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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]光掩模坯的制造方法以及光掩模的制造方法-CN202211255619.8在审
发明人： 山田慎吾;森山久美子 -专利权人：株式会社SK电子
申请日： 2022-10-13 - 公布日： 2023-05-12 - 主分类号： G03F1/50 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供一种在光掩模的制造时容易进行图案的尺寸控制，能够在光掩模中提高图案的尺寸精度的光掩模坯的制造方法以及光掩模的制造方法。该光掩模坯的制造方法用于制造将透明基板(3)的表面划分为第一图案区域和第二图案区域，在第一图案区域形成有第一功能性膜，在第二图案区域形成有第二功能性膜的光掩模坯(2)。
光掩模坯制造方法以及光掩模

[发明专利]多色调光掩模的制造方法以及多色调光掩模-CN202210192510.8在审
发明人： 山田慎吾;上南亮太 -专利权人：株式会社SK电子
申请日： 2022-02-28 - 公布日： 2022-09-06 - 主分类号： G03F1/32 文献下载
摘要：本发明提供能够无需对准的多色调光掩模的制造方法及多色调光掩模。多色调光掩模的制造方法包括：准备中间体的工序，中间体由下列层叠膜结构构成，即中间体具有：在透明基板2上层叠的半透膜3；具有与半透膜3不同的蚀刻特性、以在半透膜3上重合的方式进行层叠的中间膜4；具有与半透膜3相同的蚀刻特性、以使中间膜4的周边区域的至少一部分露出的方式在中间膜4上层叠的遮光膜5；且中间膜4的露出的部分的至少一部分具有越接近透明基板2其边缘4a越向外侧扩展的形状；将中间膜4的露出的部分分多次进行蚀刻并最终去除的工序；在除了最后一次或包括最后一次的各次蚀刻后对半透膜3的露出的部分进行等离子体处理，改变该部分的透射率的工序。
多色调光制造方法以及

[发明专利]半色调掩模、光掩模坯和半色调掩模的制造方法-CN201780070660.9有效
发明人： 山田慎吾;森山久美子;美作昌宏 -专利权人：株式会社SK电子
申请日： 2017-12-25 - 公布日： 2022-04-22 - 主分类号： G03F1/32 文献下载
摘要：本发明提供一种能够曝光细微光致抗蚀剂图案的多灰阶半色调掩模。其解决方法在于，在透明基板上形成有由半透膜的图案构成的半透过部和由相位偏移膜的图案构成的相位偏移部，相位偏移膜使曝光光的相位反转，相位偏移膜的透过率低于半透膜的透过率。并且，在半透过部与相位偏移部邻接的边界部，形成有半透膜、相位偏移膜和蚀刻阻挡膜的叠层膜，蚀刻阻挡膜由不被半透膜和相位偏移膜的蚀刻液蚀刻的材质构成。其结果，实现具有半色调的效果和相位偏移效果双方的光掩模。
色调光掩模坯制造方法

[发明专利]光掩模的制造方法-CN202110451887.6在审
发明人：尾岛省二郎;山田慎吾;森山久美子 -专利权人：株式会社SK电子
申请日： 2021-04-26 - 公布日： 2021-10-29 - 主分类号： G03F1/32 文献下载
摘要：本发明提供一种能够以抑制曝光时的重合误差的产生的方式形成具有不同光学特性的图案的光掩模的制造方法。在该光掩模的制造方法中，准备在透射性基片上具有半透射膜、中间膜、上层膜的光掩模坯件，对形成在上层膜上的光致抗蚀剂膜进行曝光，形成曝光量不同的第一区域、第二区域和第三区域。之后，选择性地去除第一区域，蚀刻上层膜。之后，选择性地去除第二区域，蚀刻半透射膜，且蚀刻上层膜和中间膜。之后，去除第三区域。
光掩模制造方法

[发明专利]相移掩模的缺陷修正方法-CN201810100694.4有效
发明人：齐藤隆史;山田慎吾;森山久美子 -专利权人：株式会社SK电子
申请日： 2018-02-01 - 公布日： 2021-05-18 - 主分类号： G03F1/72 文献下载
摘要：本发明提供一种相移掩模的缺陷修正方法，其特征在于包括以下步骤：第一步骤(S1)，针对在透明基板上具有由相移膜形成的、包含缺损部的图案的光掩模基板，测定缺损部的位置和尺寸；第二步骤(S2)，判断所述相移膜上的所述缺损部的尺寸是否为1.0μm×1.0μm以上；以及第三步骤(P2)，在所述判断结果为“否”的情况下，在所述缺损部上堆积遮光膜。
相移缺陷修正方法

