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[发明专利]一种低温深孔偏压溅射装置-CN202110191654.7有效
发明人：张强;夏久龙 -专利权人：上海悦匠实业有限公司
申请日： 2021-02-19 - 公布日： 2022-12-06 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明低温深孔偏压溅射装置，靶材和腔体之间增设固定腔体适配器，载片台上固定用于放置晶圆的冷却盘，腔体适配器内放置上下遮罩，上遮罩的顶部固定在腔体适配器上，上遮罩下部的壁上沿着圆周方向开设有多个通孔，下遮罩的壁上沿着圆周方向开设有与通孔相对应的长条调节孔，上遮罩的下部套在下遮罩内，通过螺栓穿设对应的长条调节孔和通孔以固定上下遮罩，下遮罩的底部固定底板，底板上开设中心孔，底板上沿着圆周方向开设多个安装孔，每一安装孔的边沿周缘上均放置绝缘陶瓷柱，绝缘陶瓷柱套在固定柱内，固定柱固定于底板上，T型吊杆顶端置于绝缘陶瓷柱顶部，T型吊杆底端与压环固定连接，压环上沿着圆周方向设置有多个可调节压杆。
一种低温偏压溅射装置

[发明专利]自动校准的皮带传动系统及皮带传动系统自动校准方法-CN202011577392.X有效
发明人：张强;夏久龙 -专利权人：上海悦匠实业有限公司
申请日： 2020-12-28 - 公布日： 2022-04-05 - 主分类号： F16H7/12 文献下载
摘要：本发明公开了一种自动校准的皮带传动系统，底座的一侧底部固定有电机，电机穿设底座后连接有皮带轮，底座的另一侧表面固定有轴承座，轴承座内过盈配合有轴承，轴承内套设有轴，轴上套设固定有大盘，皮带轮和大盘之间通过皮带连接，底座上且位于皮带轮与大盘之间的一侧皮带位置处固定有摆动气缸和夹爪气缸，摆动气缸的摆动轴上固定有张紧轮，底座上且位于大盘下方固定有光电传感器，大盘上开设有识别孔，大盘处于零点初始化位置时识别孔恰好位于光电传感器的正上方，摆动气缸、夹爪气缸和电机均与控制器电连接。可以实现电机与大盘的自动校准，节省了设备的维护时间。
自动校准皮带传动系统方法

[实用新型]皮带传动自动校准系统-CN202023213220.2有效
发明人：张强;夏久龙 -专利权人：上海悦匠实业有限公司
申请日： 2020-12-28 - 公布日： 2021-10-08 - 主分类号： G01B21/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种皮带传动自动校准系统，底座的一侧底部固定有电机，电机穿设底座后连接有皮带轮，底座的另一侧表面固定有轴承座，轴承座内过盈配合有轴承，轴承内套设有轴，轴上套设固定有大盘，皮带轮和大盘之间通过皮带连接，底座上且位于皮带轮与大盘之间的一侧皮带位置处固定有摆动气缸和夹爪气缸，摆动气缸的摆动轴上固定有张紧轮，底座上且位于大盘下方固定有光电传感器，大盘上开设有识别孔，大盘处于零点初始化位置时识别孔恰好位于光电传感器的正上方，摆动气缸、夹爪气缸和电机均与控制器电连接。可以实现电机与大盘的自动校准，节省了设备的维护时间。
皮带传动自动校准系统

[实用新型]一种低温深孔偏压溅射设备-CN202120380272.4有效
发明人：张强;夏久龙 -专利权人：上海悦匠实业有限公司
申请日： 2021-02-19 - 公布日： 2021-10-08 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型低温深孔偏压溅射设备，靶材和腔体之间增设固定腔体适配器，载片台上固定用于放置晶圆的冷却盘，腔体适配器内放置上下遮罩，上遮罩的顶部固定在腔体适配器上，上遮罩下部的壁上沿着圆周方向开设有多个通孔，下遮罩的壁上沿着圆周方向开设有与通孔相对应的长条调节孔，上遮罩的下部套在下遮罩内，通过螺栓穿设对应的长条调节孔和通孔以固定上下遮罩，下遮罩的底部固定底板，底板上开设中心孔，底板上沿着圆周方向开设多个安装孔，每一安装孔的边沿周缘上均放置绝缘陶瓷柱，绝缘陶瓷柱套在固定柱内，固定柱固定于底板上，T型吊杆顶端置于绝缘陶瓷柱顶部，T型吊杆底端与压环固定连接，压环上沿着圆周方向设置有多个可调节压杆。
一种低温偏压溅射设备

