专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]圆形径向渐变中性密度滤光片及其制备方法和装置-CN201610007844.8有效
  • 潘永强;弥谦;徐均琪;宋俊杰 - 西安工业大学
  • 2016-01-07 - 2018-09-14 - G02B5/20
  • 本发明涉及光能量衰减光学元件制造领域,具体涉及一种圆形径向渐变中性密度滤光片及其制备方法和装置。解决了目前圆形渐变密度滤光片透射率只能在0‑270°扇形区域内沿极坐标角度方向线性变化,而不能在径向渐变的问题,实现了光通量在圆形滤光片径向上的线性递增和线性递减变化,基片上透射率沿半径方向线性渐变的功能。本发明滤光片依次包括基片和镀制在其上的膜层,膜层为金属铬(Cr)或Ni‑Cr,制备方法采用电子束热蒸发技术或磁控溅射技术制备金属Cr或Ni‑Cr薄膜,其中的关键是实现圆形基片上透射率在径向上的线性渐变需要一种专用的装置,所述装置包括,真空室,可旋转的基片架,与基片旋转轴同轴且固定不动的圆形遮挡板,以及蒸发源。
  • 圆形径向渐变中性密度滤光及其制备方法装置
  • [发明专利]溶胶制备光学元件的装置及其制备方法-CN201710685054.X在审
  • 郭忠达;牛小玲;李宏;刘卫国;弥谦;阳志强;李世杰;张宏普;刘欢 - 西安工业大学
  • 2017-08-11 - 2017-12-15 - C03B19/12
  • 本发明公开了一种溶胶制备光学元件的装置及其制备方法,该装置包括溶胶准备装置、溶胶混合仓、溶胶搅拌器、高压气体发生器、激光照射装置、基片载台和计算机控制系统;原料准备装置与原料混合仓连通,原料搅拌器设置于原料混合仓中以进一步搅拌混合后的溶胶原料,高压气体发生器将混合后的溶胶原料通过其末端设置的喷嘴喷射至基片载台上方设置的基片上,基片上方正对设置激光照射装置。本发明的方法直接由溶胶制备光学元件,根据光学元件的不同种类完成溶胶原料配液混合、基片表面溶胶层覆膜和溶胶层激光烧结,进而完成元件制备。通过这种装置和方法制备的光学元件的形状大小可控,极大的节约了光学元件的制备时间、提高了光学元件的质量和精度。
  • 溶胶制备光学元件装置及其方法
  • [发明专利]多光束干涉光刻辅助曝光装置-CN201510491702.9有效
  • 张锦;马丽娜;蒋世磊;孙国斌;杭凌侠;弥谦 - 西安工业大学
  • 2015-08-12 - 2017-03-08 - G03F7/20
  • 本发明公开了一种多光束干涉光刻辅助曝光装置,包括底座、光阑吸附底座、辅助曝光光阑、基片旋转台,所述光阑吸附底座、基片旋转台设置在底座上,所述辅助曝光光阑设置在光阑吸附底座上,所述辅助曝光光阑上设置有开孔,所述基片旋转台上设置有第一读数指针,并且所述基片旋转台靠近光阑吸附底座的侧面设置有基片吸盘,所述基片吸盘中心设置有抽气孔。本发明结构简单合理,便于基片安装调整,能够实现基片不同位置的单、多次曝光,提高多次曝光的重合度,调整无需碰触基片,减少基片污损概率,辅助曝光光阑更换方便,适用于不同的需求。
  • 光束干涉光刻辅助曝光装置
  • [发明专利]采用闪耀光栅的激光干涉光刻系统-CN201510706206.0在审
  • 张锦;孙国斌;蒋世磊;弥谦;杭凌侠;马丽娜 - 西安工业大学
  • 2015-10-27 - 2016-01-13 - G03F7/20
