[发明专利]导热膜及其制备方法和应用在审
申请号: | 202310484559.5 | 申请日: | 2023-04-27 |
公开(公告)号: | CN116525569A | 公开(公告)日: | 2023-08-01 |
发明(设计)人: | 周明;潘卓成;潘智军 | 申请(专利权)人: | 安徽宇航派蒙健康科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L23/373 | 分类号: | H01L23/373 |
代理公司: | 华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 黎金娣 |
地址: | 230031 安徽省合肥市蜀山区湖*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 导热 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种导热膜,其特征在于,所述导热膜包括层叠设置的至少两层碳质导热层,相邻所述碳质导热层之间设置有钛金属层;
所述导热膜还包括碳化钛层,所述碳化钛层位于相邻所述碳质导热层和所述钛金属层之间,所述碳化钛层用于连接所述碳质导热层和所述钛金属层。
2.如权利要求1所述的导热膜,其特征在于,所述碳化钛层和所述碳质导热层呈一体结构,所述碳化钛层渗入所述碳质导热层的表面。
3.如权利要求1所述的导热膜,其特征在于,所述碳质导热层的材料包括人工石墨、天然石墨、石墨烯和碳纳米管中的至少一种。
4.如权利要求1所述的导热膜,其特征在于,所述导热膜满足如下条件中的至少一个:
(1)所述碳质导热层的厚度为12μm~60μm;
(2)所述钛金属层的厚度为50nm~200nm;
(3)所述碳化钛层的厚度为5nm~20nm。
5.如权利要求1-4任一项所述的导热膜,其特征在于,所述导热膜还满足如下条件中的至少一个:
(1)所述导热膜的厚度为100μm~500μm;
(2)所述导热膜的导热系数为1100W/m·K~1500W/m·K。
6.一种权利要求1-5任一项所述导热膜的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括:
在碳质导热层的表面形成一层钛金属层,得到碳质导热层和钛金属层层叠的第一层叠体;
在所述第一层叠体的钛金属层上再设置一层碳质导热层,得到第二层叠体;或,将至少两个所述第一层叠体层叠,层叠过程中所述第一层叠体中钛金属层的均朝向同一方向,在暴露于最外侧的钛金属层上再设置一层碳质导热层,得到第二层叠体;
对所述第二层叠体进行热压后,在相邻的碳质导热层和钛金属层之间形成碳化钛层,得到所述的导热膜。
7.如权利要求6所述的制备方法,其特征在于,所述钛金属层的制备方式包括磁控溅射;
可选地,采用磁控溅射制备钛金属层的过程中,所述磁控溅射的直流电源功率为50W~100W,所述磁控溅射的时间为30s~120s,所述磁控溅射过程中钛靶的偏压为-60V~-40V。
8.如权利要求6或7所述的制备方法,其特征在于,对所述第二层叠体进行热压的过程包括:
在加热的情况下对所述第二层叠体施加压力。
9.如权利要求8所述的制备方法,其特征在于,所述热压满足如下条件中的至少一种:
(1)所述压力为50MPa~100MPa;
(2)所述压力的施加时间为10min~30min;
(3)所述加热的温度为800℃~1000℃;
(4)所述热压的环境为真空环境。
10.一种权利要求1-5任一项所述导热膜的应用,其特征在于,所述导热膜用于电子装置的散热。
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