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[发明专利]一种智能化的卷绕镀膜方法-CN202110729846.9有效
发明人：李成林;郝明;杜雪峰 -专利权人：辽宁分子流科技有限公司
申请日： 2021-06-29 - 公布日： 2022-07-15 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明公开了一种智能化的卷绕镀膜方法，在一种智能卷绕镀膜生产线上实施，该智能卷绕镀膜生产线包括镀膜工作区、卷材存放区、智能控制中心和智能卷材装卸系统；镀膜工作区布置有2台以上的卷绕镀膜机；智能卷材装卸系统主要包括装卸执行单元和轨道，轨道途径镀膜工作区和卷材存放区；卷材存放区中分区存放有载有不同种类卷材的卷辊，不同的分区以分区条码为标识；该卷绕镀膜方法主要包括镀膜工作过程、卷材装卸工作过程和卷材存放及取出工作过程，这3个工作过程均由智能控制中心自主控制完成智能控制中心对各卷绕镀膜机的镀膜过程信息进行实时采集并形成过程文件，该过程文件与每卷完成镀膜的柔性薄膜卷材的产品条码一一映射。
一种智能化卷绕镀膜方法

[发明专利]碳纤维复合材料表面薄膜沉积过程防止层间放气的方法-CN202011464917.9在审
发明人：赵栋才;周晖;吴春华;武生虎;何延春;杨拉毛草;李学磊;马占吉;肖更竭;王虎;杨淼 -专利权人：兰州空间技术物理研究所
申请日： 2020-12-14 - 公布日： 2021-05-07 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种碳纤维复合材料表面薄膜沉积过程防止层间放气的方法，镀膜过程采用间歇性控制策略，间歇性的检验依据是气压检测，和初始工作气压相比，镀膜过程中真空室内气压升高设定比例为镀膜暂停判据，暂停镀膜至温度降低，然后重新启动镀膜，直至完成整个镀膜过程；本发明能够有效的防止镀膜过程中的升温，而导致的复合材料出气污染介质膜层，保持膜层的性能。
碳纤维复合材料表面薄膜沉积过程防止放气方法

[实用新型]一种旋转式真空镀膜机用自转夹具-CN202120754986.7有效
发明人：魏文杰;黄余;阳锐;袁超;李浩 -专利权人：四川华岩机械设备制造有限公司
申请日： 2021-04-13 - 公布日： 2021-11-19 - 主分类号： C23C14/50 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种旋转式真空镀膜机用自转夹具，涉及镀膜加工技术领域。该旋转式真空镀膜机用自转夹具，包括环形放置台，所述环形放置台上设置有转动机构，转动机构上设置有夹紧机构，环形放置台的底部固定安装有电机。该旋转式真空镀膜机用自转夹具，能够在镀膜零件进行夹紧的过程中实现自转，这样能够在镀膜的过程中将零件的所有角落都能进行镀膜，避免零件的死角在镀膜的过程中镀膜不上或者镀膜不均匀的情况，影响镀膜后零件的质量，从而通过自转的设置能够极大程度的提高镀膜的效率，四组夹紧箱在镀膜的过程中能够同时对四组零件进行镀膜处理，这样能够提高其镀膜零件的数量，从而提高零件镀膜时的工作效率。
一种旋转真空镀膜自转夹具

[发明专利]PVD镀膜的方法及PVD镀膜装置-CN202011050399.6在审
发明人：陈坚毅;尹万锋;薛涛 -专利权人：维达力实业（深圳）有限公司
申请日： 2020-09-29 - 公布日： 2021-01-29 - 主分类号： C23C14/54 文献下载
摘要：本发明涉及一种PVD镀膜的方法和PVD镀膜装置，所述方法采用控制镀膜过程中镀膜工件的转动圈数的方式控制镀膜时间。该方法采用控制镀膜过程中镀膜工件的转动圈数的方式控制镀膜时间，能够有效保证在沉积开启时间内镀膜工件经过沉积源有效区的时间相同，从而提高膜层在转架圆周方向上的膜厚均匀性。
pvd 镀膜方法装置