  • 本发明公开了一种采用闪耀光栅的激光干涉光刻系统,该激光干涉光刻系统包括光源组件、扩束准直组件、多光束分光及合束组件、基片台,所述光源组件包括相干光源、第一透镜、第二透镜、闪耀光栅,所述相干光源发出的激光束依次经第一透镜、第二透镜后,再经反射镜折转光路后照射在闪耀光栅上,经闪耀光栅衍射后波长等于一级闪耀波长的光束经过小孔光阑出射,再经所述扩束准直组件、多光束分光及合束组件后分成多个相干光束并同时汇聚照射在位于基片台上的基片表面。本发明具有光能利用率高、相干长度长的优点,既增加了光路调整的灵活性和宽容度,又降低了激光光源谱线宽度要求,扩大了激光光源的选择范围。
  • 采用闪耀光栅激光干涉光刻系统
  • [发明专利]中心波长渐变的带通滤光片制备方法-CN201510562808.3在审
  • 潘永强;弥谦;韩军;宋俊杰;杭凌侠 - 西安工业大学
  • 2015-09-07 - 2015-11-25 - G02B5/20
  • 本发明公开了一种中心波长渐变的带通滤光片制备方法,根据带通滤光片中心波长的位置与间隔层光学厚度成正比的关系在真空室中采用等离子体增强化学气相沉积完成第一高反射膜堆和间隔层的制备,然后在真空室中采用离子束刻蚀和掩模板组合技术对不同位置处的间隔层进行不同的厚度刻蚀,使对应不同中心波长的间隔层形成阶梯状台阶,最后再采用等离子体增强化学气相沉积完成第二高反射膜堆的制备,即获得中心波长渐变的带通滤光片。本发明所提供的中心波长渐变滤光片的制备方法只需经过一次第一高反射膜1和间隔层的镀制、离子束与掩模组合刻蚀、第二高反射膜堆的镀制就可完成n个中心波长渐变滤光片的制备,方法简单、效率高。
  • 中心波长渐变滤光制备方法
  • [发明专利]光学薄膜的膜厚监控方法及非规整膜系光学膜厚仪-CN201410114949.4无效
  • 弥谦;杭凌侠;潘永强 - 西安工业大学
  • 2014-03-26 - 2014-06-11 - C23C14/54
  • 本发明涉及一种光学薄膜的膜厚监控方法及非规整膜系光学薄厚仪。现有技术存在的精度不高、难以得到良好的重复性、后续处理操作繁琐、对设备的稳定程度要求较高和成本高的问题。一种光学薄膜的膜厚监控方法,采用相同膜料进行预镀;调整;消除直流分量;通过数学处理可以得到近似的三角波;非规整膜系光学薄厚仪,包括单一波长的激光光源、比较片、光电探测器、放大器和计算机,出射光光路上有调制器和分束器,比较片上有四片相同膜料进行预镀且薄膜光学厚度分别相差为λ/8的薄膜;光电探测器采用四象限探测器。本发明方法实现非规整膜系的监控,设备测量精度高,信号稳定。
  • 光学薄膜监控方法规整光学膜厚仪
  • [发明专利]玻璃微珠型防伪薄膜及其制备方法-CN201210342168.1无效
  • 潘永强;宋俊杰;弥谦;杭凌侠;蔡长龙 - 西安工业大学
  • 2012-09-17 - 2013-01-30 - B32B27/14
  • 本发明涉及一种玻璃微珠型防伪薄膜及其制备方法。本发明提供的一种玻璃微珠型防伪薄膜,由下至上依次包括基材、粘结层、一侧镀有介质分光膜的玻璃微珠层和保护层。提供的两种制备方法:一是先对柔性基底上的玻璃微珠制作出图文信息;再在玻璃微珠露出一侧沉积分光膜;然后将玻璃微珠转移到基材上,在露出的玻璃微珠的表面上喷保护层。二是先在柔性基底上玻璃微珠一侧沉积分光膜;再对基材上的粘结层进行图文化处理后将玻璃微珠的镀膜面镶嵌到图文化后的粘结层中,在玻璃微珠上喷保护层。本发明透明、技术壁垒高、防伪力度大,光角变色明显,易于识别,既可广泛应用于各类商品标识、证件,也可用于柔性基材的防伪,如各类服装等。
  • 玻璃微珠型防伪薄膜及其制备方法
  • [实用新型]一种具有超大离子束发散角的离子源-CN201220376962.3有效
  • 徐均琪;苏俊宏;惠迎雪;杭凌侠;弥谦;严一心 - 西安工业大学
  • 2012-08-01 - 2013-01-30 - C23C14/46