[实用新型]一种用于降低非标晶圆温度的载盘-CN202120380457.5有效
发明人：张强;夏久龙 -专利权人：上海悦匠实业有限公司
申请日： 2021-02-19 - 公布日： 2021-10-08 - 主分类号： C23C14/50 文献下载
摘要：本实用新型用于降低非标晶圆温度的载盘包括：托盘主体固定在溅射台上，托盘主体上开设有与非标晶圆的直径相匹配的凹槽，凹槽的底部开设有多个通气孔，凹槽内用于放置非标晶圆，托盘主体上沿着凹槽上边沿圆周方向固定有多个压固机构。压固机构包括螺杆，螺杆固定在托盘主体上，螺杆上套设有可旋转的用于压住非标晶圆的表面的压片并通过螺母锁紧。在托盘主体上开出非标晶圆大小的凹槽，非标晶圆易于放置于托盘主体上，再在凹槽处均匀开设通气孔，方便背部的氩气可以从溅射台直接接触到非标晶圆，最后通过压固机构使非标晶圆固定在托盘主体上，使其无法竖直方向上移动，最终可以实现在应用材料5500溅射台上对非标工件低温工艺的需求。
一种用于降低非标温度

[发明专利]一种自动化湿法设备机械手残液引流回收装置-CN202011170482.7在审
发明人：解晗;夏久龙;葛荣祥;申强 -专利权人：中国电子科技集团公司第五十五研究所
申请日： 2020-10-28 - 公布日： 2021-02-09 - 主分类号： F26B5/04 文献下载
摘要：本发明的一种自动化湿法设备机械手残液引流回收装置，包括负压废液回收桶，所述负压废液回收桶上设置有端盖，端盖上通过耐腐蚀真空管路连接有机械手，所述端盖上连接有真空发生器，所述真空发生器上连接有调压阀，所述真空发生器和端盖之间连接有气动阀，所述气动阀上连接有电磁阀。本发明解决了自动化湿法设备机械手上残液的累积溢出问题。
一种自动化湿法设备机械手引流回收装置

[发明专利]一种调节离子铣均匀性的方法-CN201711170243.X有效
发明人：殷履文;夏久龙;解晗 -专利权人：中国电子科技集团公司第五十五研究所
申请日： 2017-11-22 - 公布日： 2020-12-11 - 主分类号： H01J37/30 文献下载
摘要：一种调节离子铣均匀性的方法，其特征是通过调节圆筒离子源的高度、倾斜的角度以及添加均匀性挡板来调整行星盘中圈11、行星盘外圈12上晶片的离子铣均匀性。本发明既稳定了离子铣的均匀性，又提高了产能及设备的利用率，满足了工艺生产的需求。
一种调节离子均匀方法

[发明专利]一种调节磁控溅射镀膜均匀性的装置-CN201710620017.0有效
发明人： 夏久龙;解晗;周明祥;张春胜;陈磊;殷履文 -专利权人：中国电子科技集团公司第五十五研究所
申请日： 2017-07-26 - 公布日： 2019-10-11 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明涉及一种调节磁控溅射镀膜均匀性的装置，其结构包括旋转大鼓和竖直溅射靶材，其中竖直溅射靶材设于旋转大鼓的外侧，与旋转大鼓的旋转轴线位于同一平面；竖直溅射靶材由均匀性挡板、金属靶材、电路及靶材冷却系统组成。优点：1）提高镀膜精度，使镀膜过程稳定而高效；2）无需开腔处理，减少损耗。
溅射靶材均匀性竖直大鼓磁控溅射镀膜开腔挡板靶材冷却镀膜过程金属靶材系统组成旋转轴线镀膜电路

[实用新型]一种真空吸笔-CN201721583705.6有效
发明人： 夏久龙;王向阳;刘磊 -专利权人：中国电子科技集团公司第五十五研究所
申请日： 2017-11-23 - 公布日： 2018-10-12 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本实用新型是一种真空吸笔，其结构包括真空吸头、真空吸头多角度调节机构和真空检测系统，所述真空吸头多角度调节机构包括A真空金属细管、B真空金属细管、橡胶软管、固定金属管、螺丝、旋转导轨；真空检测系统包括真空指示灯、微型电源和真空检测传感器，真空指示灯、微型电源和真空检测传感器串联连接。优点：1、真空吸头多角度调节机构可以调节旋转固定，满足各种设备及人工搬运的需求。2.真空吸笔的真空检测系统，可避免因为真空管堵塞或者开关损坏造成的晶片报废。
真空吸头多角度调节机构真空检测系统真空吸笔指示灯微型电源真空检测真空金属细管真空管本实用新型传感器串联固定金属人工搬运橡胶软管旋转导轨旋转固定传感器晶片螺丝报废堵塞

