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[发明专利]用于半导体图案化应用的氧化锡及碳化锡材料-CN202180077490.3在审
发明人： 林永振;郎纪一;黃和湧 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-11-23 - 公布日： 2023-07-18 - 主分类号： H01L21/311 文献下载
摘要：提供了一种使用锡基材料作为心轴、硬掩模及衬垫材料来图案化半导体材料的方法及设备。本揭示案的一或更多个实施方式在多种图案化应用期间使用氧化锡及/或碳化锡材料作为硬掩模材料、心轴材料及/或衬垫材料。氧化锡或碳化锡材料相对于其他高选择性材料如金属氧化物(例如TiO2、ZrO2、HfO2、Al2O3)更容易剥离，以避免影响关键尺寸及产生缺陷。此外，氧化锡及碳化锡具有低折射率、低k值，并且在663纳米以下是透明的以用于光刻覆盖。
用于半导体图案应用氧化碳化材料

[发明专利]硼膜的沉积-CN202180075006.3在审
发明人： 林永振;郎纪一;黃和湧 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-12-15 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：描述了在基板上沉积含硼膜的方法。将基板暴露于硼前驱物和等离子体，以形成含硼膜(如，元素硼、氧化硼、碳化硼、硅化硼、氮化硼)。暴露可为顺序的或同时的。含硼膜选择性地沉积在一种材料(如，SiN或Si)上，而不是另一种材料(如，氧化硅)上。
沉积

[发明专利]全玻幕墙整体式托运滑移安装施工方法-CN202210356866.0有效
发明人：刘喆;丁广城;赵昌;黄疆宇;林永振;卢倞;陈伟鹏;肖创 -专利权人：广州协安建设工程有限公司
申请日： 2022-04-06 - 公布日： 2023-05-02 - 主分类号： E04G21/16 文献下载
摘要：本发明公开了全玻幕墙整体式托运滑移安装施工方法，属于幕墙安装的技术领域，通过先预制托运车和托架，将幕墙玻璃捆绑至托架表面，并用牵引绳与托架进行绑接固定，然后将托架套在托运车外周，并拉动牵引绳，托架在牵引绳的牵引下施加水平作用力于托运车，托运车和幕墙玻璃一起滑移至施工位置，最终在将牵引绳与起吊设备连接，将托架与幕墙玻璃一并吊至幕墙安装位置并完成安装。起到减轻工作人员的工作强度以及便于运输的效果。
幕墙整体托运滑移安装施工方法

[发明专利]用于用非金属化合物处理光刻胶的方法-CN202211167119.9在审
发明人：黄志宇;林永振;加布里埃拉·阿尔瓦;郎纪一;和勇·大卫·黄;韦恩·R·弗伦奇 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2022-09-23 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： G03F7/26 文献下载
摘要：本公开内容的实施方式一般涉及用于增强光刻胶以具有改善的轮廓控制的方法。一种用于处理PR的方法包括：将工件定位在处理腔室的处理区域内，其中所述工件含有设置在底层上的图案化PR；通过将所述工件暴露于顺序浸渗合成工艺来处理所述图案化PR以产生经处理的图案化PR，所述经处理的图案化PR比所述图案化PR更致密和更硬。所述SIS工艺包括以下项的一个或多个浸渗循环：将所述图案化PR暴露于含有硅或硼的前驱物；用所述前驱物浸渗所述图案化PR；净化以去除所述前驱物的残余物；将所述图案化PR暴露于氧化剂；用所述氧化剂浸渗所述图案化PR以产生设置在所述图案化PR的内表面上的氧化物涂层；净化以去除所述氧化剂的残留物。
用于非金属化合物处理光刻方法

[发明专利]一种人字形吸音墙结构及其施工方法-CN202210339203.8在审
发明人：刘喆;黄志鹏;卢倞;丁广城;王超;陈伟鹏;林永振;赵昌 -专利权人：广州协安建设工程有限公司
申请日： 2022-04-01 - 公布日： 2022-07-05 - 主分类号： E04B2/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种人字形吸音墙结构及其施工方法，涉及降噪的领域，其包括墙体和多块吸音板，多块所述吸音板均固定于所述墙体上，所述吸音板的横截面呈人字形，多块所述吸音板依次排布且所述吸音板的凹面朝向同一侧；所述墙体的上方设有喷水组件，所述喷水组件能够往下方喷水并形成沿所述墙体分布的水帘。本申请具有提高机房的隔音效果的效果。
一种字形吸音结构及其施工方法

