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[发明专利]用于蓝宝石晶棒的多线切割机的切割方法及多线切割机-CN202211110587.2在审
发明人：杨良;李瑞评;张佳浩;曾柏翔 -专利权人： 福建晶安光电有限公司
申请日： 2022-09-13 - 公布日： 2022-11-15 - 主分类号： B28D5/04 文献下载
摘要：本发明提供一种用于蓝宝石晶棒的多线切割机的切割方法及多线切割机，该方法包括：将蓝宝石晶棒固定在多线切割机的晶棒固定装置上，并使蓝宝石晶棒的待切割端面与切割线的切割方向平行；将蓝宝石晶棒垂直朝向切割线移动，缠绕有多条切割线的导轮做旋转运动，并通过冷却装置向蓝宝石晶棒表面喷射冷却介质，冷却介质的成分包括水基切削液和碱性化合物，所述导轮的旋转运动使所述切割线往复运动以切割所述蓝宝石晶棒；其中，蓝宝石晶棒的第一端单位体积被喷射的碱性化合物的流量大于第二端单位体积被喷射的碱性化合物的流量。该切割方法及多线切割机可减小由于出入线端切割能力不一致所导致的各晶片翘曲度的差异。
用于蓝宝石切割机切割方法

[发明专利]一种衬底改性处理方法及半导体发光器件的制造方法-CN202211123931.1在审
发明人：刘增伟;周光权;李瑞评;曾柏翔 -专利权人： 福建晶安光电有限公司
申请日： 2022-09-15 - 公布日： 2022-11-15 - 主分类号： C30B29/20 文献下载
摘要：本发明提供一种衬底改性处理方法及半导体发光器件的制造方法，该衬底改性处理方法通过在衬底表面涂覆反应溶液，生成多晶层铝酸钙的同时又利于相邻衬底之间的分离。其中，碱金属盐经过化学反应后生成氧化物，具有较多优点：首先，生成的氧化物能够与衬底中的氧化铝发生反应生成偏铝酸盐，偏铝酸盐溶于水后实现相邻衬底之间的分离；偏铝酸盐又能进一步分解为氧化物及氧化铝中间产物，该氧化铝中间产物能够与氧化钙以较高的反应速率生成铝酸钙，加速多晶层的生成；氧化物在与衬底中的氧化铝发生反应时，会在衬底表面形成微凹坑，从而加速反应并释放应力；此外，衬底表面残余的氧化物还能进一步溶于水，从而也能促进相邻衬底之间的分离。
一种衬底改性处理方法半导体发光器件制造

[实用新型]晶片研磨装置-CN202221901249.6有效
发明人：张佳浩;周志豪;周光权;李志宇;曾柏翔;李瑞评 -专利权人： 福建晶安光电有限公司
申请日： 2022-07-19 - 公布日： 2022-11-15 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本实用新型提供一种晶片研磨装置，所述装置包括上研磨盘、下研磨盘、内齿圈、太阳轮、转接轮、游心轮以及至少两个行星轮夹具，所述行星轮夹具及游心轮上均具有晶片安装槽；所述内齿圈位于所述上研磨盘和下研磨盘之间，所述太阳轮与所述内齿圈同轴，各所述行星轮夹具位于所述太阳轮与内齿圈之间，且所述行星轮夹具与所述太阳轮及内齿圈均啮合；所述转接轮位于两个所述行星轮夹具之间，且所述转接轮与位于其两侧的两个行星轮分别啮合；所述游心轮位于所述转接轮与内齿圈之间，且所述游心轮与所述转接轮及内齿圈均啮合。该晶片研磨装置解决了现有的研磨装置晶片研磨效率低的问题。
晶片研磨装置

