[发明专利]一种发光二极管及其应用在审
申请号: | 202111673485.7 | 申请日: | 2021-09-27 |
公开(公告)号: | CN114121747A | 公开(公告)日: | 2022-03-01 |
发明(设计)人: | 陈卫军 | 申请(专利权)人: | 广东晶相光电科技有限公司;深圳市晶相技术有限公司 |
主分类号: | H01L21/677 | 分类号: | H01L21/677;H01L21/67;H01L33/00 |
代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 王积毅 |
地址: | 529000 广东省江门市江海区彩虹路*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 发光二极管 及其 应用 | ||
本发明提出一种发光二极管及其应用,且所述发光二极管包括:衬底;半导体外延结构,设置在所述衬底上;透明导电层,设置在所述半导体外延结构上;第一填平层,设置在所述透明导电层上;第二填平层,设置在所述第一填平层电层上,且所述第一填平层的颗粒密度大于所述第二填平层的颗粒密度;第一电极,设置在所述半导体外延结构的第一半导体层上;以及第二电极,设置在所述透明导电层上。通过本发明提供的一种发光二极管,可改善发光效果。
技术领域
本发明涉及半导体领域,特别涉及一种发光二极管及其应用。
背景技术
发光二极管的在背光领域的应用中,具有省电、清晰度高、反应时间快等特点,最新的显示器机种上,频频使用这项新型态的产品。一般的外延表面由于长晶的过程之中,外延有缺陷,产生表面凹凸不平,导致后面镀上反射镜之后,不会形成完全的镜面,导致于色散,光不集中,在封装成白光后,导致光效不好。
发明内容
鉴于上述现有技术的缺陷,本发明提出一种发光二极管及其应用,旨在改发光二极管的色散,光不集中等问题,进而提高发光二极管的光效。
为实现上述目的及其他目的,本发明提出一种发光二极管,该发光二极管包括:
衬底;
半导体外延结构,设置在所述衬底上;
透明导电层,设置在所述半导体外延结构上;
第一填平层,设置在所述透明导电层上;
第二填平层,设置在所述第一填平层电层上,且所述第一填平层的颗粒密度大于所述第二填平层的颗粒密度;
第一电极,设置在所述半导体外延结构的第一半导体层上;以及
第二电极,设置在所述透明导电层上。
可选的,所述第一填平层的颗粒密度为3~4g/cm3,所述第二填平层的颗粒密度为1.5~3g/cm3。
可选的,所述第一填平层的材料为氧化铝或氟化镁,所述第二填平层的材料为二氧化硅或氮化硅。
可选的,所述第一填平层的厚度为200~500nm,所述第二填平层的厚度为50~300nm。
可选的,所述填平层上设置有多个开孔,且多个所述开孔呈阵列设置,且所述开孔穿透所述第一填平层和所述第二填平层。
可选的,所述开孔的孔径为3~5um,相邻所述开孔之间的间隔为3~5um。
可选的,所以开孔的截面为圆形、方形或多边形。
可选的,所述发光二极管还包括反射层和保护层,所述反射层设置在所述填平层上,所述保护层设置在所述保护层上。
可选的,所述发光二极管还包括压合层,所述压合层设置在所述保护层上。
可选的,所述压合层包括第一压合层和第二压合层,所述第一压合层和所述第二压合层的厚度之比为3:8。
可选的,所述第一压合层的材料为SiO2,所述第二压合层的材料为TiO2或Ti2O5。
可选的,所述发光二极管为微型发光二极管。
本发明还提供一种发光二极管显示器,包括如上所述的发光二极管
综上所述,本发明提出一种发光二极管及其应用,利用一特殊复合填平层,使外延表面填平,同时使用一压合层,确保整体的膜层应力平衡,避免因张应力造成镀膜层裂开,同时此两种设计,也将倒装所需要的光垂直反射能力强化,以增加出光效。
附图说明
图1:本实施例中半导体设备结构示意图。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造