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[发明专利]一种蛋清薄膜及可降解有机-无机薄膜晶体管的制备方法-CN202211039449.X有效
发明人：栗旭阳;弥谦;梁海锋;蔡长龙;王青锐;赵元杰 -专利权人：西安工业大学
申请日： 2022-08-29 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： C08J7/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种蛋清薄膜及可降解有机‑无机薄膜晶体管的制备方法。蛋清薄膜的制备包括蛋清前驱液的制备；基片清洗与表面活化；蛋清薄膜的制备。可降解有机‑无机薄膜晶体管的制备包括醇基高k氧化物前驱液与水基TMOS前驱液的制备；蛋清薄膜的表面活化；醇基高k氧化物薄膜的制备；醇基高k氧化物薄膜的表面活化；水基TMOS薄膜的制备；源、漏电极的制备。本发明一方面获得大面积均匀的高k蛋清薄膜，另一方面借助醇基高k氧化物薄膜提高蛋清薄膜与水基TMOS薄膜间的制备兼容性，实现基于蛋清薄膜‑高k氧化物薄膜‑TMOS薄膜的全溶液可降解有机‑无机薄膜晶体管的制备，该薄膜晶体管展现出生物兼容、可降解、低成本、低温制备，低压驱动、低功耗的特点。
一种蛋清薄膜降解有机无机薄膜晶体管制备方法

[发明专利]一种金属氧化物薄膜及其制备方法、薄膜晶体管-CN202210873040.1有效
发明人：栗旭阳;弥谦;梁海锋;裴旭乐;赵元杰;张维佳 -专利权人：西安工业大学
申请日： 2022-07-21 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： H01L21/34 文献下载
摘要：本发明关于一种金属氧化物薄膜及其制备方法、薄膜晶体管。其中，金属氧化物薄膜的制备方法包括：在设定相对湿度的制备环境中，使金属氧化物前驱液在基片上形成金属氧化物湿膜，并对金属氧化物湿膜进行预退火处理得到预固化金属氧化物薄膜；对预固化金属氧化物薄膜进行等离子处理得到等离子激活的金属氧化物薄膜；对等离子激活的金属氧化物薄膜进行后退火处理得到金属氧化物薄膜。本发明通过制备环境相对湿度与预退火处理温度的相互配合，实现对预固化金属氧化物薄膜毛细流动性和疏松程度的调控，从而在保证甚至进一步扩大等离子激活工艺可调谐范围以及等离子处理对预固化薄膜低温激活效果的基础上，提高金属氧化物薄膜的抗等离子刻蚀损伤能力。
一种金属氧化物薄膜及其制备方法薄膜晶体管

[发明专利]一种点云交变磁流变抛光装置及方法-CN202110873692.0有效
发明人：阳志强;刘卫国;弥谦;郭忠达;李宏;杨利红;巩蕾;王利国;惠迎雪 -专利权人：西安工业大学
申请日： 2021-07-30 - 公布日： 2023-04-11 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种点云交变磁流变抛光装置及方法，包括：工装，平面光学元件，柔性抛光模，柔性抛光模的底端可移动设置在非导磁材料支撑板上，柔性抛光模的顶部与平面光学元件的底面接触；电磁铁磁场源，电磁铁磁场源包括多个阵列设置的电磁铁，多个电磁铁固定在非导磁材料支撑板的底面，相邻两个电磁铁通过铜线串接；本发明采用电磁铁作为励磁源用于驱动柔性抛光模的运动，柔性抛光模受到电磁铁磁场吸引力，就会顺着电磁铁产生磁场的顺序快速移动，进而柔性抛光模与平面光学元件表面具有了相对运动，形成剪切力，达到塑性去除平面光学元件的目的。
一种点云交变磁流变抛光装置方法

[发明专利]一种大口径光学元件的等离子体刻蚀方法-CN201910807901.4有效
发明人：惠迎雪;刘卫国;张进;徐均琪;边寒寒;杨梦熊;弥谦;陈智利 -专利权人：西安工业大学
申请日： 2019-08-29 - 公布日： 2022-08-02 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明公开一种大口径光学元件的等离子体刻蚀方法，该方法借鉴了射频磁控溅射镀膜技术中的射频反常辉光放电方式，可形成高密度大面积的等离子体，利用该装置耦合正交磁场的定向移动，可驱动等离子体产生定向的运动，实现光学元件表面由线及面的加工。引入活性气体被电离激发，利用真空系统固有的气体分配器所产生的流导场，引导自由基作用于工件表面，亦会带来材料刻蚀效率的提高。而通过射频电场的参数（如功率等），磁场的参数（如各磁极大小的变化，包括平衡和非平衡模式以及磁极定向移动的速度等），以及气体相关参数（包括气体的种类，流量和压力等），可对等离子体的种类，密度和分布进行精确的调控，实现了光学元件表面的高效率大面积等离子体抛光。
一种口径光学元件等离子体刻蚀方法