[发明专利]可降低形变应力的衬底加工方法及衬底-CN202210977056.7在审
发明人：李志宇;周志豪;王云云;黄建烽;李贤途 -专利权人： 福建晶安光电有限公司
申请日： 2022-08-15 - 公布日： 2022-11-11 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供一种可降低形变应力的衬底加工方法及衬底，包括：将晶棒切割为晶片，并对晶片进行研磨，以改善晶片的平整度；利用开槽部件在晶片的第一表面上开设多个与第一方向平行的第一沟槽，第一方向与晶片的平边方向平行，多个第一沟槽在晶片的第一径向方向上间隔设置，且多个第一沟槽沿第一径向方向布满晶片的第一表面；利用开槽部件在晶片的第一表面上开设多个与第一沟槽垂直的第二沟槽，多个第二沟槽在晶片的第二径向方向上间隔设置，且多个第二沟槽沿第二径向方向布满晶片的第一表面；对开设有第一沟槽和第二沟槽的晶片进行高温退火；利用抛光设备对开设有第一沟槽和第二沟槽的晶片的第二表面进行抛光。该方法减小了晶片的翘曲和变形程度。
降低形变应力衬底加工方法

[发明专利]发光二极管的图形化衬底、发光二极管及其制备方法-CN202210960208.2在审
发明人：李彬彬;李瑞评;梅晓阳 -专利权人： 福建晶安光电有限公司
申请日： 2021-03-25 - 公布日： 2022-11-11 - 主分类号： H01L33/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种发光二极管的图形化衬底、发光二极管及其制备方法，其中，该图形化衬底包括：衬底和微纳复合图形结构。微纳复合图形结构形成于所述衬底的一侧表面；所述微纳复合图形结构包括主图形和表面微结构；所述主图形为凸部结构且包含不平行于所述衬底且背对所述衬底的侧面，所述表面微结构位于所述主图形的所述侧面，所述表面微结构包括垂直于所述主图形的所述侧面且背对所述衬底的所述侧表面的侧面。通过上述方案能够提高衬底的出光率，从而提高LED的亮度。
发光二极管图形衬底及其制备方法

[发明专利]一种半导体衬底的制作方法-CN202211061758.7在审
发明人：张佳浩;周光权;曾柏翔;李瑞评;陈铭欣 -专利权人： 福建晶安光电有限公司
申请日： 2022-08-31 - 公布日： 2022-11-08 - 主分类号： B23K26/38 文献下载
摘要：本发明提供一种半导体衬底的制作方法，首先对半导体衬底进行两次激光切割，第一次激光切割在半导体衬底中得到引导层，引导层中包括多个间隔排布的第一孔洞，第二次激光切割在引导层的深度处得到多个第二孔洞，第二孔洞的尺寸小于第一孔洞，且多个第二孔洞与多个第一孔洞形成连续结构以形成剥离层，再通过甩胶、降温处理，最后基于剥离层对衬底进行剥片。本发明采用非物理接触激光切割技术，产生的应力较小；且激光切割分两步进行，由于大幅度降低了剥离层的大尺寸孔洞的数量，因此避免了半导体衬底破裂报废的问题；另外，本发明在衬底的制作过程中产生的损伤层较薄，从而能够减少抛光时间，提高生产效率。
一种半导体衬底制作方法

[发明专利]一种双面研磨机台的盘面修整工艺-CN202210990159.7在审
发明人：枋明辉;林仲和;林少萍;黄世维;杨胜裕 -专利权人： 福建晶安光电有限公司
申请日： 2022-08-18 - 公布日： 2022-11-01 - 主分类号： B24B53/017 文献下载
摘要：本申请提供了一种双面研磨机台的盘面修整工艺，根据游星轮摆放的位置和运动轨迹确定修整的盘面范围，根据游星轮工件槽内的修整砂轮数量调整修整盘面的程度，以使盘型达到预设凹凸程度的目的。本申请不仅可以有效地修整盘面，还可以修整上下盘面的不同凹凸程度，方法灵活，操作简单。
一种双面研磨机台盘面修整工艺