[发明专利]光掩模和光掩模坯以及光掩模的制造方法-CN201810227081.7有效
发明人： 山田慎吾;森山久美子;美作昌宏 -专利权人：株式会社SK电子
申请日： 2018-03-19 - 公布日： 2019-10-29 - 主分类号： G03F1/32 文献下载
摘要：提供能够兼顾图案的细微化和多灰阶的半色调掩模。在透明基板上具有相移膜和半透膜的层叠区域、以及由曝光光的光透过率比上述层叠区域高的半透膜构成的半透过区域，上述层叠区域具有与上述半透过区域和/或露出透明基板的透明区域接触的边界部，上述相移膜使曝光光的相位偏移，而且，上述层叠区域相对于曝光光的光透过率为1～8％。在上述边界部，曝光光的强度分布急剧变化，能够改善被曝光的光致抗蚀剂图案的剖面形状。
层叠区域曝光光光透过率透过区域透明基板半透膜边界部光掩模相移光致抗蚀剂图案半色调掩模光掩模坯急剧变化剖面形状强度分布透明区域相位偏移细微化灰阶图案曝光制造

[实用新型]机床-CN201821778572.2有效
发明人： 山田慎吾;矢乡竜平;伊原稔 -专利权人：杉野机械股份有限公司
申请日： 2018-10-31 - 公布日： 2019-06-14 - 主分类号： B23G1/20 文献下载
摘要：本实用新型提供一种构造简单且紧凑的多轴加工用机床。本实用新型的机床(10)具备：框架(13)；滚珠丝杠(21)，其设置于框架；进给电动机(15)，其能够使滚珠丝杠旋转；一组直线导轨(23)；床鞍(27)，其在直线导轨上移动；滚珠螺母(22)，其设置于床鞍，与滚珠丝杠啮合；主轴头(29)，其固定于床鞍，具有多个主轴(47)、齿轮室(32)、输入齿轮(35)、惰轮(41)及输出齿轮(43)；以及主轴电动机(31)，其能够驱动主轴。
滚珠丝杠床鞍机床本实用新型直线导轨啮合进给电动机主轴电动机多轴加工滚珠螺母驱动主轴输出齿轮输入齿轮齿轮室上移动主轴头惰轮紧凑

[发明专利]杠杆式连接器组件-CN201610989488.4有效
发明人：山根友和;近藤弘纪;山下哲也;山田慎吾;池尻德贵 -专利权人：泰科电子日本合同会社;丰田自动车株式会社
申请日： 2016-11-10 - 公布日： 2019-01-22 - 主分类号： H01R13/44 文献下载
摘要：本发明提供一种杠杆式连接器组件，其在使第二连接器从第一连接器脱离时在从第一信号端子和第二信号端子的连接解除到第一强电端子与第二强电端子的连接解除之间设有一定的时间差，在第二连接器嵌合于第一连接器时及第二连接器从第一连接器脱离时，能够避免第二强电端子及第一强电端子损伤的风险。杠杆式连接器组件(1)中的第二连接器(3)具备第二强电端子接触避免部(56a、56b)，第二强电端子接触避免部设于移动壳体(50)，在移动壳体处于嵌合解除位置时避免第二强电端子(60)与第一强电端子(31a、31b)接触，并且在移动壳体从嵌合解除位置朝中间位置移动的中途使第二强电端子与第一强电端子接触。
杠杆连接器组件

[发明专利]半导体装置及其控制方法-CN201810315647.1在审
发明人： 山田慎吾 -专利权人：瑞萨电子株式会社
申请日： 2018-04-10 - 公布日： 2018-11-02 - 主分类号： H02M1/088 文献下载
摘要：本发明涉及一种半导体装置及其控制方法，所述半导体装置能够在开关的同时降低噪声。作为半导体装置的驱动器IC包括：驱动电路，用于驱动即就是开关元件的PMOS驱动级的控制端子；噪声检测电路，用于在PMOS驱动级接通或断开时检测输出信号中的噪声；以及控制电路，用于根据所检测到的噪声来控制驱动电路的驱动。
半导体装置驱动级噪声控制驱动电路噪声检测电路驱动降低噪声开关元件控制电路控制端子驱动电路驱动器IC 输出信号检测断开接通

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