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[发明专利]用于衬底处置的局部清洗模块-CN202180039711.8在审
发明人： T·普雷斯伯格;I·沃尔科夫 -专利权人： 科磊股份有限公司
申请日： 2021-05-30 - 公布日： 2023-03-07 - 主分类号： B25J15/00 文献下载
摘要：一种衬底处置机器人包含用于支撑衬底的端效应器及耦合到所述端效应器的臂以使所述端效应器在延伸位置与回缩位置之间平移。所述衬底处置机器人还包含外壳以至少部分地围封所述衬底，其中所述衬底位于所述回缩位置中的所述端效应器上。所述外壳包含喷淋器以将清洗气体的流量提供到所述衬底。
用于衬底处置局部清洗模块

[发明专利]基于深度学习的缺陷检测-CN202180043756.2在审
发明人： R·威灵福德;G·丛;S·帕克 -专利权人： 科磊股份有限公司
申请日： 2021-07-27 - 公布日： 2023-03-07 - 主分类号： G06T7/00 文献下载
摘要：提供用于检测样本上的缺陷的方法及系统。一种系统包含一或多个计算机系统及由所述一或多个计算机系统执行的一或多个组件。所述组件包含深度学习模型，其经配置用于针对样本上的位置从由高分辨率成像系统在所述位置处产生的高分辨率图像产生灰阶模拟设计数据图像。所述计算机系统经配置用于从所述灰阶模拟设计数据图像产生所述位置的模拟二进制设计数据图像。所述计算机系统还经配置用于通过从所述模拟二进制设计数据图像减去所述位置的设计数据来检测所述样本上所述位置处的缺陷。
基于深度学习缺陷检测

[发明专利]显示摩尔效应的类装置的叠加计量目标-CN202180043666.3在审
发明人： R·弗克维奇;L·叶鲁舍米;R·约哈南;M·吉诺乌克 -专利权人： 科磊股份有限公司
申请日： 2021-06-30 - 公布日： 2023-03-07 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开一种计量系统及计量方法。所述计量系统包括：一组装置特征，其在样本的第一层上；第一组目标特征，其在所述样本的第二层上且与所述一组装置特征重叠；及第二组目标特征，其在所述样本的所述第二层上且与所述一组装置特征重叠。第一组摩尔条纹及第二组摩尔条纹的相对位置指示所述样本的所述第一层与所述样本的所述第二层之间的叠加误差。
显示摩尔效应装置叠加计量目标

[发明专利]使用堆叠式四硼酸锶板的频率转换-CN202180039712.2在审
发明人：勇-霍·亚历克斯·庄;银英·肖李;E·洛基诺娃;J·费尔登;张百钢 -专利权人： 科磊股份有限公司
申请日： 2021-06-07 - 公布日： 2023-02-14 - 主分类号： H01S3/00 文献下载
摘要：在激光器组合件的最终频率转换级中使用包含堆叠式四硼酸锶SrB4O7(SBO)晶体板的非线性晶体以产生波长在125nm到183nm范围内的激光器输出光，所述堆叠式四硼酸锶SrB4O7晶体板经协作配置以形成周期性结构以用于进行准相位匹配(QPM)。使用多个中间频率转换级将具有介于1μm与1.1μm之间的基波波长的一或多个基波光束加倍及/或求和以产生一或多个中间光束频率(例如，二次谐波到八次谐波或其和)，且然后所述最终频率转换级利用所述非线性晶体将单个中间光束频率进行加倍或对两个中间光束频率进行求和以产生具有高功率及高光子能量电平的所期望激光器输出光。还描述一种方法及一种并入有所述激光器组合件的检验系统。
使用堆叠硼酸频率转换

[发明专利]使用条纹摩尔及光学摩尔效应的偏移计量-CN202180043955.3在审
发明人： Y·弗莱;M·吉诺乌克;E·古列维奇;V·莱温斯基;A·斯维泽尔 -专利权人： 科磊股份有限公司
申请日： 2021-07-21 - 公布日： 2023-02-14 - 主分类号： G01B11/25 文献下载
摘要：本发明公开一种计量系统及计量方法。所述计量系统包含照明子系统、集光子系统、检测器及控制器。所述控制器经配置以：接收样本上的叠加目标的图像；基于所述图像确定两个工作区之间沿着测量方向的表观叠加；及通过将所述表观叠加除以摩尔增益以补偿摩尔干涉而计算两个样本层之间的叠加。
使用条纹摩尔光学效应偏移计量

