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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]半色调掩模、用于制造它的方法及使用它的平板显示器-CN201110008187.6有效
发明人：朴相昱;姜甲锡;李勤植;朴宰佑;沈惟敬 -专利权人： LG伊诺特有限公司
申请日： 2005-11-08 - 公布日： 2011-05-25 - 主分类号： G03F1/08 文献下载
摘要：具有透明基板、半透光层和光屏蔽层的半色调掩模，用于制造它的方法，以及使用它的平板显示器。该半色调掩模被应用到多个光刻工艺循环中，由此缩短用以制造掩模所占用的时间和减少掩模生产成本。由于所需图案根据氧化铬(CrxOy)膜的均匀性即在溅射中的均匀性、经过本发明的半色调掩模的半透光层来均匀地形成，所以半色调掩模在尺寸上不受限制。
色调用于制造方法使用平板显示器

[发明专利]半色调掩模版及其制造方法-CN200910078205.0有效
发明人：郭建;周伟峰;明星 -专利权人：北京京东方光电科技有限公司
申请日： 2009-02-20 - 公布日： 2010-08-25 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种半色调掩模版及其制造方法。半色调掩模版包括基板，所述基板包括有效区域和无效区域，所述有效区域包括半色调区域、不透光区域和完全透光区域，所述有效区域以外的区域为所述无效区域，所述半色调区域形成有用于进行透光率调节的半色调区域层。本发明半色调区域层可进行透光率调节，因此，当由于工艺条件发生变化等因素考虑需要调整掩模版的透光率时，本发明可通过半色调区域层进行掩模版的透光率调节，而不需要重新制造掩模版，降低了生产制造成本。
色调模版及其制造方法

[发明专利]半色调掩模、用于制造它的方法及使用它的平板显示器-CN200510115641.2无效
发明人：朴相昱;姜甲锡;李勤植;朴宰佑;沈惟敬 -专利权人： LG麦可龙电子公司
申请日： 2005-11-08 - 公布日： 2006-05-17 - 主分类号： G03F1/08 文献下载
摘要：具有透明基板、半透光层和光屏蔽层的半色调掩模，用于制造它的方法，以及利用它的平板显示器。该半色调掩模被应用到多个光刻工艺循环中，由此缩短用以制造掩模所占用的时间和减少掩模生产成本。由于所需图案根据氧化铬(Cr_xO_y)膜的均匀性即在溅射中的均匀性、经过本发明的半色调掩模的半透光层来均匀地形成，所以半色调掩模在尺寸上不受限制。
色调用于制造方法使用平板显示器

[发明专利]半色调掩模版及其制造方法-CN200710121812.1在审
发明人：刘圣烈 -专利权人：北京京东方光电科技有限公司
申请日： 2007-09-14 - 公布日： 2009-03-18 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种半色调掩模版及其制造方法，半色调掩模版包括：设有非透射区域、半透射区域和透射区域的基板和设置在基板非透射区域和半透射区域的掩模材料层，位于非透射区域的掩模材料层的厚度大于位于半透射区域的掩模材料层的厚度半色调掩模版的制造方法包括：在设有非透射区域、半透射区域和透射区域的基板的非透射区域和半透射区域上形成掩模材料层；用激光去掉半透射区域部分厚度的掩模材料层。本发明有效解决了半透射区域出现材料层重叠沉积的现象和蚀刻工艺中所使用的蚀刻剂和已形成的材料层产生化学反应的现象，从而提高了半色调掩模版的质量。
色调模版及其制造方法

[发明专利]用于制备半色调相移掩模坯的方法、半色调相移掩模坯、半色调相移掩模和薄膜形成设备-CN201710723039.X有效
发明人：稻月判臣 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2017-08-22 - 公布日： 2022-10-04 - 主分类号： G03F1/26 文献下载
摘要：本发明涉及用于制备半色调相移掩模坯的方法、半色调相移掩模坯、半色调相移掩模和薄膜形成设备。通过以下步骤制备包含透明衬底和在透明衬底上的半色调相移膜的半色调相移掩模坯：通过使用含有稀有气体和氮气的溅射气体和包括至少两个硅靶的多个靶在衬底上沉积半色调相移膜，将具有不同值的电力施加至所述硅靶，进行反应性溅射该半色调相移膜具有令人满意的光学性质的面内均匀性。
用于制备色调相移掩模坯方法薄膜形成设备