[实用新型]一种石墨舟对中装置-CN201721583709.4有效
发明人： 夏久龙;周明祥;王向阳 -专利权人：中国电子科技集团公司第五十五研究所
申请日： 2017-11-23 - 公布日： 2018-08-07 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：本实用新型是一种石墨舟对中装置，包括石墨舟盖板，石墨舟底盘，石墨舟盖板对中模块，石墨舟底盘对中模块和底座；其中，石墨舟盖板对中模块和石墨舟底盘对中模固定于底座上，石墨舟盖板盖于石墨舟底盘上，石墨舟底盘通过石墨舟盖板对中模块和石墨舟底盘对中模块对中于底座上。优点：1、在不增加机械手步骤降低产能的情况下完成石墨舟的对中。2、解决了由于设备老化、不稳定导致石墨舟位置变动导致的晶片报废的情况。3、提高了石墨舟在腔室内位置的稳定性。
石墨舟底盘对中模块盖板底座对中装置本实用新型室内位置位置变动对中模盖板盖机械手产能晶片报废老化

[实用新型]一种氯基尾气处理装置-CN201720915478.6有效
发明人： 夏久龙;解晗;周明祥;张春胜;刘磊;殷履文 -专利权人：中国电子科技集团公司第五十五研究所
申请日： 2017-07-26 - 公布日： 2018-06-12 - 主分类号： B01D53/18 文献下载
摘要：本实用新型是氯基尾气处理装置，其结构包括氯基尾气处理装置，其结构包括主体外壳、循环泵、液体进泵浦及排放管路、进水口、大喷头、A电磁阀、不锈钢管路、B电磁阀、进气管路、手动阀、排液管路、小喷头、城市水进口端、压力传感器；其中，主体外壳左上角通过进气管路与外部设备连接，进气管路右端与不锈钢管路的进气口相接，不锈钢管路与城市水进口端连通，不锈钢管路的出水口与进气集中区的B进水口相接；优点：能够就近处理ICP设备产生的氯基尾气，实现减少生产设备宕机，停机，延长停机清理管道的周期，减少堵塞，使得废气处理稳定、高效。
不锈钢管路氯基尾气处理装置进气管路主体外壳城市水电磁阀进口端进水口停机外部设备进气口本实用新型压力传感器废气处理排放管路排液管路生产设备出水口大喷头手动阀小喷头循环泵泵浦进气宕机连通尾气堵塞

[发明专利]一种石墨舟对中装置-CN201711184475.0在审
发明人： 夏久龙;周明祥;王向阳 -专利权人：中国电子科技集团公司第五十五研究所
申请日： 2017-11-23 - 公布日： 2018-05-15 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：本发明是一种石墨舟对中装置，包括石墨舟盖板，石墨舟底盘，石墨舟盖板对中模块，石墨舟底盘对中模块和底座；其中，石墨舟盖板对中模块和石墨舟底盘对中模固定于底座上，石墨舟盖板盖于石墨舟底盘上，石墨舟底盘通过石墨舟盖板对中模块和石墨舟底盘对中模块对中于底座上。优点：1、在不增加机械手步骤降低产能的情况下完成石墨舟的对中。2、解决了由于设备老化、不稳定导致石墨舟位置变动导致的晶片报废的情况。3、提高了石墨舟在腔室内位置的稳定性。
一种石墨装置

[发明专利]一种真空吸笔-CN201711184472.7在审
发明人： 夏久龙;王向阳;刘磊 -专利权人：中国电子科技集团公司第五十五研究所
申请日： 2017-11-23 - 公布日： 2018-04-20 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明是一种真空吸笔，其结构包括真空吸头、真空吸头多角度调节机构和真空检测系统，所述真空吸头多角度调节机构包括A真空金属细管、B真空金属细管、橡胶软管、固定金属管、螺丝、旋转导轨；真空检测系统包括真空指示灯、微型电源和真空检测传感器，真空指示灯、微型电源和真空检测传感器串联连接。优点1、真空吸头多角度调节机构可以调节旋转固定，满足各种设备及人工搬运的需求。2.真空吸笔的真空检测系统，可避免因为真空管堵塞或者开关损坏造成的晶片报废。
一种真空

[发明专利]一种实现ASML不同型号光刻机套刻匹配的方法-CN201710620922.6在审
发明人：刘磊;殷履文;李永康;王溯源;王发稳;夏久龙 -专利权人：中国电子科技集团公司第五十五研究所
申请日： 2017-07-27 - 公布日： 2017-12-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种实现ASML不同型号光刻机套刻匹配的方法，该方法包括（1）取一块ASML标准掩膜版；（2）取另一块ASML标准掩膜版；（3）使用专用4英寸GaAs圆片，校准ASML扫描式光刻机的焦平面各项参数；（4）选用4英寸GaAs圆片，表面涂盖光刻胶；（5）ASML扫描式光刻机在步骤（4）所述的GaAs圆片上分别曝光对准标记图形和第一层套刻匹配图形；（6）曝光后GaAs圆片显影，显影后干法刻蚀；去除光刻胶后,重新涂盖与步骤（4）相同的光刻胶；（7）ASML步进式光刻机在GaAs圆片上曝光第二层套刻匹配图形，实现两台设备的套刻匹配。优点1）简单易行；2）套刻匹配灵活。
一种实现 asml 不同型号光刻机套匹配方法

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