[发明专利]一种高产酸的酰亚胺磺酸酯类光产酸剂、组合物及应用

说明书

本发明公开一种高产酸的酰亚胺磺酸酯类光产酸剂、含有该光产酸剂的感光性树脂组合物及其应用。所述酰亚胺磺酸酯类光产酸剂具有如下通式(A1)或(A2)所示结构，其感光度高，溶解性、热稳定性且储存稳定性好，应用于半导体光刻胶组合物时性能优异。

技术领域

本发明属于感光材料技术领域，具体涉及一种在300-450nm波长范围内高产酸的酰亚胺磺酸酯类光产酸剂、含有该光产酸剂的感光性树脂组合物及其应用。

背景技术

含有树脂(如羧酸的叔丁基酯或苯酚的叔丁基醚、甲硅烷基醚等)和光产酸剂的树脂组合物是一种典型的用于光刻工序的抗蚀剂材料。当前所用的光产酸剂已知有多种类型，其中酰亚胺磺酸酯光产酸剂在半导体领域中用作光引发剂已被广泛知悉，如公开号为JP6059953B2、JP6205285B2、JP5715892B2、CN107810179A、CN107250114A等专利文献公开了不同的应用于半导体领域的酰亚胺磺酸酯类产品。然而这些非离子型光产酸剂通常存在在长波长下灵敏度不足、在溶剂中溶解性较差等问题，因此寻找性能更为优异的新型光产酸剂是该领域的研究重点。

发明简述

本发明的目的在于提供一种感光度更高，溶解性、热稳定性和储存稳定性更具优势的酰亚胺磺酸酯类光产酸剂。作为半导体光刻胶组合物中的关键组分，该光产酸剂在应用于面板保护膜/绝缘膜等时表现出更具优势的热稳定性和化学稳定性等性能。

围绕上述目的，本发明具体提供一种酰亚胺磺酸酯类光产酸剂，具有如下通式(A1)或(A2)所示结构：

其中，

R₁表示C₁-C₂₀的直链或支链的烷基、C₃-C₂₀的环状烷基、C₁-C₂₀的直链或支链的氟代烷基、C₃-C₂₀的氟代环状烷基、C₆-C₁₈的取代或未取代的芳基、樟脑基、或叠氮萘酮基团；