩膜机上扩膜,得到扩膜好的半导体芯片。本发明提供的用于半导体芯片扩膜的制备方法,能将尺寸小的铁环扩膜到尺寸大的扩晶环。
  • 一种用于半导体芯片制备方法
  • [实用新型]推拉力测试用紧固夹具-CN202221455392.7有效
  • 章胜;黄寓洋 - 苏州苏纳光电有限公司
  • 2022-06-09 - 2022-09-20 - G01N3/04
  • 本实用新型公开了一种推拉力测试用紧固夹具,包括夹具本体以及夹板,夹板设置在夹具主体上,在第一方向上,所述夹具本体与所述夹板之间形成有用于固定芯片基板的容置空间,所述容置空间的顶部具有可供芯片基板露出的开口;紧固组件,用于将所述夹板固定在夹具本体的选定位置处,而使所述容置空间于第一方向上的宽度可调;调节组件,包括调节板和驱动机构,能够在所述驱动机构的驱使下沿第二方向运动,而使所述调节板与所述容置空间的开口之间的距离可调。本实用新型实施例提供的一种推拉力测试用紧固夹具,不仅能够对芯片基板进行夹持,便于其直接进行检测,同时此种夹具可灵活调整,适配性高,操作简单。
  • 拉力测试紧固夹具
  • [实用新型]改善解胶效果的治具-CN202221455866.8有效
  • 李铜铜;黄寓洋 - 苏州苏纳光电有限公司
  • 2022-06-10 - 2022-09-20 - H01L21/67
  • 本实用新型公开了一种改善解胶效果的治具,包括底座、可供紫外光透过的盖板以及固定结构,底座上设置有安置槽以及通气孔,底座内还设置有相互连通的安置腔和限位腔;盖板与安置槽卡接,盖板与底座之间形成有用于容纳晶圆片的安置腔,且盖板与安置槽之间的间距大于所容纳晶圆片的厚度;固定结构包括行进杆和限位件,行进杆沿安置腔长度方向与安置腔滑动配合,限位件与行进杆连接,且限位件被限制于限位腔中。本实用新型实施例提供的一种改善解胶效果的治具,改善晶圆片边缘处的解胶效果,使得晶圆片更充分的完成解胶工序,便于后续工序的进行,进一步提升其后续加工制作而成芯片的质量。
  • 改善效果
  • [发明专利]一种去除晶圆表面光刻胶的方法-CN202210839466.5在审
  • 曹娟;黄寓洋 - 苏州苏纳光电有限公司
  • 2022-07-15 - 2022-09-13 - G03F7/42
  • 本发明揭示了一种去除晶圆表面光刻胶的方法。所述方法包括:采用紫外光刻机对待处理的、表面带有光刻胶的晶圆进行泛曝光处理;将曝光后的晶圆依次进行显影、定影和干燥;采用离子蚀刻去除干燥后晶圆进行打胶,获得表面洁净的晶圆。本发明提供的去除晶圆表面光刻胶的方法,表面带有光刻胶的晶圆直接泛曝光,经过显影快速去胶,简化了返工制程工艺,提高操作时效,使得晶圆可以重新作为正片进行正常使用,进而改善并加快了晶圆的流片进度.避免晶圆报废率和提高产品合格率。
  • 一种去除表面光刻方法

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