[发明专利]半导体元件的承载结构、形成方法、修补方法及显示面板有效

专利信息
申请号: 202110474632.1 申请日: 2021-04-29
公开(公告)号: CN113193095B 公开(公告)日: 2023-06-16
发明(设计)人: 张健承 申请(专利权)人: 友达光电股份有限公司
主分类号: H01L33/48 分类号: H01L33/48;H01L33/62;H01L27/15
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 傅磊;黄艳
地址: 中国台*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 半导体 元件 承载 结构 形成 方法 修补 显示 面板
【权利要求书】:

1.一种半导体元件的承载结构,其包括:

一第一基板;

一第一电极,设置于该第一基板上;

一第二电极,设置于该第一基板上,该第一电极和该第二电极相对设置;

一第一孔洞,设置于该第一电极和该第二电极之间;

一第三电极,设置于该第一电极和该第二电极上,该第三电极为环状且具有一第二孔洞,该第二孔洞暴露该第一孔洞;以及

一半导体元件,设置于该第三电极上。

2.如权利要求1所述的半导体元件的承载结构,进一步包括一晶体管层,设置于该第一基板上,该晶体管层包括一第一晶体管和一第二晶体管,该第一晶体管设置于该第一基板和该第一电极之间,该第二晶体管设置于该第一基板和该第二电极之间。

3.如权利要求1所述的半导体元件的承载结构,该第三电极具有一第一导电区和一第二导电区,该第一导电区对应该第一电极且部分覆盖该第一电极,该第二导电区对应该第二电极且部分覆盖该第二电极,该第一导电区和该第二导电区电性连接该半导体元件。

4.如权利要求1所述的半导体元件的承载结构,其中该第一电极和该第二电极设置于相同膜层。

5.如权利要求1所述的半导体元件的承载结构,其中该半导体元件以该第二孔洞为中心的旋转范围为-108度至108度。

6.如权利要求1所述的半导体元件的承载结构,其中该第三电极的截面形状为圆形或多边形。

7.一种显示面板,其包括:

一第一区,其包括如权利要求1至权利要求6所述的半导体元件的承载结构;以及

一第二区,其包括一半导体元件的容置结构,该半导体元件的容置结构包括:

一第二基板;

一第四电极,设置于该第二基板上;

一第五电极,设置于该第二基板上,该第四电极和该第五电极相对设置;

一第三孔洞,该第三孔洞设置于该第四电极和该第五电极之间;以及

一初始半导体元件,设置于该第三孔洞。

8.如权利要求7所述的显示面板,其中该半导体元件的容置结构包括一第三晶体管以及一第四晶体管,该第三晶体管和该第四晶体管设置于该第二基板上,该第三晶体管设置于该第二基板和该第四电极之间,该第四晶体管设置于该第二基板和该第五电极之间。

9.如权利要求8所述的显示面板,其中该第四电极和该第五电极设置于相同膜层,该第三晶体管和该第四晶体管设置于相同膜层。

10.一种半导体元件的承载结构的形成方法,其包括:

分别形成一第一电极和一第二电极于一基板上,该第一电极和该第二电极相对设置,该第一电极和该第二电极之间具有一第一孔洞;

形成一第三电极于该第一电极和该第二电极上,该第三电极为环状且具有一第二孔洞,该第二孔洞暴露该第一孔洞;以及

粘着一半导体元件于该第三电极上。

11.如权利要求10所述的半导体元件的承载结构的形成方法,于分别形成该第一电极和该第二电极的步骤前,形成一晶体管层于该基板上,该晶体管层包括一第一晶体管、一第二晶体管,该第一晶体管设置于该基板和该第一电极之间,该第二晶体管设置于该基板和该第二电极之间。

12.如权利要求10所述的半导体元件的承载结构的形成方法,于粘着该半导体元件后,切割该第三电极而使其分为一第一导电区和一第二导电区,该第一导电区对应该第一电极且部分覆盖该第一电极,该第二导电区对应该第二电极且部分覆盖该第二电极。

13.如权利要求10所述的半导体元件的承载结构的形成方法,其中该第一电极和该第二电极处于相同膜层。

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