[发明专利]改善晶圆镀膜均匀性的方法及系统-CN202210039033.1在审
发明人：高玉龙 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2022-01-13 - 公布日： 2023-07-25 - 主分类号： C25D7/12 文献下载
摘要：本公开提供了一种改善晶圆镀膜均匀性的方法及系统，所述改善晶圆镀膜均匀性的方法包括：提供镀膜设备；提供晶圆，所述镀膜设备用于向所述晶圆镀膜；在镀膜过程中，监测所述晶圆表面不同区域的电流；当所述晶圆表面不同区域的电流的差值大于预设差值时，检查所述镀膜设备；当所述镀膜设备上有附着物时，对所述镀膜设备进行清洗。上述技术方案，通过在镀膜过程中，监测所述晶圆表面不同区域的电流，能够及时发现镀膜过程中晶圆表面存在的镀膜不均匀的区域；当所述晶圆表面不同区域的电流的差值大于预设差值时，检查所述镀膜设备，以确定所述镀膜设备中需要维护的零部件；当所述镀膜设备上有附着物时，清洗所述镀膜设备，改善晶圆镀膜的均匀性。
改善镀膜均匀方法系统

[发明专利]镀膜装置和镀膜系统-CN202310213057.9在审
发明人：吴景扬;简昆峰;高维笛;林瓘丞;周宗震 -专利权人：业成科技（成都）有限公司;业成光电（深圳）有限公司;业成光电（无锡）有限公司;英特盛科技股份有限公司
申请日： 2023-03-06 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本申请涉及一种镀膜装置和镀膜系统，镀膜装置包括镀膜腔体、镀膜单元和移动机构。镀膜腔体用于容纳待镀膜件。镀膜单元设于镀膜腔体内，镀膜单元包括靶材。镀膜腔体的安装部具有开口，靶材被配置为能够借助开口而向待镀膜件溅射靶原子。移动机构设于镀膜腔体内，移动机构用于移载待镀膜件，以使待镀膜件在移动过程中具有对位于镀膜单元的镀膜位置。其中，待镀膜件处于镀膜位置时，待镀膜件的待镀膜面朝向开口，且待镀膜面与开口所在的平面相平行。本申请中的镀膜装置，通过移动机构移载待镀膜件，待镀膜件在经过镀膜单元中安装部上的开口的过程中，待镀膜件的待镀膜面上各处的镀膜条件一致，提高了镀膜的镀率一致性，进而提高了镀膜的均匀性。
镀膜装置系统

[实用新型]镀膜装置及镀膜设备-CN201821160300.6有效
发明人：柯荣峰 -专利权人：张家港康得新光电材料有限公司
申请日： 2018-07-20 - 公布日： 2019-03-22 - 主分类号： C23C14/22 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种镀膜装置及镀膜设备，涉及镀膜技术领域，为解决基材在镀膜过程中，由于镀膜构件与周围环境之间存在热传递，热量由镀膜构件传递至镀膜基材的过程中，会出现热量损失，从而使镀膜基材的温度达不到镀膜工艺所要求温度的技术问题涉及一种镀膜装置，包括：能够产生热量的镀膜构件和用于吸收部分热量损失的盖体；镀膜构件和盖体之间设有用于待镀膜基材进入的空间。还涉及一种镀膜设备，包括：上述的镀膜装置。该镀膜装置及镀膜设备能够减少热量的损失，从而使镀膜基材能够达到工艺所要求的温度，提高成膜质量。
镀膜装置镀膜设备镀膜镀膜基材热量损失盖体本实用新型待镀膜基材镀膜工艺镀膜过程镀膜技术构件传递热传递成膜基材吸收

[发明专利]于光学镀膜时通过透过式光控计算镀膜材料折射率的方法-CN202310088820.X在审
发明人：周荣铿 -专利权人：贵州铜仁旭晶光电科技有限公司
申请日： 2023-02-09 - 公布日： 2023-05-05 - 主分类号： G16C60/00 文献下载
摘要：本发明公开一种于光学镀膜时通过透过式光控计算镀膜材料折射率的方法，其包括获取未镀膜平面监控片于真空状态下的透过率T0；计算未镀膜平面监控片于所述真空状态下的单面反射率系数R0和折射率Ns；获取镀膜过程中的镀膜材料的最值透过率T；计算镀膜材料的最值透过系数Te和于光学镀膜状态下的镀膜材料折射率Nf。本发明提供的于光学镀膜时通过透过式光控计算镀膜材料折射率的方法，基于透射式光控原理，实现获得于光学镀膜过程中镀膜材料的精确折射率的计算过程和公式，该方法对于光学镀膜透过式监控的平面玻璃监控片监控具有普适性
光学镀膜通过透过光控计算材料折射率方法