[发明专利]半色调掩模板及其制造方法-CN200710175648.2无效
发明人：刘圣烈;崔莹石 -专利权人：北京京东方光电科技有限公司
申请日： 2007-10-09 - 公布日： 2009-04-15 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种半色调掩模板及其制造方法，半色调掩模板包括基板，基板设有非透射区域、半透射区域和透射区域，非透射区域设置有第一掩模材料层，半透射区域设置有可调节透射率的第二掩模材料层，第一掩模材料层位于基板的一面，第二掩模材料层位于基板的另一面。半色调掩模板的制造方法，括分别在基板的二面上形成作为非透射区域的第一掩模材料层和作为半透射区域的第二掩模材料层。本发明有效解决了半透射区域出现材料层重叠沉积的现象和蚀刻工艺中所使用的蚀刻物质和已形成的材料层产生化学反应的现象，从而提高了半色调掩模板的质量。
色调模板及其制造方法

[发明专利]半色调掩模板结构及其制造方法-CN200710120513.6无效
发明人：明星;金基用;周伟峰;郭建 -专利权人：北京京东方光电科技有限公司
申请日： 2007-08-21 - 公布日： 2009-02-25 - 主分类号： G03F1/14 文献下载
摘要：本发明公开了一种半色调掩模板结构，包括：基板，形成在基板上的半色调区域和全色调区域，其中在半色调区域和全色调区域交界位置处形成有一过渡区域。该过渡区域直接露出基板的空白区域；或者半色调区域和过渡区域均由形成在基板上的半色调层构成，过渡区域的半色调层厚度较半色调区域的半色调层厚度薄。本发明同时公开了该半色调掩模板结构的制造方法。本发明通过在掩模板的全色调区域和半色调区域交界处的半色调层上面适当的降低半色调层材料的厚度或者去除掉一小部分半色调层，使在此位置的光的透过率增加，以弥补在此区域光的透过率比其他半色调区域的低，以提高整个半色调区域光强的均匀性
色调模板结构及其制造方法

[发明专利]半色调掩模及制造方法和采用该掩模制造显示器件的方法-CN200510132875.8有效
发明人：李志瑙 -专利权人： LG.菲利浦LCD株式会社
申请日： 2005-12-27 - 公布日： 2006-11-29 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种半色调掩模，该掩模包括：局部形成于透明衬底上的遮光图案；局部形成于透明衬底上的第一半色调透光图案；形成于第一半色调透光层上的第二半色调透光图案。
色调制造方法采用显示器件

[发明专利]可调节透射率的半色调掩模版及其制造方法-CN200710122168.X有效
发明人：崔承镇;宋泳锡 -专利权人：北京京东方光电科技有限公司
申请日： 2007-09-21 - 公布日： 2009-03-25 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种可调节透射率的半色调掩模版及其制造方法，半色调掩模版包括基板，所述基板上形成有作为半色调区域的半色调区域层和作为非透射区域的非透射区域层，所述半色调区域层和非透射区域层以外的区域为透射区域，所述半色调区域层由数个依次交替沉积的半色调层和缓冲层构成，在相同刻蚀条件下，所述非透射区域层、半色调层和缓冲层具有不同的刻蚀率。制造方法包括形成非透射区域层和半色调区域层，所述形成半色调区域层具体为：依次交替沉积数个半色调层和缓冲层。本发明减少了生产前的多次实验和调整，提高了生产效率，在透射率偏差较大时，可根据要求改变透射率，不需要重新制造掩模版，降低了生产制造成本。
调节透射率色调模版及其制造方法

[发明专利]灰色调掩模板及灰色调掩模及它们的制造法、图案复制法-CN200810161087.5无效
发明人：佐野道明;井村和久;木村泰树;三井胜 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2008-09-26 - 公布日： 2009-04-01 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：一种灰色调掩模板，其用于根据部位选择性地减少对被复制体的曝光光线的照射量，并在被复制体上形成包含残膜值不同的部分的所希望的复制图案的灰色调掩模的制造中使用，该灰色调掩模板在透明基板上具有半透光膜和遮光膜，半透光膜在基板面内至少形成掩模图案的区域内的曝光光线透过率的分布在4.0％以内。通过在该掩模板上实施规定的构图，形成遮光部、透光部、由半透光膜构成的半透光部，由此得到灰色调掩模。
色调模板它们制造图案复制