[发明专利]一种自由曲面光学元件定位方法和装置-CN202210075178.7在审
发明人：阳志强;刘卫国;周顺;弥谦;杨利红;巩蕾;王利国;郭忠达;李宏;李瑶 -专利权人：西安工业大学
申请日： 2022-01-22 - 公布日： 2022-04-29 - 主分类号： G02B7/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种自由曲面光学元件定位方法和装置，是一种方便、易实施、精度高、非接触的自由曲面光学元件定位方法和装置。装置包括机座和自由曲面光学元件定位光路，将自由曲面光学元件放置于机座上，根据利用自由曲面光学元件定位光路产生的光斑进行自由曲面光学元件的位置调整，实现定位。采用本发明方法可以实现加工、检测甚至后续装调基准的统一，实现自由曲面光学元件高精度加工、检测、装调基准的一致性控制，保证最终的光学系统性能。
一种自由曲面光学元件定位方法装置

[发明专利]一种TMO薄膜和TMO-TFT的超低温制备方法-CN202111199880.6在审
发明人：栗旭阳;弥谦;梁海峰;蔡长龙;潘永强;徐均琪 -专利权人：西安工业大学
申请日： 2021-10-14 - 公布日： 2022-03-01 - 主分类号： H01L21/336 文献下载
摘要：本发明提供了一种TMO薄膜和TMO‑TFT的超低温制备方法。该超低温制备方法包括：S1：制备TMO前驱液；S2：基片的清洗及表面活化；S3：预沉积TMO湿膜的制备；S4：对S3中获得的预沉积TMO湿膜进行预退火，获得预退火TMO薄膜；S5：对S4中获得的预退火TMO薄膜进行N2等离子处理或进行N2等离子处理与后退火，获得TMO薄膜；S6：将S5获得的TMO薄膜作为有源层制备TFT，获得TMO‑TFT。本发明在保证TMO薄膜具有良好半导体特性以及TMO‑TFT展现优异电学特性的同时，实现了TMO薄膜及TMO‑TFT的超低温制备，从而增强了TMO‑TFT与柔性基板的兼容性。
一种 tmo 薄膜 tft 超低温制备方法

[发明专利]一种衍射光学元件模压装置-CN201910096156.7有效
发明人：张锦;樊诗琪;蒋世磊;弥谦;孙国斌;王玉瑾;武耀霞 -专利权人：西安工业大学
申请日： 2019-01-31 - 公布日： 2021-04-06 - 主分类号： B29C51/10 文献下载
摘要：本发明涉及光学元件模压制造领域，具体涉及一种衍射光学元件模压装置。其可用于温度范围为室温至250℃，本装置脱模以及更换模具方便易操作，方便更换不同衍射结构的模具，在传统的热压成型方法基础上增加真空辅助成型功能，在真空腔内对模具和模压原材料进行加热和保温，并对模压原材料加压成型。本发明的技术方案包括机架和位于机架上部的升降机构、位于机架中部的真空腔机构和模压板机构，以及位于机架下部的脱模机构，所述的模压板机构设置于真空腔机构的真空腔内；升降机构带动模压板机构中的模压板上下运动，完成装置的合模热压印，脱模机构设置于机架的底部的导轨上，实现滑出脱模。
一种衍射光学元件模压装置

[发明专利]一种大口径反射镜电阻热蒸发镀膜装置-CN201911079503.1在审
发明人：潘永强;郭忠达;弥谦;王红军 -专利权人：西安工业大学
申请日： 2019-11-07 - 公布日： 2020-01-24 - 主分类号： C23C14/26 文献下载
摘要：本发明属真空镀膜领域，提供一种大口径反射镜电阻热蒸发镀膜装置。本发明提供的技术方案是：包括抽真空系统和抽真空系统、真空蒸镀室、蒸发源室，离子束辅助装置，膜厚控制装置；蒸发源室为多个独立的蒸发源室，均匀设置在真空蒸镀室的室壁上，每个蒸发源室和真空蒸镀室之间设置真空阀门；所述工件旋转装置设置在真空蒸镀室的底部中心处，工件旋转装置由反射镜支撑机构和旋转轴10和旋转电机组成；所述离子束辅助装置由多个离子源组成，设置于真空蒸镀室腔体的内壁上。采用本发明的装置避免了金属液滴喷溅、滴落等对膜层质量的影响，极大地降低了大口径反射镜镀膜过程中的风险。
真空蒸镀室蒸发源室大口径反射镜工件旋转装置抽真空系统离子束辅助反射镜支撑机构膜厚控制装置底部中心处电阻热蒸发镀膜过程镀膜装置金属液滴均匀设置旋转电机真空镀膜真空阀门对膜层离子源旋转轴滴落内壁腔体室壁