[发明专利]一种蓝宝石抛光液及其制备方法-CN202110890629.8在审
发明人：刘增伟;李瑞评;曾柏翔;陈铭欣;陈燕;杨良 -专利权人： 福建晶安光电有限公司
申请日： 2021-08-04 - 公布日： 2022-10-28 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种蓝宝石抛光液及其制备方法，借助氧化铝磨粒的高硬度提供机械移除能力，在适宜KOH浓度下，分多次适量添加与氧化铝反应更为柔和的辅助磨料，例如氧化硅、氧化铈等能够起到进一步增强化学移除而不会造成氧化铝磨料过分消耗，从而实现抛光过程中整体移除率提升的效果，同时也增加了蓝宝石抛光液的使用寿命。
一种蓝宝石抛光及其制备方法

[发明专利]一种衬底加工方法及半导体器件制造方法-CN202110890808.1在审
发明人：李瑞评;曾柏翔;刘增伟;张佳浩;陈铭欣 -专利权人： 福建晶安光电有限公司
申请日： 2021-08-04 - 公布日： 2022-10-28 - 主分类号： B24B19/22 文献下载
摘要：本发明提供一种衬底加工方法以及半导体器件制造方法，衬底加工过程中，自晶棒切割得到多个衬底之后，对衬底的表面进行处理，可以是衬底的单面或者双面，然后对衬底进行退火。在退火过程中，在催化剂的作用下，表面处理剂中的有机可溶钙盐与衬底发生反应，形成一层较软材料的改性层，该改性层为疏松结构，起到软化衬底的作用，降低了衬底表面的硬度。表面处理剂中的有机可溶钙盐易溶于水，可配制成均匀溶液喷洒在衬底表面，使衬底表面涂敷得更均匀，提高衬底软化深度的均匀性。在后续的研磨及抛光过程中，能够显著提高研磨和抛光效率，降低衬底的加工难度。通过调整退火工序的温度及时间，控制表面处理剂与衬底的反应程度，控制被软化的衬底的厚度，进而降低后续机械加工的难度，提高衬底的加工质量。
一种衬底加工方法半导体器件制造

[发明专利]一种图形衬底及其制作方法-CN202210944789.0在审
发明人：霍曜;李彬彬;李瑞评 -专利权人： 福建晶安光电有限公司
申请日： 2022-08-08 - 公布日： 2022-10-25 - 主分类号： H01L33/20 文献下载
摘要：本发明提供一种图形衬底及其制作方法，图形衬底包括衬底以及周期性排布在衬底上方的若干图形结构，图形结构包括侧壁结构，以及侧壁结构围成的空心结构；且侧壁结构的底部由单晶结构的材料制成，顶部由非晶结构的材料制成。中空结构的图形结构能够有效降低图形衬底的折射率，使图形衬底的折射率接近为1，增强全反射效果，提高光提取效率；在外延磊晶过程中，中空结构的图形结构能够适当形变从而缓冲应力，得到低应力的衬底，增强内量子效率。由于图形结构底部的晶格结构与衬底的晶格结构相同，因此能够适当缓冲图形结构与衬底之间的晶格失配，同时不改变外延磊晶的生长方向，降低穿透型位错密度，得到高结晶质量的衬底，增强内量子效率。
一种图形衬底及其制作方法

[实用新型]蓝宝石衬底-CN202221637277.1有效
发明人：周志豪;李贤途;黄建烽;郭慧慧 -专利权人： 福建晶安光电有限公司
申请日： 2022-06-28 - 公布日： 2022-10-21 - 主分类号： H01L23/544 文献下载
摘要：本实用新型提供一种蓝宝石衬底，所述蓝宝石衬底上具有第一定位部和第二定位部，所述第一定位部为设置在所述蓝宝石衬底外边沿第一位置处的第一定位平边或定位缺口，过所述第一定位部的中心和所述蓝宝石衬底的中心的第一直线与过所述第二定位部的中心和所述蓝宝石衬底的中心的第二直线之间具有夹角，且所述夹角大于0度。该蓝宝石衬底提高了定位的精确度。
蓝宝石衬底

