[发明专利]漏液检测系统及半导体工艺设备

权利要求书

1.一种漏液检测系统，其特征在于，包括：控制模块、汇流件（100）、导流管（200）、集液件（300）和光电式漏液传感器（400）；

所述汇流件（100）密封罩设在半导体工艺设备的液体管路（600）的连接处，所述汇流件（100）上开设有排液口所述导流管（200）的一端与所述排液口密封连接，所述导流管（200）的另一端与所述集液件（300）连接；

所述光电式漏液传感器（400）设置在所述集液件（300）上，所述光电式漏液传感器（400）与所述控制模块连接。

2.根据权利要求1所述的漏液检测系统，其特征在于，所述汇流件（100）包括壳体（120）和密封件（130）；

所述壳体（120）上开设有供半导体工艺设备的液体管路（600）进出的通孔（140），所述壳体（120）上位于所述通孔（140）处设置有所述密封件（130）；

所述排液口开设在所述壳体（120）上，且所述壳体（120）的排液口处设置有排液管（110），所述排液管（110）与所述导流管（200）的一端密封连接。

3.根据权利要求2所述的漏液检测系统，其特征在于，所述壳体（120）包括第一壳体（121）和第二壳体（122）；

所述第一壳体（121）和所述第二壳体（122）两者密封连接形成所述壳体（120）；

所述第一壳体（121）上开设有第一通道，所述第二壳体（122）上开设有第二通道，所述第一通道和所述第二通道连接形成所述通孔（140）；

所述第一壳体（121）和/或第二壳体（122）上设置有所述排液管（110）。

4.根据权利要求3所述的漏液检测系统，其特征在于，所述第一通道和所述第二通道两者上均开设有密封槽，所述密封件（130）设置在所述密封槽上。

5.根据权利要求3所述的漏液检测系统，其特征在于，所述第一壳体（121）和所述第二壳体（122）两者之间设置有密封垫圈。

6.根据权利要求1所述的漏液检测系统，其特征在于，所述集液件（300）包括集液盘（310）和集液罐（320）；

所述导流管（200）与所述集液盘（310）连接，所述光电式漏液传感器（400）设置在所述集液盘（310）内；

所述集液盘（310）与所述集液罐（320）连通。

7.根据权利要求6所述的漏液检测系统，其特征在于，所述集液盘（310）上开设有泄漏孔（311），所述集液罐（320）与所述泄漏孔（311）连通。

8.根据权利要求7所述的漏液检测系统，其特征在于，所述集液盘（310）的底板呈倾斜状，所述光电式漏液传感器（400）设置在所述底板的最低处；

所述泄漏孔（311）开设在所述底板的最低处。

9.根据权利要求8所述的漏液检测系统，其特征在于，还包括用于控制液体源头开关的自动阀门（500），所述自动阀门（500）与所述控制模块连接。

10.一种半导体工艺设备，其特征在于，包括液体管路（600）和权利要求1-9任一项所述的漏液检测系统；

所述漏液检测系统的汇流件（100）罩设在所述液体管路（600）的连接处。