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[发明专利]校准装置、对准系统及对准方法-CN202110140423.3在审
发明人：温海涛;陈兴隆;王绍勇;王丽鹤;王若愚 -专利权人：沈阳芯源微电子设备股份有限公司
申请日： 2021-02-02 - 公布日： 2021-05-07 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：本发明提供了一种校准装置，包括导向部、驱动部和支撑部。所述校准装置中，所述导向部使所述两个基板的中心和特征标记结构分别实现对准，所述驱动部中的旋转驱动部和运动转换部通过将旋转运动转化为直线运动来驱动所述置物部朝向或远离所述相对置物部运动，从而实现了对准。本发明还提供了包含所述校准装置的对准系统及其对准方法。
校准装置对准系统方法

[发明专利]一种显影液恒温保持管路系统-CN201410334927.9有效
发明人： 王丽鹤 -专利权人：沈阳芯源微电子设备股份有限公司
申请日： 2014-07-15 - 公布日： 2020-02-07 - 主分类号： G03F7/30 文献下载
摘要：本发明属于半导体匀胶显影领域，具体地说是一种显影液恒温保持管路系统，保温水循环系统的出口通过进水管进入显影单元、连接至集液块，与显影液源相连的显影液管进入显影单元，依次连接集液块、水液分离式药液阀及分液块，集液块与水液分离式药液阀之间的显影液管以及分液块与水液分离式药液阀之间的显影液管外均设有保温水套管，保温水套管与显影液管之间流通有由保温水循环系统提供的保温水；经分液块流出的保温水进入喷嘴的一个腔室，并通过回水管与保温水循环系统相连通，经分液块流出的显影液进入喷嘴的另一个腔室，喷洒至晶圆的表面。本发明使显影液管进入显影单元后完全浸泡在保温水里，避免裸露在外，减少其他因素对显影液的影响。
一种显影液恒温保持管路系统

[发明专利]一种工艺单元排废积液检测装置-CN201510411467.X有效
发明人： 王丽鹤 -专利权人：沈阳芯源微电子设备有限公司
申请日： 2015-07-14 - 公布日： 2018-10-09 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及一种工艺单元排废积液检测装置，下罩及隔板分别安装在工艺单元的工作台上，第一隔板位于下罩的内侧，内罩的一端挂在第一隔板上，另一端与下罩抵接，上罩位于内罩的外侧、并插设于下罩上，且与内罩之间形成导流内腔；下罩上连接有积液盒，内套容置于积液盒内，并与积液盒的内壁之间设有积液反馈腔，导流内腔下方的下罩与内套内部连通、形成排液流道；内套的上端与下套插接，下端沿周向均布有多个连通排液流道与积液反馈腔之间的豁口，积液盒上设有伸入积液反馈腔内的积液传感器。本发明可以很好地防止由于废液的凝结或管路不畅导致的积液和漏液，通过触发积液传感器做出预警的目的。
一种工艺单元积液检测装置

[发明专利]一种防止晶圆滑动的升降盘体装置-CN201410466807.4有效
发明人： 王丽鹤 -专利权人：沈阳芯源微电子设备有限公司
申请日： 2014-09-12 - 公布日： 2018-08-14 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明涉及进入热盘工艺时晶圆下降方式的装置，具体地说是一种防止晶圆滑动的升降盘体装置，包括固定盖、升降盘体、顶针机构及下固定板，固定盖及顶针机构分别安装在下固定板上，升降盘体位于固定盖与顶针机构之间，包括加热盘体、外密封体、动力装置及止动销，动力装置安装在固定板上、驱动外密封体升降，加热盘体放置在外密封体内、随其升降，在加热盘体的上表面沿圆周方向均布有多个止动销；顶针机构穿设于加热盘体内、在加热盘体处于下限位支撑晶圆，固定盖与上升至上限位的外密封体密封连接、形成工艺腔室。本发明通过升降盘体的升降，实现了晶圆在落到加热盘体上表面之前始终保持静止不动，规避了以往晶圆升降方式产生侧滑的弊端。
加热盘体升降盘顶针机构固定盖晶圆外密封体升降圆滑动力装置固定板上表面止动销体内沿圆周方向工艺腔室密封连接升降方式下固定板下降方式加热盘上限位外密封下限位侧滑穿设均布热盘静止驱动支撑

