专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种单驱动机器鱼及其平面运动控制方法-CN202310428068.9有效
  • 张萌颖;朱永辉;张轩硕;张朝阳;夏伟程;左福昊;曹嘉睿;刘东 - 北方工业大学
  • 2023-04-20 - 2023-10-27 - B63C11/52
  • 本发明公开了一种单驱动机器鱼及其平面运动控制方法,机器鱼包括水平支撑架、浮漂组件、压电驱动组件、柔性铰链传动机构、传动杆和鱼鳍;水平支撑架呈轴对称的X状,浮漂组件设置在水平支撑架上;水平支撑架前后分别连接有一个传动杆,传动杆两端分别经一个柔性铰链传动机构与水平支撑架相应侧的两个端点相连;压电驱动组件的中部与水平支撑架的中心固定连接,且其两端分别经第一柔性铰链与相应的传动杆中心相连后悬空设置;柔性铰链传动机构上设置有鱼鳍。优点是:机器鱼基于便于灵活控制弯曲变形的压电驱动结构,与驱动‑传动设计实现的前后反对称的鱼鳍摆动配合,以单一驱动器实现呈对称分布的四鱼鳍摆动,得到利于机器鱼平稳移动的驱动力。
  • 一种驱动机器及其平面运动控制方法
  • [发明专利]一种基于液滴去润湿的迷宫求解方法及迷宫求解器-CN202310598972.4在审
  • 巫金波;周永峰;石博日;徐涵玉;薛厂;张萌颖 - 上海大学
  • 2023-05-25 - 2023-08-22 - G06Q10/047
  • 本发明提供一种基于液滴去润湿的迷宫求解方法及迷宫求解器。该迷宫求解方法包括:步骤1:通过光刻工艺在基底表面形成至少一个迷宫图案,所述迷宫图案所处的区域为亲液区域,所述迷宫图案之外的区域为疏液区域,所述迷宫图案中通道的区域为疏液区域;步骤2:利用涂布法通过所述基底表面的亲疏液区域和非连续性去润湿过程,在所述基底的所述迷宫图案所处的区域形成液滴;步骤3:在所述迷宫图案中,通过自发性去润湿过程中液滴三相线的运动实现迷宫求解。该基于液滴去润湿的迷宫求解方法及迷宫求解器,提供了基于实验求解迷宫的新思路,迷宫循迹简单,适用范围广,并且可实现高通量的迷宫求解器制备。
  • 一种基于液滴去润湿迷宫求解方法
  • [发明专利]一种光干涉型微加工晶圆表面形貌测量装置及测量方法-CN202310318471.6在审
  • 张萌颖;刘喜银;赵全亮;何广平;袁俊杰;赵磊 - 北方工业大学
  • 2023-03-28 - 2023-06-23 - G01B11/24
  • 本发明公开的光干涉型微加工晶圆表面形貌测量装置及测量方法,涉及表面微形貌测量技术领域。本发明提供的装置包括:底座、竖直支架、Z轴粗调移动导轨、水平支架、测量模块、二维移动台、Z轴细调移动台和晶圆样品台;竖直支架一端固定在底座上,另一端上固定设置有Z轴粗调移动导轨;水平支架的一端设置在Z轴粗调移动导轨上,另一端上设置有测量模块;二维移动台设置在底座上;Z轴细调移动台设置在二维移动台上;晶圆样品台设置在Z轴细调移动台上;二维移动台用于调节Z轴细调移动台的位置。本发明基于上述装置结构,能够在提高表面微形貌测量的高精度和稳定性同时,满足大量程的测量,进而能够匹配微加工晶圆表面形貌测量的具体应用需求。
  • 一种干涉加工表面形貌测量装置测量方法
  • [发明专利]基于激光刻蚀的横向结构双电极器件阵列的制备方法-CN202211282445.4在审
  • 巫金波;石博日;王萍阳;薛厂;张萌颖;温维佳 - 上海大学
  • 2022-10-18 - 2023-01-03 - H01L31/18
  • 本发明提供一种基于激光刻蚀的横向结构双电极器件阵列的制备方法,利用脉冲激光在刻蚀过程中的光热效应累积,通过脉冲激光刻蚀导电层形成绝缘沟道,同时脉冲激光束附近产生的光热效应破坏沟道两侧的疏液层从而降低其疏液效果,形成热影响区。当将可通过溶液法生长晶体的溶液涂布在基底上时,热影响区的存在保证了溶液可以润湿并完全覆盖激光刻蚀产生的沟道。最后经过沉积形成的晶膜可以横向跨越沟道两侧,形成横向结构的双电极器件。根据本发明的制备方法无需分别进行活性材料以及电极材料的阵列化制备,仅通过激光刻蚀一种图案化过程即可完成,实现大面积、高通量、阵列化横向结构双电极器件的制备。
  • 基于激光刻蚀横向结构电极器件阵列制备方法
  • [发明专利]基于光电传感器阵列的非接触式交互系统-CN202211275739.4在审
  • 巫金波;石博日;王萍阳;薛厂;张萌颖;温维佳 - 上海大学
  • 2022-10-18 - 2022-12-16 - G06F3/01
  • 本发明提供一种基于光电传感器阵列的非接触式交互系统,包括:光电传感器阵列,光电传感器阵列包括:透明基底;形成在透明基底上的导电层;形成在导电层上的图案化限制层,用于形成光电活性材料图案阵列;形成在图案化限制层上的光电活性材料图案阵列,其中阵列中的每个图案单元在外置偏压的驱动下形成一个微型光电传感器单元;面光源,面光源位于所述光电传感器阵列的基底背面;反射物,反射物可移动的位于光电传感器阵列的基底正面。该交互系统通过利用光电传感器阵列的高响应度及快响应速度特性使得交互界面快速跟踪运动物体的信号,并通过来自反射物对面光源进行光反射实现光电流增长,从而实现响应灵敏的无接触式三维人机交互。
  • 基于光电传感器阵列接触交互系统

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