[发明专利]掩模坯、半色调掩模、掩模坯的制造方法及半色调掩模的制造方法-CN201910738617.6有效
发明人：诸沢成浩 -专利权人：爱发科成膜株式会社
申请日： 2019-08-12 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： G03F1/32 文献下载
摘要：本发明涉及一种掩模坯、半色调掩模、掩模坯的制造方法及半色调掩模的制造方法。本发明的掩模坯具备：透明基板；半色调层，层压在所述透明基板的表面上且以Cr为主成分；蚀刻停止层，层压在所述半色调层上；和遮光层，层压在所述蚀刻停止层上且以Cr为主成分。
掩模坯色调制造方法

[发明专利]半色调掩模板及其制造方法-CN200710121735.X无效
发明人：刘圣烈;柳在一 -专利权人：北京京东方光电科技有限公司
申请日： 2007-09-13 - 公布日： 2009-03-18 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种半色调掩模板及其制造方法，半色调掩模板包括基板，基板设有非透射区域、半透射区域和透射区域，在非透射区域设置掩模材料层；在半透射区域的基板表面设有可调节透射率的压花。制造方法包括在基板上设置非透射区域、半透射区域和透射区域，在基板的非透射区域上形成掩模材料层和在基板的半透射区域上形成可调节透射率的压花。本发明可以解决重复沉积现象，并且还可以进一步提高半色调掩模板的质量。
色调模板及其制造方法

[发明专利]掩模坯料及光掩模-CN200680049390.5有效
发明人：三井胜;佐野道明 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2006-12-26 - 公布日： 2009-01-14 - 主分类号： G03F1/08 文献下载
摘要：本发明提供适合多色波曝光的FPD用大型掩模及掩模坯料。该掩模坯料用于制造在透光性基板上至少具有灰色调掩模用半透光性膜的FPD设备，该灰色调掩模用半透光性膜具有调节透过量的功能，其特征在于，所述灰色调掩模用半透光性膜是在由超高压汞灯放射的至少从i线到g线的波长带区域中，半透光性膜的透过率(即半透过率)的变动幅度被控制在不足5％的范围内的膜。
坯料光掩模

[发明专利]光图案曝光方法-CN201210599085.0有效
发明人：吉川博树;稻月判臣;小板桥龙二;金子英雄;小岛洋介;原口崇;广濑智一 -专利权人：信越化学工业株式会社;凸版印刷株式会社
申请日： 2012-11-21 - 公布日： 2017-11-14 - 主分类号： G03F1/32 文献下载
摘要：本发明涉及一种光图案曝光方法，半色调相移掩模及半色调相移掩模坯料。光图案曝光方法是通过半色调相移掩模向抗蚀膜照射ArF准分子激光。该掩模包括透明衬底和包含过渡金属、硅、氮和氧的材料的半色调相移膜的图案，且所述材具有0.18‑0.25的原子比(Met/Si)，25‑50原子％的氮含量，以及5‑20原子％的氧含量。该掩模可用ArF准分子激光以至少10kJ/cm2的累积剂量照射。
图案曝光方法色调相移坯料

[发明专利]半色调掩模和半色调掩模坯-CN201710546156.3有效
发明人：齐藤隆史 -专利权人：株式会社SK电子
申请日： 2017-07-06 - 公布日： 2021-06-15 - 主分类号： G03F1/32 文献下载
摘要：在现有的多灰阶的半色调掩模中，利用缺陷检查装置检测半透膜上形成的针孔缺陷，并进行修正，因此难以对于例如检测极限以下的细微的针孔缺陷进行修复。本发明提供一种半色调掩模，通过将半色调掩模的半透膜相对于透明基板的相位差设为60度～90度、相对于透明基板的透射率设为20％～50％，能够防止作为被转印体的光致抗蚀剂因特定大小以下的半透膜的针孔而感光，
色调掩模坯

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