[发明专利]一种微环境控制系统-CN201410714413.6有效
发明人： 王丽鹤 -专利权人：沈阳芯源微电子设备有限公司
申请日： 2014-11-30 - 公布日： 2018-08-07 - 主分类号： G05B19/18 文献下载
摘要：本发明涉及晶圆加工领域，具体地说是一种在晶圆生产时使设备内部气流流向平稳的微环境控制系统，包括风机、整流板、风扇和风压传感器，其中风机设置于晶圆输送单元的上方，晶圆输送单元的底面上设有整流板，整流板上均布有通风孔，整流板内设有风扇，用于检测晶圆输送单元内部压力并使控制系统实时调整风机和风扇转速的风压传感器安装在设备传送机构的传送平台上，晶圆输送单元内部通过整流板分为层流区域和紊流区域，其中整流板内部为紊流区域，晶圆输送单元四周的隔板表面在风自上而下流动过程中形成真空层，隔板上供晶圆进出的晶圆进出口上设有防止气流倒流的门板。本发明使晶圆加工设备内部的气流流向平稳，满足晶圆生产要求。
一种环境控制系统

[发明专利]一种热盘工艺腔气流均布装置-CN201410384050.4有效
发明人： 王丽鹤 -专利权人：沈阳芯源微电子设备有限公司
申请日： 2014-08-06 - 公布日： 2018-07-03 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及晶圆在热盘工艺时气流分布装置，具体地说是一种热盘工艺腔气流均布装置，加热盘体安装在下密封盘体内，加热盘体与下密封盘体内壁之间容置有均流管，均流管与安装在下密封盘体上的排气管相连通，且均流管上沿周向均布有多个气孔；加热盘体的下方设有可升降的顶针机构，顶针机构穿过加热盘体、支撑晶圆；下密封盘体顶端密封连接有可升降的上盖，晶圆位于上盖与加热盘体之间，上盖和加热盘体与下密封盘体内壁之间形成工艺腔室；气体由上盖上设置的进气口进入工艺腔室内，通过均流管上各气孔进入均流管内，经排气管上的排气口排出。本发明形成的工艺腔室，内部气流均匀分布于晶圆表面然后排出腔室，实现了工艺腔室内气流均布的目的。
加热盘体均流管工艺腔上盖晶圆热盘气流均布装置顶针机构工艺腔室盘体内壁可升降密封盘排气管下密封进气口气流分布装置下密封盘体顶端密封晶圆表面排出腔室排气口排气流均匀室内气流周向均布均布容置体内穿过室内支撑

[发明专利]一种热盘工艺密闭腔自动调整装置-CN201410293319.8有效
发明人： 王丽鹤 -专利权人：沈阳芯源微电子设备有限公司
申请日： 2014-06-25 - 公布日： 2018-02-13 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及晶圆在热盘内工艺时需形成密闭腔的装置，具体地说是一种热盘工艺密闭腔自动调整装置。包括驱动机构、盘盖升降机构、盘盖、密封环、下密封体、盘体及底板，其中驱动机构和下密封体安装在底板上，所述盘体设置于下密封体内，所述盘盖设置于密封体的上端，所述盘体与盘盖和下密封体之间形成工艺腔室，所述盘盖上沿周向设有自调整腔体，所述下密封体上沿周向设有凹槽，所述密封环一端容置于该自调整腔体内，另一端从自调整腔体内伸出、并与下密封体上端的凹槽配合连接，所述盘盖上设有工艺进气口和调整进气口，所述下密封体上设有工艺废气排出口，所述盘盖升降机构的一端与驱动机构连接，另一端与盘盖连接。本发明能避免盘盖与下密封体接触不良导致的工艺废气外泄，实现工艺腔室内的完全密封目的。
一种工艺密闭自动调整装置

