[发明专利]一种光罩及其制作方法以及曝光方法在审

专利信息
申请号: 202111350363.4 申请日: 2021-11-15
公开(公告)号: CN116125744A 公开(公告)日: 2023-05-16
发明(设计)人: 虞静 申请(专利权)人: 长鑫存储技术有限公司
主分类号: G03F1/84 分类号: G03F1/84;G03F1/76;G03F7/20
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 王娜
地址: 230000 安徽省合肥市*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 及其 制作方法 以及 曝光 方法
【权利要求书】:

1.一种光罩,其特征在于,包括:第一图形区域以及围绕所述第一图形区域的第一切割道区域,所述第一切割道区域内具有第一测试元素组标记,且沿所述第一切割道区域的宽度方向,所述第一测试元素组标记的侧边与所述第一切割道区域中邻近所述第一测试元素组标记的边缘之间具有第一间隙。

2.根据权利要求1所述的光罩,其特征在于,所述第一测试元素组标记的形状为矩形,所述第一测试元素组标记的侧边包括平行设置的第一侧边和第二侧边,且所述第一侧边以及所述第二侧边的延伸方向均与所述第一切割道区域的延伸方向相同,所述第一切割道区域的边缘包括第一边缘和第二边缘,所述第一边缘位于所述第一侧边背离所述第二侧边的一侧,所述第二边缘位于所述第二侧边背离所述第一侧边的一侧;

所述第一侧边与所述第一边缘之间具有所述第一间隙;和/或,

所述第二侧边与所述第二边缘之间具有所述第一间隙。

3.根据权利要求1所述的光罩,其特征在于,所述第一间隙a满足:a≥0.5μm。

4.根据权利要求1所述的光罩,其特征在于,所述第一测试元素组标记的宽度d1与所述第一切割道区域的宽度D1之间满足如下关系:

d1≤λ1D1

其中,λ1的范围为80%-85%。

5.根据权利要求1所述的光罩,其特征在于,所述光罩还包括第二图形区域以及围绕所述第二图形区域的第二切割道区域,所述第二切割道区域与所述第一切割道区域存在重叠区域;所述第二切割道区域内具有第二测试元素组标记,所述第二测试元素组标记位于所述重叠区域,所述第二测试元素组标记与所述第一测试元素组标记沿第一方向排列,其中,所述第一方向为所述第一图形区域与所述第二图形区域的排列方向;

沿所述第一方向,所述第二测试元素组标记的侧边与所述第二切割道区域中邻近所述第二测试元素组标记的边缘之间具有第二间隙。

6.根据权利要求5所述的光罩,其特征在于,所述第二测试元素组标记的形状为矩形,所述第二测试元素组标记的侧边包括平行设置的第三侧边和第四侧边,且所述第三侧边以及所述第四侧边的延伸方向均与所述第二切割道区域的延伸方向相同,所述第二切割道区域的边缘包括第三边缘和第四边缘,所述第三边缘位于所述第三侧边背离所述第四侧边一侧,所述第四边缘位于所述第四侧边背离所述第三侧边一侧;

所述第三侧边与所述第三边缘之间具有所述第二间隙;和/或,

所述第四侧边与所述第四边缘之间具有所述第二间隙。

7.根据权利要求5所述的光罩,其特征在于,所述第二间隙b满足:b≥0.5μm。

8.根据权利要求5所述的光罩,其特征在于,所述第二测试元素组标记的宽度d2与所述第二切割道区域宽度D2之间满足如下关系:

d2≤λ2D2

其中,λ2的范围为80%-85%。

9.根据权利要求1所述的光罩,其特征在于,所述第一切割道区域包括第一子切割道区域和第二子切割道区域,其中,所述第一子切割道区域位于所述第二子切割道区域和所述第一图形区域之间,且所述第二子切割道区域围绕所述第一子切割道区域,所述第一子切割道区域围绕所述第一图形区域。

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