[发明专利]一种基于等离子沉积的铝碳化硅材料的制备方法在审
| 申请号: | 202111548376.2 | 申请日: | 2021-12-17 | 
| 公开(公告)号: | CN116275026A | 公开(公告)日: | 2023-06-23 | 
| 发明(设计)人: | 岳鑫;吕延庆;肖飞;张福林;韩小莹;赵洪俭 | 申请(专利权)人: | 辽宁省轻工科学研究院有限公司 | 
| 主分类号: | B22F1/18 | 分类号: | B22F1/18;B22F3/15;B22F3/115;C22C1/05;C22C21/00;C22C32/00 | 
| 代理公司: | 沈阳维特专利商标事务所(普通合伙) 21229 | 代理人: | 甄玉荃 | 
| 地址: | 110142 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 | 
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 基于 等离子 沉积 碳化硅 材料 制备 方法 | ||
1.一种基于等离子沉积的铝碳化硅材料的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
1)颗粒级配:分别选择不同粒度的碳化硅粉体、铝合金粉体;得到备用的碳化硅粉体、铝合金粉体;
2)混合步骤1)中备用的碳化硅粉体、铝合金粉体得到混合粉体,采用机械手段通过添加改性剂对混合粉体进行初步包覆;
3)将初步包覆后的粉体进行热喷雾包覆,得到铝合金包覆碳化硅粉体;
4)等离子沉积所述铝合金包覆碳化硅粉体,得到铝碳化硅材料的粗坯;
5)热等静压所述粗坯,最终得到铝碳化硅。
2.根据权利要求1所述的一种基于等离子沉积的铝碳化硅材料的制备方法,其特征在于,所述步骤1)中选择两种或两种以上不同粒度的碳化硅粉体,所述不同粒度的碳化硅粉体中小颗粒:中颗粒:大颗粒的质量比为:3/3/4-2/3/5;所述碳化硅粉体的粒度为0.1-500μm;所述铝合金粉体的粒度为0.1-100μm。
3.根据权利要求2所述的一种基于等离子沉积的铝碳化硅材料的制备方法,其特征在于,所述铝合金粉体为高纯铝粉、6061铝合金粉、7050铝合金粉体中的一种。
4.根据权利要求1所述的一种基于等离子沉积的铝碳化硅材料的制备方法,其特征在于,步骤2)所述混合粉体中碳化硅所占的体积比为40-50%。
5.根据权利要求1所述的一种基于等离子沉积的铝碳化硅材料的制备方法,其特征在于,步骤2)中所述机械手段为采用高能球磨机,所述高能球磨机为氧化锆磨球,料/球质量比为1/2;高能球磨机转数为2000-3000rpm,球磨时间为2-5h。
6.根据权利要求1所述的一种基于等离子沉积的铝碳化硅材料的制备方法,其特征在于,步骤2)中所述改性剂的添加质量百分比为小于等于3%。
7.根据权利要求6所述的一种基于等离子沉积的铝碳化硅材料的制备方法,其特征在于,所述改性剂为硬脂酸、石蜡、树脂中的一种。
8.根据权利要求1所述的一种基于等离子沉积的铝碳化硅材料的制备方法,其特征在于,步骤3)具体包括:
a、将初步包覆后的粉体加入搅拌机中,再加入水作为溶剂,其中料水质量比1/1-1/2;
b、再向上述溶液中加入粘结剂,所述粘结剂的添加质量百分比小于等于3%;加入粘结剂后进行搅拌,搅拌时间为0.5-2h;其中所述粘结剂为PVA、树脂中的一种;
c、对搅拌好的浆料进行热喷雾包覆处理,其中喷口尺寸Ф0.5-2mm,喷雾温度为150-190℃,喷雾压力0.05-0.1Mpa,最终得到铝合金包覆碳化硅粉体。
9.根据权利要求1所述的一种基于等离子沉积的铝碳化硅材料的制备方法,其特征在于,步骤4)中所述等离子沉积涉及的参数依次设定包括如下:
喷嘴出口的直径为6-12mm;喷枪与基体的距离为5-15cm,氩气流量1000-2000L/min;起弧电流为500-800A;氢气流量由电压控制,电压为60-80V;送粉器中喷枪的送粉速度为5-50g/min;机械手的沉积次数5-30次/次。
10.根据权利要求1所述的一种基于等离子沉积的铝碳化硅材料的制备方法,其特征在于,步骤5)中热等静压的条件为:保护气体为氮气、压强10-20MPa,温度800-1000℃,保温时间1-5h。
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