[发明专利]一种显示模块的制备方法及显示模块

说明书

本发明涉及显示元器件领域，具体涉及一种显示模块的制备方法及显示模块，制备方法包括提供设置有多个发光单元的基板，多个发光单元厚度一致；在基板形成整层第一光学覆盖层，整层第一光学覆盖层将所有发光单元覆盖，第一光学覆盖层的厚度大于发光单元的厚度；采用反应离子蚀刻将第一光学覆盖层蚀刻至与发光单元同等厚度使第一光学覆盖层与发光单元在远离基板一侧共面；第一光学覆盖层远离所述基板的一面形成光滑的平面；及在第一光学覆盖层远离基板的一面的光滑平面上直接形成第二光学覆盖层。其能够保证蚀刻表面的平整度和均一性，提高了产品质量和发光效果。显示模块由上述的制备方法制备得到，发光效果好。

【技术领域】

本发明涉及显示元器件领域，具体而言，涉及一种显示模块的制备方法及显示模块。

【背景技术】

目前，在进行显示模块制备的过程中，经常需要将多余的胶层去除。常规的清洗方式/去除方式包括物理性刻蚀与化学性蚀刻两种，采用物理性刻蚀过后，容易影响产品外观并会损耗一定的光效，而采用化学性蚀刻容易导致各向异性，使整体表面平整度和均一性都变得很差，直接影响了产品品质和使用效果。

有鉴于此，特提出本申请。

【发明内容】

为克服现有的制备方法存在的损耗光效、平整度和均一性差的技术问题，本发明的实施例提供了一种显示模块的制备方法及显示模块。

本发明的实施例提供一种显示模块的制备方法，其包括：提供设置有多个发光单元的基板，所述多个发光单元厚度一致；在所述基板形成整层第一光学覆盖层，所述整层第一光学覆盖层将所有发光单元覆盖，所述第一光学覆盖层的厚度大于发光单元的厚度；采用反应离子蚀刻将第一光学覆盖层蚀刻至与发光单元同等厚度使所述第一光学覆盖层与发光单元在远离基板一侧共面；所述第一光学覆盖层远离所述基板的一面形成光滑的平面；以及在第一光学覆盖层远离基板的一面的光滑平面上直接形成第二光学覆盖层；所述第一光学覆盖层由第一胶层形成，和/或所述第二光学覆盖层由第二胶层形成。

优选的，第一光学覆盖层含有遮光材料；和/或第二光学覆盖层添加有荧光材料、调色材料、散射材料、雾度调节材料中的至少一者。

优选的，采用反应离子蚀刻第一光学覆盖层包括：按预设流量通入作用气体，并电离作用气体；利用电离后的作用气体撞击第一光学覆盖层的表面；以及将第一光学覆盖层蚀刻至预设厚度；其中，作用气体包括：O2、N2和CxFy。

优选的，作用气体撞击第一光学覆盖层的表面的撞击角度为30°-90°。

优选的，对第一光学覆盖层的表面进行蚀刻时，以设定的循环次数以及设定的循环时间来进行。

优选的，循环次数设定为3-8次，循环时间设定为每次10-30min，作用气体的流量根据循环次数由开始往后逐渐减小。

优选的，第一胶层为预制形成，其两侧贴合有离型膜，形成第一光学覆盖层时，第一胶层远离发光单元的一侧保留有离型膜；形成第二光学覆盖层之前，将第一胶层的离型膜全部去掉；

第二胶层为预制形成，其两侧贴合有离型膜，形成第二光学覆盖层时，第二胶层远离发光单元的一侧保留有离型膜；第二光学覆盖层形成后，将第二胶层的离型膜全部去掉。

优选的，通过将第一胶层和第二胶层置于下压模进行压合以形成第一光学覆盖层及第二光学覆盖层。

为了进一步解决上述技术问题，本发明的实施例还提供一种显示模块，其由上述的显示模块的制备方法制备得到。

与现有技术相比，本发明的实施例所提供的技术方案的有益效果包括：