[发明专利]用于在样本运输装置内控制氧气及湿度水平的微型环境系统-CN202180039683.X在审
发明人： A·弗里德曼;T·普雷斯伯格;H·维连奇克 -专利权人： 科磊股份有限公司
申请日： 2021-04-13 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本发明公开一种微型环境设备。所述设备可包含壳体，其包含具有两个或更多个开口的框架。所述框架可界定所述壳体内的内腔。所述设备可包含耦合到所述框架的一部分的挡板叶片。所述挡板叶片可经配置以当所述挡板叶片处于闭合位置中时闭合所述框架的所述两个或更多个开口中的至少一个开口以形成密封壳体。所述设备可包含耦合到所述框架的一部分的浮动板。所述浮动板可包含一或多个狭槽。所述设备可包含耦合所述浮动板的一部分以覆盖所述一或多个狭槽的一或多个挡门。
用于样本运输装置控制氧气湿度水平微型环境系统

[发明专利]针对含样品内及样品间变异的样品使用无监督学习及适应性数据库产生方法的图像对准设置-CN202180039743.8在审
发明人： B·布拉尔;金欢;李晓春 -专利权人： 科磊股份有限公司
申请日： 2021-06-02 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明提供用于确定用于在对样品执行的过程中使用的一或多个对准参数的方法及系统。一种方法包含：确定通过成像系统针对样品上的两对或更多对裸片中的每一者中的对应位置产生的图像之间的类似性的测量；及基于类似性的所述经确定测量执行集群分析以识别最彼此类似的所述图像且将最彼此类似的所述图像的不同子集分别指派到不同裸片集群。所述方法还包含针对所述不同裸片集群中的两者或更多者分开地确定一或多个对准参数。所述一或多个对准参数用于将通过所述成像系统针对所述样品或另一样品产生的图像对准到共同参考。
针对样品变异使用监督学习适应性数据库产生方法图像对准设置

[发明专利]用于测量对角线基于衍射叠加目标的度量系统及方法-CN202180039746.1在审
发明人： R·弗克维奇;O·巴沙尔;N·古特曼 -专利权人： 科磊股份有限公司
申请日： 2021-06-04 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： G01B11/25 文献下载
摘要：根据本公开的一或多个实施例，公开一种度量系统。所述度量系统包含经配置以固定样本的载物台，一或多个基于衍射叠加(DBO)度量目标安置于所述样本上。所述度量系统包含光源及一或多个传感器。所述度量系统包含经配置以将来自所述光源的照明光引导到所述样本的所述一或多个DBO度量目标的一组光学器件，所述一组光学器件包含半波片，所述半波片可选择性地插入到光学路径中，使得所述半波片选择性地传递来自照明通道的照明光及来自收集通道的收集光两者，所述半波片经配置以选择性地将来自所述光源的线性偏振照明光的定向与所述一或多个DBO度量目标的光栅的定向对准。
用于测量对角线基于衍射叠加目标度量系统方法

[发明专利]使用机器学习的半导体叠对测量-CN202180042124.4在审
发明人： A·亚提 -专利权人： 科磊股份有限公司
申请日： 2021-06-23 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：获得展示第一过程层中的一或多个结构及第二过程层中的一或多个结构的半导体裸片的部分的图像。使用机器学习，在所述图像上定义至少部分包含所述第一过程层中的所述一或多个结构的第一区域。还使用机器学习，在所述图像上定义至少部分包含所述第二过程层中的所述一或多个结构的第二区域。使用所述第一区域及所述第二区域计算所述第一过程层中的所述一或多个结构与所述第二过程层中的所述一或多个结构之间的叠对偏移。
使用机器学习半导体测量

[发明专利]有噪声经图案化特征的检验-CN202180043614.6在审
发明人：涛·骆;永·张 -专利权人： 科磊股份有限公司
申请日： 2021-07-21 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： G01N21/956 文献下载
摘要：本发明提供用于检测样品上的缺陷的方法及系统。一种系统包含：检验子系统，其经配置以产生样品的图像；及一或多个计算机子系统，其经配置以用于检测所述样品上的缺陷候选者。检测所述缺陷候选者包含识别所述样品的所述所产生图像中所包含的测试图像中的经图案化特征。检测所述缺陷候选者还包含：针对所述测试图像中位于所述经图案化特征内的至少一个像素，确定所述至少一个像素的特性与所述测试图像中位于所述至少一个像素的预定窗内的其它像素的所述特性之间的差。另外，检测所述缺陷候选者包含：基于所述所确定差而检测所述至少一个像素处的缺陷候选者。
噪声图案特征检验

