[发明专利]一种高精度半导体加工用刻蚀机在审
| 申请号: | 202210866259.9 | 申请日: | 2022-07-22 |
| 公开(公告)号: | CN115312425A | 公开(公告)日: | 2022-11-08 |
| 发明(设计)人: | 陈刚毅 | 申请(专利权)人: | 陈刚毅 |
| 主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 710077 陕西省西安市西咸新区*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 高精度 半导体 工用 刻蚀 | ||
1.一种高精度半导体加工用刻蚀机,其特征在于:包括:
固定架(1),所述固定架(1)的上表面设置为十字形,且所述固定架(1)的四端均固定设置有竖板,所述固定架(1)四端的竖板下端均固定连接有弧形导板(2),所述弧形导板(2)的中部贯穿开设有导向槽(3);
安装滑块(4),所述安装滑块(4)位于固定架(1)的内侧中部,所述安装滑块(4)的中部贯穿开设有第一通槽(5)和第二通槽(6),且第一通槽(5)和第二通槽(6)相互垂直,所述第一通槽(5)的内腔活动贯穿设置有第一条形板(7),所述第二通槽(6)的内腔活动贯穿设置有第二条形板(8),所述第一条形板(7)的两端和第二条形板(8)的两端均固定连接有连接块(9),所述连接块(9)的表面开设有限位扣槽(10),所述连接块(9)贯穿导向槽(3)的内腔并通过限位扣槽(10)与弧形导板(2)滑动连接;及
安装座(11),所述安装座(11)固定安装在安装滑块(4)的下表面,所述安装座(11)的下端固定连接有刻蚀端头(12)。
2.根据权利要求1所述的一种高精度半导体加工用刻蚀机,其特征在于:所述刻蚀端头(12)的下方设置有工件转盘(13),所述工件转盘(13)转动安装在控制底座(15)的上表面,所述控制底座(15)的内腔设置有驱动电机,且所述驱动电机驱动工件转盘(13)转动。
3.根据权利要求2所述的一种高精度半导体加工用刻蚀机,其特征在于:所述工件转盘(13)的上表面边缘处开设有多个呈环形阵列分布的工件定位槽(14),所述刻蚀端头(12)与一个工件定位槽(14)正对应,所述工件定位槽(14)的内腔放置有与之相适配的半导体工件,所述工件定位槽(14)槽底粘接有橡胶垫(24)。
4.根据权利要求3所述的一种高精度半导体加工用刻蚀机,其特征在于:所述固定架(1)的上表面设置有移动滑块(16),所述移动滑块(16)与固定架(1)之间通过固定螺栓(18)固定连接,所述移动滑块(16)滑动安装在十字滑台(17)的中部,且移动滑块(16)由十字滑台(17)驱动滑动。
5.根据权利要求4所述的一种高精度半导体加工用刻蚀机,其特征在于:所述第一条形板(7)的上表面开设有第一齿槽(19),所述安装滑块(4)的上表面开设有避让槽(20),所述避让槽(20)的内腔转动安装有第一齿轮(21),所述第一齿轮(21)与第一齿槽(19)啮合,所述第一齿轮(21)由电机驱动转动。
6.根据权利要求5所述的一种高精度半导体加工用刻蚀机,其特征在于:所述第二条形板(8)的上表面开设有第二齿槽(22),所述安装滑块(4)的一侧转动安装有第二齿轮(23),所述第二齿轮(23)与第二齿槽(22)啮合,所述第二齿轮(23)由电机驱动转动。
7.根据权利要求6所述的一种高精度半导体加工用刻蚀机,其特征在于:所述工件定位槽(14)的开口端设置有两个挡柱(25),所述工件定位槽(14)开口端的槽底开设有两个弧形滑槽(26),所述挡柱(25)位于弧形滑槽(26)的内腔并与之滑动连接。
8.根据权利要求7所述的一种高精度半导体加工用刻蚀机,其特征在于:所述挡柱(25)的上端固定连接有连接板(27),所述连接板(27)的一端固定连接有套环(28),所述套环(28)通过轴承活动套接在固定轴(29)的上端外侧,所述固定轴(29)的下端与工件转盘(13)的上表面固定连接。
9.根据权利要求8所述的一种高精度半导体加工用刻蚀机,其特征在于:所述固定轴(29)的外侧套接有扭簧,所述扭簧活动镶嵌在工件转盘(13)的上表面,所述扭簧的两端分别固定工件转盘(13)的上表面和套环(28)的下表面。
10.根据权利要求9所述的一种高精度半导体加工用刻蚀机,其特征在于:所述连接块(9)的下表面和限位扣槽(10)的槽底均设置为弧形,所述限位扣槽(10)的槽底和连接块(9)的下表面分别与导向槽(3)的上下两侧内壁贴合。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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