[发明专利]一种反射面板及其制备方法

权利要求书

1.一种反射面板，其特征在于，所述反射面板包括：

基底；以及，

位于所述基底上的多个光电结构单元，所述多个光电结构单元中的每个光电结构单元针对特定频率的光能够产生光电效应；

其中，当特定频率的光照射所述反射面板时，所述多个光电结构单元产生的光电效应致使所述反射面板的电磁性能发生改变。

2.根据权利要求1所述的反射面板，其特征在于，所述基底上具有多个凹槽结构，所述多个凹槽结构与所述多个光电结构单元一一对应，其中，一个光电结构单元位于一个凹槽结构内。

3.根据权利要求1所述的反射面板，其特征在于，所述光电结构单元包括：

半导体层，所述半导体层覆盖在所述基底上；以及，

金属层，所述金属层覆盖在所述半导体层上。

4.根据权利要求3所述的反射面板，其特征在于，所述半导体层为掺杂氧化锌薄膜。

5.根据权利要求3所述的反射面板，其特征在于，所述金属层为银纳米线薄膜。

6.根据权利要求3至5中任一项所述的反射面板，其特征在于，所述金属层为透明金属层。

7.根据权利要求1至5中任一项所述的反射面板，其特征在于，所述基底为透明基底。

8.根据权利要求1至5中任一项所述的反射面板，其特征在于，所述多个光电结构单元在所述基底上呈周期性分布。

9.一种反射面板的制备方法，其特征在于，所述方法包括：

获取基底；

在所述基底上刻出多个凹槽结构；

在所述多个凹槽结构内制作出多个光电结构单元，得到反射面板；

其中，所述多个光电结构单元中的每个光电结构单元针对特定频率的光能够产生光电效应。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，

所述在所述基底上刻出多个凹槽结构之前，所述方法还包括：在所述基底上覆盖一层掩膜；

所述在所述基底上刻出多个凹槽结构，包括：在覆盖有掩膜的基底上刻出多个凹槽结构。

11.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，所述在覆盖有掩膜的基底上刻出多个凹槽结构之后，所述方法还包括：

将带有所述多个凹槽结构的基底置于酸性溶液中，利用超声对其进行清洗。

12.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，所述在所述多个凹槽结构内制作出多个光电结构单元，包括：

制备半导体分散液和金属分散液；

在带有所述多个凹槽结构的基底上依次喷涂所述半导体分散液和所述金属分散液；

其中，所述半导体分散液风干后形成半导体层，所述金属分散液风干后形成金属层，所述半导体层覆盖在所述基底上，所述金属层覆盖在所述半导体层上；所述多个凹槽结构中的每个凹槽结构内的半导体层和金属层形成一个光电结构单元，所述多个凹槽结构内形成有多个光电结构单元。

13.根据权利要求12所述的方法，其特征在于，所述半导体层为掺杂氧化锌薄膜，所述制备半导体分散液包括：

将锌盐和金属盐的掺杂物质倒入水性溶液中，并加入偶联剂后进行搅拌混合，得到前驱物；

利用溶剂热法将所述前驱物制备成掺杂氧化锌粉体；

将所述掺杂氧化锌粉体分散于水性溶液中，得到掺杂氧化锌分散液。

14.根据权利要求12所述的方法，其特征在于，所述金属层为银纳米线薄膜，制备金属分散液，包括：

将银纳米线分散于水性溶液中，得到银纳米线分散液。