[发明专利]多间隔图案化方案-CN202080021414.6在审
发明人：杨兹顺;程睿;卡希克·贾纳基拉曼;黄祖滨;迪瓦卡尔·N·科德拉雅;米纳基·古普塔;斯里尼瓦斯·古吉拉;林永振;押尾英隆;李超;李吉恩 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2020-03-19 - 公布日： 2021-11-05 - 主分类号： H01L21/033 文献下载
摘要：本公开内容提供了利用具有良好轮廓控制和特征转移完整性的多重图案化处理来形成纳米结构。在一个实施方式中，一种用于在基板上形成特征的方法包括：在基板上形成心轴层；在心轴层上共形地形成间隔层，其中间隔层是掺杂的硅材料；和图案化间隔层。在另一实施方式中，一种用于在基板上形成特征的方法包括：在基板上的心轴层上共形地形成间隔层，其中间隔层是掺杂的硅材料；使用第一气体混合物选择性地移除间隔层的一部分；和使用不同于第一气体混合物的第二气体混合物选择性地移除心轴层。
间隔图案方案

[发明专利]选择性蚀刻的自对准过孔工艺-CN201880059509.X在审
发明人： 林永振;周凯文;张郢;黄和涌 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2018-09-18 - 公布日： 2020-05-01 - 主分类号： H01L21/768 文献下载
摘要：可执行处理方法以暴露半导体基板上的接触区域。所述方法可包括以下步骤：选择性地使半导体基板上的第一金属相对于暴露的第一电介质材料凹陷。所述方法可包括在凹陷的第一金属和暴露的第一电介质材料上方形成衬垫。所述方法可包括在衬垫上方形成第二电介质材料。所述方法可包括在第二电介质材料的选定区域上方形成硬掩模。所述方法还可包括选择性地去除第二电介质材料以暴露覆盖在凹陷的第一金属上面的衬垫的一部分。
选择性蚀刻对准工艺

[发明专利]去除高深宽比结构中的Ⅲ-V材料的方法-CN201910331618.9在审
发明人：鲍新宇;张郢;周清军;林永振 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2019-04-23 - 公布日： 2019-11-01 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：提供了用于形成半导体器件(诸如FinFET)的方法。在一个实施方式中，一种鳍片结构处理方法包括：去除形成在基板上的多个鳍片中的第一鳍片的一部分以暴露所述第一鳍片的剩余部分的表面，其中所述鳍片与形成在所述基板上的介电材料结构相邻；执行沉积操作以通过在基板处理环境中沉积第III‑V族半导体材料来在第一鳍片的剩余部分的表面上形成特征；以及执行蚀刻操作以用蚀刻气体来蚀刻特征，以在相邻的介电材料结构之间形成多个开口，其中所述蚀刻操作在与沉积操作相同的腔室中执行。
鳍片沉积蚀刻介电材料基板去除半导体材料半导体器件高深宽比基板处理蚀刻气体蚀刻特征鳍片结构腔室开口暴露

[发明专利]多色自对准触点选择性蚀刻-CN201910183568.4在审
发明人： 林永振;周清军;张郢;黄和湧 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2019-03-11 - 公布日： 2019-09-20 - 主分类号： H01L21/308 文献下载
摘要：描述形成并处理半导体装置的方法，所述方法利用氧化铝相对于氧化硅、氮化硅、氧化铝或氧化锆的选择性蚀刻。某些实施方式涉及用于金属栅极应用的自对准触点的形成。
选择性蚀刻自对准氧化铝触点半导体装置金属栅极氮化硅氧化硅氧化锆多色应用