[发明专利]一种光阻回收利用装置-CN201610286026.6在审
发明人： 王丽鹤 -专利权人：沈阳芯源微电子设备有限公司
申请日： 2016-05-03 - 公布日： 2017-11-10 - 主分类号： G03F7/26 文献下载
摘要：本发明属于光刻工艺的技术领域，具体地说是一种光阻回收利用装置。包括光阻瓶、缓存罐、回收盒、泵及过滤器，其中，所述光阻瓶与氮气管路连通，所述缓存罐通过供胶管路与所述光阻瓶连通，所述缓存罐通过排胶管路依次与泵、过滤器和涂胶单元连通；所述回收盒通过排泡管路I和排泡管路II分别与所述缓存罐的顶部及所述过滤器的顶部连通；所述回收盒通过回收管路与所述光阻瓶连通；所述氮气管路、排泡管路I、排泡管路II及回收管路上均设有通断阀。本发明可以很好的将可再利用光阻收回到胶瓶内再利用，避免不必要的浪费，达到相同光阻产出更多效益的目的。
一种回收利用装置

[发明专利]一种提升晶圆受热均匀性的装置-CN201410532117.4在审
发明人： 王丽鹤 -专利权人：沈阳芯源微电子设备有限公司
申请日： 2014-10-10 - 公布日： 2016-05-11 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及进入热盘工艺时对晶圆加热的设备，具体地说是一种提升晶圆受热均匀性的装置，包括升降机构、加热机构及基础，升降机构包括上密封盖、顶针及安装在基础上的动力装置，上密封盖与顶针分别位于加热机构的上下两侧，并分别与动力装置连动、同步升降；加热机构包括下密封体、下盖板、加热盘体及加热丝，下盖板安装在基础上，下密封体的底部密封连接于下盖板的边缘，顶部与上密封盖密封连接、形成容置晶圆的工艺腔室，加热盘体放置在下盖板上，中间盘绕有加热丝，下盖板上设有排气槽；晶圆通过由下盖板、加热盘体穿过的顶针支撑。本发明通过提高加热丝与加热盘体的充分接触，提高晶圆与加热盘体盘面间隙，实现整个晶圆的受热均匀性。
一种提升受热均匀装置

[发明专利]一种用真空实现不同浓度液体的分离回收装置-CN201310481584.4有效
发明人： 王丽鹤;卢继奎 -专利权人：沈阳芯源微电子设备有限公司
申请日： 2013-10-15 - 公布日： 2015-04-29 - 主分类号： C02F1/00 文献下载
摘要：本发明涉及晶片显影完显影液排出用的设备，具体地说是一种用真空实现不同浓度液体的分离回收装置。包括气源、通断装置I、真空发生装置、通断装置II、废液盒I、通断装置III及废液盒II，其中真空发生装置的进气口和吸出口通过管路分别与气源和显影盒的固定盒连接，所述真空发生装置的排出口通过两条管路分别与废液盒I和废液盒II连接，所述废液盒II与固定盒的底部排液口连接；所述通断装置I设置于气源和真空发生装置之间的管路上，所述通断装置II设置于真空发生装置与废液盒I之间的管路上，所述通断装置III设置于真空发生装置和废液盒II之间的管路上。本发明能快速的将一定时间内的液体排出，相对废液前后段浓度是不一样的，实现不同浓度的废液分离和回收。
一种真空实现不同浓度液体分离回收装置

[发明专利]一种低冲击力均布流量的湿法处理工艺喷嘴-CN201210462363.8有效
发明人：胡延兵;王丽鹤 -专利权人：沈阳芯源微电子设备有限公司
申请日： 2012-11-15 - 公布日： 2014-05-21 - 主分类号： B05B1/00 文献下载
摘要：本发明涉及集成电路制造单片湿法处理设备，具体地说是一种低冲击力均布流量的湿法处理工艺喷嘴，包括药液盒盖板、线型喷嘴型板、药液分配孔板、喷嘴主架、隔离板及温控盒压板，药液分配孔板及隔离板分别安装在喷嘴主架的两侧，隔离板与喷嘴主架之间形成喷洒药液分散减压腔体，温控盒压板与喷嘴主架之间形成喷洒药液温控腔体；药液分配孔板与喷嘴型板之间以及药液分配孔板上分别设有相连通的喷洒药液线型分布均控流量腔体；喷嘴主架上分别设有进液通道及槽型孔，槽型孔的两侧分别连通喷洒药液分散减压腔体及药液分配孔板上的喷洒药液线型分布均控流量腔体。本发明喷洒药液温度、流量均匀一致，冲击压力低且均匀，实现精细湿法化学处理晶片目的。
一种冲击力流量湿法处理工艺喷嘴

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