专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]半导体存储器设备和半导体存储器设备的制造方法-CN202211465513.0在审
  • 李建泳;金尚秀;陈尚完 - 爱思开海力士有限公司
  • 2022-11-22 - 2023-10-17 - H10B43/27
  • 本公开涉及半导体存储器设备和半导体存储器设备的制造方法。一种半导体存储器设备包括:第一栅极堆叠结构,包括在垂直方向上交替堆叠的第一层间绝缘层和第一导电层;穿入第一栅极堆叠结构的虚设垂直通道;在虚设垂直通道的两侧处穿入第一栅极堆叠结构的下部垂直通道;第二栅极堆叠结构,包括在垂直方向上交替堆叠在第一栅极堆叠结构上的第二层间绝缘层和第二导电层;部分地穿入第二栅极堆叠结构的第一选择线隔离结构;连接到下部垂直通道、同时穿入第二栅极堆叠结构的上部垂直通道;以及在垂直方向上与虚设垂直通道重叠的第二选择线隔离结构,第二选择线隔离结构穿入第二栅极堆叠结构的一部分。
  • 半导体存储器设备制造方法
  • [发明专利]半导体存储器装置及其制造方法-CN202211547247.6在审
  • 金在泽;郑蕙英 - 爱思开海力士有限公司
  • 2022-12-05 - 2023-10-17 - H10B43/00
  • 提供了一种半导体存储器装置及其制造方法。该半导体存储器装置包括:下结构,其中限定有单元区域和芯片保护区域,其中,单元区域和芯片保护区域沿着第一方向划分;第一下层叠结构,其在芯片保护区域中形成在下结构上,该第一下层叠结构包括多个第一下材料层,该第一下层叠结构包括沿其边缘形成的第一蚀刻停止层;第一上层叠结构,其在芯片保护区域中形成在第一下层叠结构上,该第一上层叠结构包括多个第一上材料层;以及第一狭缝,其在芯片保护区域中穿透第一上层叠结构以暴露第一蚀刻停止层。
  • 半导体存储器装置及其制造方法
  • [发明专利]图像感测装置及其形成方法-CN201911011298.5有效
  • 金炳圭 - 爱思开海力士有限公司
  • 2019-10-23 - 2023-10-13 - H01L27/146
  • 图像感测装置及其形成方法。公开了一种图像感测装置。该图像感测装置包括:半导体基板,其包括有源区;第一杂质区和第二杂质区,其被形成在有源区中;光电转换区,其被设置在半导体基板上以直接联接到第一杂质区,并且被配置为响应于入射光而产生光电荷并且将所产生的光电荷发送到第一杂质区;开关元件,其被设置为联接到第一杂质区和第二杂质区,并且被配置为将存储在第一杂质区中的光电荷发送到第二杂质区;绝缘结构,其被设置在光电转换区的侧部;以及多条导线,其被设置在绝缘结构中,并且被配置为读出与光电转换区产生的光电荷对应的电图像信号。
  • 图像装置及其形成方法
  • [发明专利]半导体器件以及半导体器件的操作方法-CN201910615392.5有效
  • 李熙烈 - 爱思开海力士有限公司
  • 2019-07-09 - 2023-10-13 - G11C16/08
  • 本发明公开了半导体器件以及半导体器件的操作方法。一种操作半导体器件的方法,所述半导体器件包括:存储块,其包括多个字线;以及控制逻辑,其用于:对与所述多个字线之中的第一字线相对应的第一存储单元执行第一编程操作,对与相邻于所述第一字线的第二字线相对应的第二存储单元执行所述第一编程操作,对所述第一存储单元执行第二编程操作,对与相邻于所述第二字线的第三字线相对应的第三存储单元执行虚设编程操作,以及对所述第二存储单元执行所述第二编程操作。
  • 半导体器件以及操作方法

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