[发明专利]服务器-CN201510862178.1有效
发明人：许顺成;林永振;贾集成 -专利权人：英业达科技有限公司;英业达股份有限公司
申请日： 2015-11-30 - 公布日： 2019-01-18 - 主分类号： G06F1/18 文献下载
摘要：本发明提供一种服务器，包含连接器、连接器限位装置及可抽换装置。连接器包含主机板、桥接板、电连接于主机板的第一信号传输线及设置于桥接板上的信号传输埠。连接器限位装置包含托盘、固定于托盘上的容置框体及第二信号传输线。第二信号传输线固定于容置框体内且具有金手指接头，第一信号传输线电连接于桥接板上与金手指接头的中心轴线不共线的位置。可抽换装置设置于托盘上且电连接于第二信号传输线，当信号传输埠与第二信号传输线对接时，金手指接头插设于信号传输埠中而经由桥接板及第一信号传输线建立可抽换装置与主机板之间的信号传输。
传输线连接器第二信号信号传输桥接板托盘电连接金手指可抽换主机板限位装置服务器容置框体中心轴线装置设置不共线容置框插设体内

[发明专利]连接器限位装置及其服务器-CN201510854529.4有效
发明人：许顺成;林永振;贾集成 -专利权人：英业达科技有限公司;英业达股份有限公司
申请日： 2015-11-30 - 公布日： 2019-01-08 - 主分类号： H01R13/631 文献下载
摘要：一种连接器限位装置用来进行与服务器的连接器的对接，连接器包含主板、桥接板及设置于桥接板上且电连接于主板的信号传输端口，连接器限位装置包含互相连通的纵向开口及横向导槽的侧板、容置框体及固定于容置框体内的信号传输线。容置框体朝侧板的一侧突出形成有限位导柱以通过纵向开口以滑动地穿设于横向导槽内且可相对横向导槽移动以使容置框体相对接近或远离侧板。当信号传输线与信号传输端口对接时，容置框体随限位导柱在横向导槽内的移动相对接近或远离侧板，以引导信号传输线的金手指接头插设信号传输端口中且经由桥接板建立信号传输。
连接器限位装置及其服务器

[实用新型]一种建筑施工污水排放过滤装置-CN201720190811.1有效
发明人：元兆衡;梁志秋;林永振;徐长江 -专利权人：广东省广弘华侨建设投资集团有限公司
申请日： 2017-02-28 - 公布日： 2017-10-17 - 主分类号： C02F9/02 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种建筑施工污水排放过滤装置，包括过滤箱体，过滤箱体内竖向固定有间隔分布的第一隔板和第二隔板，过滤箱体的内腔被第一隔板和第二隔板分割成自左至右依次分布的蓄水室、污水过滤室、沉淀室，沉淀室顶部卡接有过滤盖板，污水过滤室左侧的第一隔板上开设有若干层溢流孔、右侧的第二隔板上开设有若干层粗沙过滤孔，第一隔板上可拆卸地装配有第一封堵装置，第二隔板上可拆卸地装配有第二封堵装置；污水过滤室内设有一可直线上下往复移动溢流过滤板，蓄水室下部连通有排水管，沉淀室、污水过滤室底部均连通有泥沙卸料管。本实用新型方便将建筑污水经多级过滤处理后再排入市政下水管道，而且有助于污水中沙子回收利用。
一种建筑施工污水排放过滤装置

[实用新型]光驱退出机构-CN201120014750.6无效
发明人：曾震;陈仲锴;林永振;赖冠仁 -专利权人：广达电脑股份有限公司
申请日： 2011-01-07 - 公布日： 2011-09-07 - 主分类号： G06F1/16 文献下载
摘要：本实用新型是一种光驱退出机构，包括一底座、一光驱模块、一第一支架、一第一弹性元件、一第二支架、一第二弹性元件、一闩锁元件及一第三弹性元件。光驱模块以移动方式设置于底座之上，并具有一扣合孔。第一支架以移动方式设置于底座之上，并抵接于光驱模块。第一弹性元件连接于底座与第一支架之间。第二支架以移动方式设置于底座之上，并具有一滑块。第二弹性元件连接于底座与第二支架之间。闩锁元件以移动方式设置于底座之上，并以可分离方式扣合于扣合孔之中。第二支架的滑块滑动抵接于闩锁元件。第三弹性元件连接于底座与闩锁元件之间。
光驱退出机构

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