[发明专利]一种反射面板及其制备方法

说明书

本申请公开了一种反射面板及其制作方法，其中，所述反射面板包括：基底；以及，位于所述基底上的多个光电结构单元，所述多个光电结构单元中的每个光电结构单元针对特定频率的光能够产生光电效应；其中，当特定频率的光照射所述反射面板时，所述多个光电结构单元产生的光电效应致使所述反射面板的电磁性能发生改变。

技术领域

本申请涉及超材料技术领域，尤其涉及一种基于光控响应的智能反射面板及其制备方法。

背景技术

超表面是一种具有超常物理性能的表面结构，物理性能体现在电磁性能。超表面的电磁性能可以被调控，能够对电磁性能进行调控的超表面又被称为智能反射面。

目前，对超表面的电磁性能的调控采用电控方式，这种超表面又被称为电控智能反射面。具体地，超表面上具有可调元器件(如可变电容、开关二极管等)，通过电控方式对超表面上的可调元器件进行调控(如改变电容的大小、控制二极管的通断等)，从而实现对超表面的电磁性能的调控。然而，通过电控方式对超表面上的可调元器件进行调控，有馈电需求。在实际应用过程中，超表面的架设点并不一定能够满足其对馈电的需求，需要一种全新的控制机制来实现对超表面的电磁特性的调控。

发明内容

为解决上述技术问题，本申请实施例提供了一种反射面板及其制备方法。

本申请实施例提供的反射面板，包括：

基底；以及，

位于所述基底上的多个光电结构单元，所述多个光电结构单元中的每个光电结构单元针对特定频率的光能够产生光电效应；

其中，当特定频率的光照射所述反射面板时，所述多个光电结构单元产生的光电效应致使所述反射面板的电磁性能发生改变。

在本申请一些可选实施方式中，所述基底上具有多个凹槽结构，所述多个凹槽结构与所述多个光电结构单元一一对应，其中，一个光电结构单元位于一个凹槽结构内。

在本申请一些可选实施方式中，所述光电结构单元包括：

半导体层，所述半导体层覆盖在所述基底上；以及，

金属层，所述金属层覆盖在所述半导体层上。

在本申请一些可选实施方式中，所述半导体层为掺杂氧化锌薄膜。

在本申请一些可选实施方式中，所述金属层为银纳米线薄膜。

在本申请一些可选实施方式中，所述金属层为透明金属层。

在本申请一些可选实施方式中，所述基底为透明基底。

在本申请一些可选实施方式中，所述多个光电结构单元在所述基底上呈周期性分布。

本申请实施例提供的反射面板的制备方法，包括：

获取基底；

在所述基底上刻出多个凹槽结构；

在所述多个凹槽结构内制作出多个光电结构单元，得到反射面板；

其中，所述多个光电结构单元中的每个光电结构单元针对特定频率的光能够产生光电效应。

在本申请一些可选实施方式中，所述在所述基底上刻出多个凹槽结构之前，所述方法还包括：在所述基底上覆盖一层掩膜；

所述在所述基底上刻出多个凹槽结构，包括：在覆盖有掩膜的基底上刻出多个凹槽结构。

在本申请一些可选实施方式中，所述在覆盖有掩膜的基底上刻出多个凹槽结构之后，所述方法还包括：

将带有所述多个凹槽结构的基底置于酸性溶液中，利用超声对其进行清洗。