[发明专利]一种灵敏度高的光纤测距装置-CN201910784773.6在审
发明人：弥谦;员康 -专利权人：西安工业大学
申请日： 2019-08-23 - 公布日： 2019-11-22 - 主分类号： G01B11/02 文献下载
摘要：本发明涉及光纤传感测距技术领域，具体涉及一种灵敏度高的光纤测距装置由第一激光器，第二激光器、第一聚光准直透镜，成像透镜，第二聚光准直透镜、第一发送光纤，第二发送光纤、第一接收光纤，第二接收光纤、滤光分光镜、第二光电接收器，第一光电接收器组成，频率调制后的第一激光器和第二激光器分别发出相近波长激光，分别通过第一准直聚焦透镜和第二准直聚焦透镜进入第一发送光纤和第二发送光纤内，第一发送光纤的出光经滤光分光镜全透射，第二发送光纤的光经滤光分光镜全反射，透射光和反射光均通过成像透镜出射于被测物体上，经被测物体反射后原路返回，分别被第一光电接收器和第二光电接收器接收，成像透镜将第一发送光纤和第二发送光纤的端面成像在被测物体前。
发送光纤光电接收器激光器滤光分光镜被测物体成像透镜接收光纤聚焦透镜准直透镜聚光准直波长激光测距技术测距装置光纤传感频率调制原路返回反射光灵敏度全反射全透射透射光出射成像反射光纤

[发明专利]一种适用范围广的光纤测距装置-CN201910784782.5在审
发明人：弥谦;员康 -专利权人：西安工业大学
申请日： 2019-08-23 - 公布日： 2019-11-22 - 主分类号： G01B11/02 文献下载
摘要：本发明涉及光纤传感测距技术领域，具体涉及一种适用范围广的光纤测距装置。本发明提供的技术方案是：一种适用范围广的光纤测距装置，由第一激光器，第二激光器、第一聚光准直透镜，成像透镜，第二聚光准直透镜、第一发送光纤,第二发送光纤、第一接收光纤,第二接收光纤、分光镜、第二光电接收器，第一光电接收器组成，成像透镜将第一发送光纤和第二发送光纤的端面成像在被测物体前。两个像间距为d，经过光电转换，微弱信号放大，滤波等处理得到所测距离值。本发明可实现对任意反射面进行测量的目的，不需要提前标定，测量结果准确性、系统的稳定性和灵敏度高，同时可以改变测量距离的量程和分辨率。
发送光纤光电接收器测距装置成像透镜接收光纤准直透镜激光器聚光光纤被测物体测距技术改变测量光电转换光纤传感微弱信号灵敏度反射面分光镜分辨率标定量程滤波成像测量放大

[发明专利]一种大口径轴对称非球面测试方法及装置-CN201711116481.2有效
发明人：陈智利;弥谦;刘卫国;杨利红;阳志强;张进 -专利权人：西安工业大学
申请日： 2017-11-13 - 公布日： 2019-09-10 - 主分类号： G01B21/20 文献下载
摘要：本发明涉及光学加工与测量技术领域，具体涉及一种大口径轴对称非球面测试方法及装置。其实现大口径非球面的精确测量，可将探针式接触测量设备的测量量程增大80%，实现大口径光学表面的检测测量。本发明采用探针式轮廓仪进行表面轮廓测量时，测针在测量杆的带动下沿非球面表面做横向运动，随零件表面轮廓的形状进行纵向扫描，从而改变了测量光路与参考光路之间的光程差，使干涉条纹发生移动，对测量结果进行分析，得到非球面的测量偏差数据，实现了大口径零件的检测和分析。
一种口径轴对称球面测试方法装置

