[发明专利]倒片装置、半导体工艺设备及开关门体的控制方法在审
申请号: | 202210181637.X | 申请日: | 2022-02-25 |
公开(公告)号: | CN114551313A | 公开(公告)日: | 2022-05-27 |
发明(设计)人: | 苏冠华;陈志兵;李旭刚;刘爱旭 | 申请(专利权)人: | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
主分类号: | H01L21/677 | 分类号: | H01L21/677 |
代理公司: | 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 | 代理人: | 周永强 |
地址: | 100176 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 装置 半导体 工艺设备 开关 控制 方法 | ||
1.一种倒片装置,应用于半导体工艺设备,其特征在于,包括:腔体(100)、门体(200)、驱动机构(300)、运动轨道和阻尼机构(400);
所述腔体(100)具有用于倒片的传输腔,所述腔体(100)开设有与所述传输腔连通的开口(110);
所述门体(200)可翻转地设置于所述开口(110)处,且所述门体(200)的靠近下端的区域与所述腔体(100)的两侧壁转动连接;
所述驱动机构(300)可摆动地连接于所述腔体(100)的第一侧壁(120)外,所述驱动机构(300)包括伺服驱动组件(310)和第一连接件(320),所述运动轨道用于使所述伺服驱动组件(310)的输出端沿所述运动轨道的轨迹移动,所述第一连接件(320)用于将所述伺服驱动组件(310)的输出端与所述门体(200)的靠近下端的区域转动连接,所述伺服驱动组件(310)通过所述第一连接件(320)驱动所述门体(200)相对于所述腔体(100)翻转;
所述阻尼机构(400)连接所述门体(200)与所述腔体(100),且所述阻尼机构(400)用于对所述门体(200)施加使所述门体(200)向远离所述开口的方向翻转的阻力。
2.根据权利要求1所述的倒片装置,其特征在于,所述伺服驱动组件(310)包括伺服电机(311)和伸缩缸(312);
所述伺服电机(311)与所述伸缩缸(312)传动连接,所述伸缩缸(312)的固定端可转动地连接于所述第一侧壁(120)外,所述伸缩缸(312)的输出端与所述第一连接件(320)转动连接,所述第一连接件(320)与所述门体(200)的靠近下端的区域固定连接。
3.根据权利要求2所述的倒片装置,其特征在于,所述第一侧壁(120)包括向下延伸至所述传输腔下方的第一支撑部(121),所述门体(200)包括向下延伸至所述传输腔下方的门体支撑部(220),所述运动轨道由在所述第一支撑部(121)上开设的第一弧形孔(1211)形成,所述伸缩缸(312)的输出端穿过所述第一弧形孔(1211)与所述第一连接件(320)转动连接,并沿所述第一弧形孔(1211)可移动,所述第一连接件(320)与所述门体支撑部(220)固定连接。
4.根据权利要求3所述的倒片装置,其特征在于,所述第一连接件(320)与所述第一支撑部(121)转动连接。
5.根据权利要求1所述的倒片装置,其特征在于,所述阻尼机构(400)可摆动地连接于与所述第一侧壁(120)相对的第二侧壁(130)外,所述阻尼机构(400)包括气弹簧(410)和第二连接件(420);
所述气弹簧(410)的固定端可摆动地连接于所述第二侧壁(130)外,所述第二连接件(420)用于将所述气弹簧(410)的移动端与所述门体(200)的靠近下端的区域转动连接,所述第二连接件(420)与所述门体(200)固定连接。
6.根据权利要求5所述的倒片装置,其特征在于,所述第二侧壁(130)包括向下延伸至所述传输腔下方的第二支撑部(131),所述门体(200)包括向下延伸至所述传输腔下方的门体支撑部(220),所述第二支撑部(131)开设有第二弧形孔(1311),所述气弹簧(410)的移动端穿过所述第二弧形孔(1311)与所述第二连接件(420)转动连接,并沿所述第二弧形孔(1311)可移动,所述第二连接件(420)与所述第二支撑部(131)转动连接。
7.根据权利要求1所述的倒片装置,其特征在于,所述倒片装置还包括止动机构(500),所述止动机构(500)用于在所述门体(200)关闭所述开口(110)时,抵接于所述门体(200)的靠近下部的区域,以对所述门体(200)进行锁止。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
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H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造