[发明专利]一种半球形工件高均匀性镀膜装置及方法-CN202211146558.1在审
发明人：白峻杰;李钱陶;赵明强 -专利权人：华中光电技术研究所（中国船舶重工集团公司第七一七研究所）
申请日： 2022-09-20 - 公布日： 2023-01-06 - 主分类号： C23C14/50 文献下载
摘要：本发明涉及异形工件镀膜领域，具体涉及一种半球形工件高均匀性镀膜装置及方法。本发明创新性的采用在镀膜过程中驱动镀膜机靶枪的方式，使靶枪在镀膜过程中调整倾斜角度，进而提高半球形工件表面镀膜均匀性；另外通过一种半球形镀膜均匀性测试工装，完成多个不同倾斜角度下靶枪镀膜厚度和均匀性的标定，从而确定不同倾斜角度下靶枪对半球形工件各点的镀膜厚度，进而计算靶枪在整个半球形工件镀膜过程中各个角度下的时间占比，从而达到大幅度优化半球形工件镀膜均匀性的目的。该种方法经实测，半球形工件镀膜均匀性优于±2％。
一种半球形工件均匀镀膜装置方法

[发明专利]镀膜用基板支架、镀膜设备及镀膜方法-CN200610034599.6有效
发明人：陈杰良 -专利权人：鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
申请日： 2006-03-21 - 公布日： 2007-09-26 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明提供一种镀膜用基板支架、镀膜设备及一种镀膜方法。所述镀膜设备包括：一个镀膜腔；一个用于设置基板的基板支架；及至少一个膜料蒸发源。所述基板支架和膜料蒸发源都设于镀膜腔中。所述基板支架能够在一定角度范围内摆动，以在镀膜过程中改变基板与所述膜料蒸发源发出的蒸汽流之间的夹角。所述镀膜方法在镀膜过程中不断改变基板与膜料蒸发源产生的蒸汽流之间的夹角。所述镀膜设备及其镀膜方法在镀膜过程中能不断改变基板与所述膜料蒸发源发出的蒸汽流之间的夹角，使得光学薄膜光学性能基本各向同性，从而提高光学薄膜的光学性能。
镀膜用基板支架设备方法

[发明专利]多孔金属及其制备方法和制造设备-CN202110631300.X有效
发明人：黄佳伟;张刚;张帆;徐飞飞;胡磊;贾泽峰;仲勇;房雷 -专利权人：江苏中天科技股份有限公司;中天超容科技有限公司
申请日： 2021-06-07 - 公布日： 2023-04-11 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：多孔金属制备方法包括：准备指定孔隙率的基材，基材移送至第一镀膜室，对基材进行一级真空镀膜，在基材的表面沉积多孔基层，形成第一过程产品；第一过程产品移送至第二镀膜室，对第一过程产品进行二级真空镀膜，在多孔基层表面沉积多孔加强层，烧除基材，形成第二过程产品；第二过程产品移送至第三镀膜室，对第二过程产品进行三级真空镀膜，在多孔加强层的表面沉积一层多孔覆盖层，形成多孔金属产品。上述多孔金属制备方法通过在多孔基材进行多次真空镀膜，并在真空镀膜过程中烧除基材，保证了成品孔隙率及孔径分布，降低了单位制作成本。
多孔金属及其制备方法制造设备

[发明专利]一种生产TCO镀膜玻璃的方法-CN201210360131.1无效
发明人：何光俊;方立;姚志涛;马文政;刘亚南 -专利权人：上海北玻玻璃技术工业有限公司;上海北玻镀膜技术工业有限公司;洛阳北方玻璃技术股份有限公司
申请日： 2012-09-25 - 公布日： 2012-12-19 - 主分类号： C03C17/245 文献下载
摘要：本发明提供了一种生产TCO镀膜玻璃的方法，步骤包括：步骤1，环境温度下进行真空溅射镀膜；步骤2，真空退火，退火温度为50~500℃，退火时间为5~150min。发明所述的方法，通过对镀膜过程和加热过程进行分步骤完成，避免了溅射镀膜过程中的加热对TCO镀膜玻璃物理性能分布均匀性的影响，有助于提高TCO镀膜玻璃的品质，降低生产成本。
一种生产 tco 镀膜玻璃方法