[实用新型]一种光学元件用抛光装置-CN201821824667.3有效
发明人：阳志强;郭忠达;李宏;李世杰;弥谦;刘卫国;惠迎雪 -专利权人：西安工业大学
申请日： 2018-11-07 - 公布日： 2019-07-23 - 主分类号： B24B13/00 文献下载
摘要：本实用新型提出一种光学元件用抛光装置，可大大降低设备的精度要求，易于实现，加工效率可以得到大幅提高。本实用新型采用的技术方案包括包括抛光头、用于旋转抛光头的旋转组件和用于固定工件的固定器；所述的抛光头为中心设置有通孔的柱状体，其圆周面上的外轮廓线方程与被加工非球面光学元件过顶点的截面线方程一致，抛光头的圆周面上粘接有研磨抛光材料；抛光头通过旋转组件使其旋转，工件通过固定器固定，工件和抛光头的圆周面外轮廓接触。
抛光头本实用新型光学元件抛光装置旋转组件固定器非球面光学元件研磨抛光材料固定工件加工效率降低设备精度要求外轮廓线旋转抛光中心设置截面线外轮廓圆周面柱状体通孔粘接加工

[发明专利]非球面光学元件的抛光方法和装置-CN201811317107.3在审
发明人：阳志强;郭忠达;李宏;李世杰;弥谦;刘卫国;惠迎雪 -专利权人：西安工业大学
申请日： 2018-11-07 - 公布日： 2019-03-26 - 主分类号： B24B13/00 文献下载
摘要：本发明提出一种非球面光学元件的抛光方法和装置，可大大降低设备的精度要求，易于实现，加工效率可以得到大幅提高。本发明抛光方法采用柱状抛光头进行高速旋转抛光，所述抛光头的轮廓线方程与被加工非球面光学元件过顶点的截面线方程一致，高速旋转过程中，抛光头轮廓线与被加工非球面光学元件过顶点的轮廓线为线接触方式，其装置包括抛光头、用于旋转抛光头的旋转组件和用于固定工件的固定器；所述的抛光头为中心设置有通孔的柱状体，其圆周面上的外轮廓线方程与被加工非球面光学元件过顶点的截面线方程一致，抛光头的圆周面上粘接有研磨抛光材料；抛光头通过旋转组件使其旋转，工件通过固定器固定，工件和抛光头的圆周面外轮廓接触。
抛光头非球面光学元件抛光轮廓线方法和装置旋转组件固定器截面线加工高速旋转过程研磨抛光材料线接触方式固定工件加工效率降低设备精度要求外轮廓线旋转抛光中心设置外轮廓圆周面柱状体通孔粘接柱状

[发明专利]一种光学元件超光滑表面的抛光装置及抛光方法-CN201810898314.6在审
发明人：弥谦;李宏;郭忠达;潘永强;秦琳 -专利权人：西安工业大学
申请日： 2018-08-08 - 公布日： 2018-12-18 - 主分类号： B24C1/08 文献下载
摘要：本发明涉及光学元件超光滑表面抛光技术领域，具体涉及一种光学元件超光滑表面的抛光装置及抛光方法。来克服现有技术存在的抛光效率低，需高精度数控机床控制，以及大面积去除出现波度误差的情况。本抛光装置为轴对称结构，包括管道和中间供液的磨头，磨头下端的抛光面为平面，沿圆心在抛光面上等间距设置有数个环状沟槽，环状沟槽分布于抛光面的外圆处；管道将抛光液输送到磨头中心,抛光液为牛顿流体，在压力的作用下抛光液从磨头中心向四周流动，在磨头的抛光面与工件之间形成液膜将磨头与工件隔离开，磨头漂浮在工件表面上，流体流经抛光区域，在抛光面的凹槽处形成涡流，斜入射到工件表面，对工件表面产生剪切力，实现材料的去除。
抛光磨头超光滑表面工件表面光学元件抛光装置抛光液环状沟槽磨头中心抛光面去除高精度数控机床抛光技术领域涡流等间距设置轴对称结构圆心牛顿流体抛光区域抛光效率凹槽处剪切力外圆处斜入射波度供液流体液膜漂浮隔离流动

[发明专利]一种干涉曝光简易立式基片台-CN201810876389.4在审
发明人：孙国斌;王玉瑾;张锦;弥谦;蒋世磊;马丽娜;党小刚 -专利权人：西安工业大学
申请日： 2018-08-03 - 公布日： 2018-12-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明属于多光束干涉光刻曝光技术领域，具体涉及一种干涉曝光简易立式基片台。其价格低、体积小、重量轻、组合自由，能良好的固定和调整控制基片在多光束干涉光刻系统中完成曝光。本发明的技术方案包括底座，所述的底座上设置有六自由度组合移动台，六自由度组合移动台上设置有真空吸盘组件。
多光束干涉六自由度组合移动曝光底座简易真空吸盘组件调整控制光刻曝光光刻系统台本发明基片台体积小重量轻干涉自由

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