[发明专利]用于抑制激光维持等离子体源的VUV辐射发射的系统及方法-CN202211492634.4在审
发明人： I·贝泽尔;K·P·格罗斯;L·威尔逊;R·亚达夫;J·维滕贝格;A·布伊扬;A·谢梅利宁;A·希梅尔吉;R·索拉兹 -专利权人： 科磊股份有限公司
申请日： 2017-05-19 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： H05G2/00 文献下载
摘要：本申请揭示一种用于抑制激光维持等离子体源的VUV辐射发射的系统及方法。一种用于形成激光维持等离子体的系统包含：气体围阻元件；照明源，其经配置以产生泵激照明；及集光器元件，其经配置以将来自于泵激源的泵激照明聚焦于气体混合物的体积中以在气体混合物的体积内产生发射宽带辐射的等离子体。所述气体围阻元件可经配置以围阻包含第一气体组分及第二气体组分的气体混合物的体积。所述第二气体组分抑制离开所述气体混合物的辐射的光谱中所述宽带辐射的与所述第一气体组分相关联的一部分或与所述第一气体组分相关联的一或多个准分子的辐射中的至少一者。
用于抑制激光维持等离子体 vuv 辐射发射系统方法

[发明专利]混合检验器-CN202211329897.3在审
发明人： K·巴哈斯卡尔;G·H·陈;K·韦尔斯;W·麦克米连;张晶;S·A·永;B·达菲 -专利权人： 科磊股份有限公司
申请日： 2016-12-30 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： G01N21/95 文献下载
摘要：本申请实施例涉及混合检验器。一种系统包含计算机子系统，其经配置以接收针对样品产生的基于光学的输出及基于电子束的输出。所述计算机子系统包含一或多个虚拟系统，其经配置以使用针对所述样品产生的所述基于光学的输出及所述基于电子束的输出的至少一些执行一或多个功能。所述系统还包含由所述计算机子系统执行的一或多个组件，其包含经配置以针对所述样品执行一或多个模拟的一或多个模型。所述计算机子系统经配置以基于所述基于光学的输出、所述基于电子束的输出、所述一或多个功能的结果及所述一或多个模拟的结果中的至少两者检测所述样品上的缺陷。
混合检验

[发明专利]利用空间变化偏振转子及偏振器进行敏感性粒子检测-CN202211361414.8在审
发明人：刘学峰;J-K·龙;D·卡瓦德杰夫;J·费尔登 -专利权人： 科磊股份有限公司
申请日： 2020-02-10 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： G01N21/95 文献下载
摘要：本申请实施例涉及利用空间变化偏振转子及偏振器进行敏感性粒子检测。一种暗场检验系统可包含：照射源，其用以产生照射束；照射光学器件，其经配置以将所述照射束沿着照射方向以离轴角度引导到样本；聚光光学器件，其用以在暗场模式中响应于所述照射束而聚集来自所述样本的散射光；偏振转子，其位于一或多个聚光光学器件的光瞳面处，其中所述偏振转子提供被选择成将从所述样本的表面散射的光旋转到选定偏振角度的空间变化偏振旋转角度；偏振器，其经对准以拒斥沿着所述选定偏振角度发生偏振的光来拒斥从所述样本的表面散射的光；及检测器，其用以基于来自所述样本的由所述偏振器传递的散射光而产生所述样本的暗场图像。
利用空间变化偏振转子进行敏感性粒子检测

[发明专利]启用扫描电子显微镜成像，同时防止半导体制造工艺中使用的敏感层受到样本损坏-CN202180039688.2在审
发明人： H·S·帕特汉吉 -专利权人： 科磊股份有限公司
申请日： 2021-06-24 - 公布日： 2023-01-31 - 主分类号： G01N23/2251 文献下载
摘要：在半导体晶片的电子束成像期间，针对所述半导体晶片上的位点的图像帧抓取将电子束调整到低于损坏阈值的第一电子剂量/nm2/时间值。接着，针对所述位点的第二图像帧抓取将所述电子束调整到不同于所述第一电子剂量/nm2/时间值的第二电子剂量/nm2/时间值。所述第二电子剂量/nm2/时间值可高于所述损坏阈值。
启用扫描电子显微镜成像同时防止半导体制造工艺使用敏感受到样本损坏

[发明专利]通过组合来自多个收集通道的信息的设计与晶片图像相关性-CN202180039737.2在审
发明人： S·瓦尔基;D·R·高哈内 -专利权人： 科磊股份有限公司
申请日： 2021-06-09 - 公布日： 2023-01-31 - 主分类号： G06T7/00 文献下载
摘要：能够使用光学检验系统形成半导体晶片上的特征的至少三个暗场图像。所述至少三个暗场图像中的每一者来自使用在图像产生期间完全敞开的孔隙的所述光学检验系统的不同通道。所述暗场图像能够被融合到与对应设计对准的伪晶片图像中。这种对准能够改进关照区域放置。
通过组合来自收集通道信息设计晶片图像相关性