  • 本实用新型涉及一种用在光学真空镀膜机(离子束辅助沉积设备)或离子束溅射及刻蚀设备中的离子源,特别涉及一种具有超大离子束发散角的离子源。其技术方案是:包括气体放电室,气体放电室的一端设置有绝缘端盖,绝缘端盖外部设置有聚焦磁场产生单元和磁场扫描单元。本实用新型通过一组正交的磁场,对引入磁场中的离子束方向进行控制,通过设定X、Y方向电磁线圈的电压变化规律,可以实现离子束的空间扫描。调节电磁线圈的电流大小,就可以实现离子束的空间发散角控制。与现有技术相比,本实用新型的优点是:1.离子源输出的离子束发散角可达180°;2.离子束发散角可以根据实际需要进行调节,可满足不同薄膜沉积过程的需要;3.离子束流密度的均匀性好。
  • 一种具有超大离子束发散离子源
  • [实用新型]一种视网膜显示装置-CN201220242178.3有效
  • 阳志强;郭忠达;陈智利;弥谦;杭凌侠;张宏普 - 西安工业大学
  • 2012-05-28 - 2012-12-26 - G02B27/01
  • 本实用新型专利属于光学仪器技术领域,涉及一种新型的近眼显示装置,特别是指一种视网膜显示装置。现有头盔显示技术存在视场遮挡,体积大和重量重的缺点。为了克服现有技术存在的问题,本实用新型专利采用的技术方案为:一种视网膜显示装置,包括光源模块和扩束准直模块,还包括显示芯片模块和滤波投影模块,滤波投影模块由光路上依次设置的滤波透镜组、小孔光阑、投射透镜组和透明平面镜组成。本实用新型结构简单,体积小,重量轻,能够让显示芯片中的图像清晰的被人眼所感知,同时不遮挡人的视野,是一种理想的近眼显示技术。
  • 一种视网膜显示装置
  • [发明专利]具有超大离子束发散角的离子源-CN201210270460.7有效
  • 徐均琪;苏俊宏;惠迎雪;杭凌侠;弥谦;严一心 - 西安工业大学
  • 2012-08-01 - 2012-11-14 - H01J37/08
  • 本发明涉及一种用在光学真空镀膜机(离子束辅助沉积设备)或离子束溅射及刻蚀设备中的离子源,特别涉及一种具有超大离子束发散角的离子源。其技术方案是:包括气体放电室,气体放电室的一端设置有绝缘端盖,绝缘端盖外部设置有聚焦磁场产生单元和磁场扫描单元。本发明通过一组正交的磁场,对引入磁场中的离子束方向进行控制,通过设定X、Y方向电磁线圈的电压变化规律,可以实现离子束的空间扫描。调节电磁线圈的电流大小,就可以实现离子束的空间发散角控制。与现有技术相比,本发明的优点是:1、离子源输出的离子束发散角可达180°;2、离子束发散角可以根据实际需要进行调节,可满足不同薄膜沉积过程的需要;3、离子束流密度的均匀性好。
  • 具有超大离子束发散离子源
  • [实用新型]一种用于真空系统中的油扩散泵加热装置-CN201120095615.9无效
  • 徐均琪;惠迎雪;梁海锋;弥谦;杭凌侠;苏俊宏 - 西安工业大学
  • 2011-04-02 - 2011-09-21 - F04F9/00
  • 本实用新型涉及油扩散泵技术领域,具体涉及一种用于真空系统中的油扩散泵加热装置。现有的加热方式使用不方便:电阻丝很容易烧断,需要经常更换;影响产品的质量:加热方式不稳定,影响真空系统的正常工作;热效率低;生产效率低。为克服现有技术存在的问题,本实用新型提供的一种用于真空系统中的油扩散泵的加热装置,其特征在于:包括依次相接的励磁线圈、高频电源和控制器,励磁线圈的外侧设置有上部敞开的磁屏蔽外壳。本实用新型改变了原有的加热方式,利用电磁感应的方式,直接在底板内产生涡流,最终实现加热扩散泵油的目的。本实用新型的优点是:热效率高、升温迅速、易于温控、拆卸方便,加热装置的使用寿命长,使用更方便。
  • 一种用于真空系统中的扩散加热装置

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