[发明专利]镀膜材料存放装置、真空镀膜设备及真空镀膜方法-CN202111639074.6有效
发明人：刘玮;朱昆;曹健辉;陈惠君;颜学庆;刘晓兰 -专利权人：广东省新兴激光等离子体技术研究院;等离子体装备科技（广州）有限公司
申请日： 2021-12-28 - 公布日： 2022-11-04 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本申请涉及一种镀膜材料存放装置、真空镀膜设备及真空镀膜方法，所述镀膜材料存放装置包括：连接真空腔室的密封腔室，用于放置真空镀膜设备镀膜使用的镀膜材料；设于密封腔室与真空腔室接合处的真空阀门，用于连通或者分隔密封腔室与真空腔室；连接真空阀门的驱动装置，用于驱动打开或者关闭真空阀门；连接驱动装置的控制装置，用于控制驱动装置在镀膜过程中打开真空阀门，在镀膜后关闭真空阀门，对密封腔室内的镀膜材料进行密封保护；该技术方案，避免了密封腔室内的镀膜材料与空气接触发生反应或者被吸附污染，保证了镀膜材料的纯度，使得在镀膜过程中，无需频繁清洁镀膜材料，提高了镀膜效率，也提升了镀膜效果。
镀膜材料存放装置真空镀膜设备方法

[发明专利]单晶电池片、光伏组件及可抑制点状污染出现的镀膜方法-CN202110587116.X在审
发明人：厉文斌;何悦;任勇 -专利权人：横店集团东磁股份有限公司
申请日： 2021-05-27 - 公布日： 2022-11-29 - 主分类号： H01L31/18 文献下载
摘要：本发明提供了一种单晶电池片、光伏组件及可抑制点状污染出现的镀膜方法。该方法包括：将含氧化铝镀层的电池片置于石墨舟中，并将其置于镀膜装置的镀膜腔体；使镀膜腔体进行第一次抽真空过程和第一次升温过程，第一次升温过程的压力为常压；采用第一清洗气对含氧化铝镀层的电池片进行第一清洗过程；对经过第一清洗过程处理的电池片进行镀膜。第一次抽真空过程能够去除镀膜腔体中存在的杂质气体，从而提高镀膜过程形成的镀层的纯度。第一清洗过程能够去除镀膜腔体中存在的碎片和气体颗粒物，在升温过程中，保证通入气体流量为0，炉内压力为常压，进一步减少管内粉尘、颗粒的活动，这有利于减少点状污染的产生，提高电池片的良品率和光电转化效率。
电池组件可抑制污染出现镀膜方法

[发明专利]一种高温超导材料的激光镀膜方法-CN202310395425.6有效
发明人：蒋国忠;戴少涛;洪智勇;伍锐;曾智斌;常同旭 -专利权人：江西联创光电超导应用有限公司;江西联创光电科技股份有限公司
申请日： 2023-04-14 - 公布日： 2023-08-18 - 主分类号： C23C14/54 文献下载
摘要：本申请涉及高温超导材料技术领域，特别是涉及一种高温超导材料的激光镀膜方法。包括：获取需镀膜高温超导材料的需求参数，根据需求参数设定镀膜工作参数；在镀膜过程中采集镀膜基片的实时状态参数，根据实时状态参数修正镀膜工作参数；获取当前批次的镀膜基片镀膜时间和镀膜基片不合格率，根据镀膜时间和镀膜基片不合格率修正下一批次的镀膜工作参数根据需镀膜高温超导材料的需求参数设定预期的沉积速率和镀膜基片的半径控制整体的镀膜速率，并通过调整靶基距和压强满足其预设的沉积速率，提高正常的生产效率，在保镀膜质量的前提下，降低镀膜时间。提高脉冲激光镀膜的生产质量。提高制备过程中高温超导带材的生产速度与均匀性。
一种高温超导材料激光镀膜方法

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