[发明专利]偏振元件、发光二极管以及发光装置-CN202210801135.2在审
发明人：霍曜;李彬彬;吴福仁;乔新宇;李瑞评 -专利权人： 福建晶安光电有限公司
申请日： 2022-07-07 - 公布日： 2022-10-11 - 主分类号： G02B5/30 文献下载
摘要：一种偏振元件、发光二极管以及发光装置，本申请提出一种偏振元件，包括透明基板、若干条金属线和周期性阵列结构，所述若干条金属线以预设间距平行布置在所述透明基板的安装面上；每条所述金属线沿与安装面平行的方向延伸预定长度；周期性阵列结构，包括凸起或凹坑，所述周期性阵列结构设置在所述透明基板上。本申请提供的偏振元件可让Te光（TE，Transverse Electric：横向电场，TE偏振光是在y方向具有电场的振动成分的光）转化为Tm光（Transverse Magnetic：横向磁场，TM偏振光是在x方向具有电场的振动成分的光），并反射通过偏振元件，提升出光强度，进而提升偏振元件的出光效率。
偏振元件发光二极管以及发光装置

[发明专利]一种图形衬底及其制作方法-CN202210885253.6在审
发明人：李彬彬;吴福仁;霍曜;李瑞评 -专利权人： 福建晶安光电有限公司
申请日： 2022-07-26 - 公布日： 2022-09-30 - 主分类号： H01L33/20 文献下载
摘要：本发明提供一种图形衬底及其制作方法，图形衬底包括衬底以及周期性排布在衬底上方的若干图形结构，由图形结构的底部至顶部，图形结构的折射率逐渐减小，且图形结构的最大折射率小于等于衬底的折射率。相比于现有技术中常用的折射率单一且固定的图形衬底，本发明提供的图形衬底涵盖满足全反射的入射光角度更广，能够达到更多的光线满足出射条件，从而有效提高LED芯片的光提取效率。
一种图形衬底及其制作方法

[发明专利]一种复合图形衬底及其制作方法-CN202210885255.5在审
发明人：吴福仁;李彬彬;霍曜;李瑞评;苏贤达 -专利权人： 福建晶安光电有限公司
申请日： 2022-07-26 - 公布日： 2022-09-30 - 主分类号： H01L33/20 文献下载
摘要：本发明提供一种复合图形衬底及其制作方法，复合图形衬底包括衬底以及周期性排布在衬底上方的若干图形结构，图形结构至少包括第一部分以及形成在第一部分上方的第二部分，第一部的侧壁具有多条第一侧棱，使得相邻图形结构间暴露出的磊晶面占衬底表面的比例较小，有助于提高光提取率；第二部分的侧壁为弧形侧壁，使得光线在第二部分的侧壁表面反射时，能够沿各个方向进行反射，从而使得出射光更加均匀。本发明提供的复合图形衬底的制作方法，通过控制相邻图形结构之间的间距，利用相邻图形结构之间的作用力获得具有侧棱的第一部分，制作简单，能够有效节约成本，提高制作效率。
一种复合图形衬底及其制作方法

[发明专利]一种蓝宝石双面抛光晶片的加工工艺-CN202210897318.9在审
发明人：莫康;郑贤良;余学志;沈祥海 -专利权人： 福建晶安光电有限公司
申请日： 2022-07-28 - 公布日： 2022-09-20 - 主分类号： B28D5/04 文献下载
摘要：本申请提供了一种蓝宝石双面抛光衬底的加工工艺，通过高温蚀刻的作用，达到消除应力及去除部分研磨损伤层的效果，将传统加工制程中上蜡、铜抛、下蜡、清洗、退火、反面上蜡、铜抛、下蜡8个步骤变更为一个蚀刻替代，简化整体的工序，节省了50h的制程时间；通过蚀刻过程中添加磷酸保证蚀刻溶液的配比处于稳定状态，以达到稳定的蚀刻速率和较高的均匀性，另外，蚀刻溶液配比的稳定可以提升寿命，从而降低成本。
一种蓝宝石双面抛光晶片加工工艺