[发明专利]一种二维氮化镓材料及其制备方法在审
| 申请号: | 202211047669.7 | 申请日: | 2022-08-30 |
| 公开(公告)号: | CN115449776A | 公开(公告)日: | 2022-12-09 |
| 发明(设计)人: | 王文樑;江弘胜;李国强 | 申请(专利权)人: | 华南理工大学 |
| 主分类号: | C23C16/30 | 分类号: | C23C16/30;C23C16/56 |
| 代理公司: | 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 | 代理人: | 戴晓琴 |
| 地址: | 510640 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 二维 氮化 材料 及其 制备 方法 | ||
1.一种二维氮化镓材料的制备方法,其特征在于,所述方法包括:
以硒化镓粉末作为前驱体,采用化学气相沉积法制备二维硒化镓;
以二维硒化镓作为模板,置于含氮源的管式炉中进行高温氮化处理,制备得到二维氮化镓材料。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述以硒化镓粉末作为前驱体,采用化学气相沉积法制备二维硒化镓,包括:
对衬底进行预处理,其中,所述衬底为SiO2/Si衬底、Si衬底、蓝宝石衬底中的一种,Si衬底以(111)为外延方向;
将预处理后的衬底转移至管式炉的下游温区,并在上游温区放置硒化镓粉末,抽真空,并充Ar至大气压,持续通入设定流量的Ar,维持气压并开始加热升温;
下游温区和上游温区的温度均升高至第一设定温度后停止加热后,抽真空至设定气压并保温一段时间,关闭真空泵并通入Ar使炉内气压迅速升高;
待管式炉自然冷却至室温后,将沉积有硒化镓的衬底取出并进行清洗处理,获得沉积有二维硒化镓的衬底。
3.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,持续通入Ar的流量为30-50sccm。
4.根据权利要求2所述的二维硒化镓制备方法,其特征在于,下游温区的第一设定温度为690-750℃,上游温区的第一设定温度为800-900℃。
5.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,设定气压为20-40torr。
6.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,保温时间为5-20min。
7.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,所述以二维硒化镓作为模板,置于含氮源的管式炉中进行高温氮化处理,制备得到二维氮化镓材料,包括:
将沉积有二维硒化镓的衬底转移至另一未被污染的管式炉中,抽真空并通入Ar以排尽空气;
充Ar至大气压,停止通气后开始加热升温;
加热升温至第二设定温度后,通入相同流量的Ar/NH3混合气体,开启真空泵维持管内气压并保温;
停止加热后停止通入NH3并通入Ar,等待管式炉自然降温后获得二维氮化镓材料。
8.根据权利要求7所述的制备方法,其特征在于,所述第二设定温度为550-650℃。
9.根据权利要求1-8中任一项所述的制备方法,其特征在于,所述氮源为氨气或氮气等离子体。
10.一种二维氮化镓材料,基于权利要求1-9中任一项所述的制备方法制备,其特征在于,所述二维氮化镓材料以二维硒化镓为模板。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





