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- [发明专利]中心波长渐变的带通滤光片制备方法-CN201510562808.3在审
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潘永强;弥谦;韩军;宋俊杰;杭凌侠
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西安工业大学
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2015-09-07
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2015-11-25
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G02B5/20
- 本发明公开了一种中心波长渐变的带通滤光片制备方法,根据带通滤光片中心波长的位置与间隔层光学厚度成正比的关系在真空室中采用等离子体增强化学气相沉积完成第一高反射膜堆和间隔层的制备,然后在真空室中采用离子束刻蚀和掩模板组合技术对不同位置处的间隔层进行不同的厚度刻蚀,使对应不同中心波长的间隔层形成阶梯状台阶,最后再采用等离子体增强化学气相沉积完成第二高反射膜堆的制备,即获得中心波长渐变的带通滤光片。本发明所提供的中心波长渐变滤光片的制备方法只需经过一次第一高反射膜1和间隔层的镀制、离子束与掩模组合刻蚀、第二高反射膜堆的镀制就可完成n个中心波长渐变滤光片的制备,方法简单、效率高。
- 中心波长渐变滤光制备方法
- [发明专利]玻璃微珠型防伪薄膜及其制备方法-CN201210342168.1无效
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潘永强;宋俊杰;弥谦;杭凌侠;蔡长龙
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西安工业大学
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2012-09-17
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2013-01-30
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B32B27/14
- 本发明涉及一种玻璃微珠型防伪薄膜及其制备方法。本发明提供的一种玻璃微珠型防伪薄膜,由下至上依次包括基材、粘结层、一侧镀有介质分光膜的玻璃微珠层和保护层。提供的两种制备方法:一是先对柔性基底上的玻璃微珠制作出图文信息;再在玻璃微珠露出一侧沉积分光膜;然后将玻璃微珠转移到基材上,在露出的玻璃微珠的表面上喷保护层。二是先在柔性基底上玻璃微珠一侧沉积分光膜;再对基材上的粘结层进行图文化处理后将玻璃微珠的镀膜面镶嵌到图文化后的粘结层中,在玻璃微珠上喷保护层。本发明透明、技术壁垒高、防伪力度大,光角变色明显,易于识别,既可广泛应用于各类商品标识、证件,也可用于柔性基材的防伪,如各类服装等。
- 玻璃微珠型防伪薄膜及其制备方法
- [实用新型]一种具有超大离子束发散角的离子源-CN201220376962.3有效
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徐均琪;苏俊宏;惠迎雪;杭凌侠;弥谦;严一心
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西安工业大学
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2012-08-01
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2013-01-30
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C23C14/46
- 本实用新型涉及一种用在光学真空镀膜机(离子束辅助沉积设备)或离子束溅射及刻蚀设备中的离子源,特别涉及一种具有超大离子束发散角的离子源。其技术方案是:包括气体放电室,气体放电室的一端设置有绝缘端盖,绝缘端盖外部设置有聚焦磁场产生单元和磁场扫描单元。本实用新型通过一组正交的磁场,对引入磁场中的离子束方向进行控制,通过设定X、Y方向电磁线圈的电压变化规律,可以实现离子束的空间扫描。调节电磁线圈的电流大小,就可以实现离子束的空间发散角控制。与现有技术相比,本实用新型的优点是:1.离子源输出的离子束发散角可达180°;2.离子束发散角可以根据实际需要进行调节,可满足不同薄膜沉积过程的需要;3.离子束流密度的均匀性好。
- 一种具有超大离子束发散离子源
- [发明专利]具有超大离子束发散角的离子源-CN201210270460.7有效
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徐均琪;苏俊宏;惠迎雪;杭凌侠;弥谦;严一心
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西安工业大学
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2012-08-01
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2012-11-14
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H01J37/08
- 本发明涉及一种用在光学真空镀膜机(离子束辅助沉积设备)或离子束溅射及刻蚀设备中的离子源,特别涉及一种具有超大离子束发散角的离子源。其技术方案是:包括气体放电室,气体放电室的一端设置有绝缘端盖,绝缘端盖外部设置有聚焦磁场产生单元和磁场扫描单元。本发明通过一组正交的磁场,对引入磁场中的离子束方向进行控制,通过设定X、Y方向电磁线圈的电压变化规律,可以实现离子束的空间扫描。调节电磁线圈的电流大小,就可以实现离子束的空间发散角控制。与现有技术相比,本发明的优点是:1、离子源输出的离子束发散角可达180°;2、离子束发散角可以根据实际需要进行调节,可满足不同薄膜沉积过程的需要;3、离子束流密度的均匀性好。
- 具有超大离子束发散离子源
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