[发明专利]一种显示基板及其制备方法、显示装置在审

专利信息
申请号: 202110202458.5 申请日: 2021-02-23
公开(公告)号: CN113013181A 公开(公告)日: 2021-06-22
发明(设计)人: 杨宇桐;黄中浩;吴旭;王兆君;田茂坤;谌伟 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 代理人: 解婷婷;曲鹏
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 显示 及其 制备 方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种显示基板,其特征在于,包括:显示区和围绕所述显示区的外围区,所述外围区包括设置在基底上的第一绝缘层和第二绝缘层,以及设置在所述第一绝缘层和第二绝缘层之间的间隔层,所述间隔层设置在所述第一绝缘层远离所述显示区一侧。

2.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,在平行于所述基底的平面上,所述间隔层靠近所述显示基板的切割边缘的一侧的边界落在所述第一绝缘层或所述第二绝缘层的边界上。

3.根据权利要求2所述的显示基板,其特征在于,在平行于所述基底的平面上,所述间隔层远离所述显示基板的切割边缘一侧与靠近所述显示基板的切割边缘一侧的距离大于等于50微米。

4.根据权利要求2所述的显示基板,其特征在于,所述第一绝缘层和所述第二绝缘层延伸到所述显示区,所述显示区还包括设置在所述第一绝缘层和所述第二绝缘层之间的第一电极,以及,设置在所述第二绝缘层远离所述基底一侧的第二电极,所述间隔层与所述第一电极同层设置。

5.根据权利要求4所述的显示基板,其特征在于,所述显示区还包括:

设置在所述基底和所述第一绝缘层之间的栅电极,依次设置在所述第一绝缘层和所述第一电极之间的有源层、源漏电极层、第三绝缘层和有机膜层。

6.根据权利要求1至5任一所述的显示基板,其特征在于,在平行于所述基底的平面上,所述第一绝缘层靠近所述显示基板的切割边缘侧的第一边界,以及,所述第二绝缘层靠近所述显示基板的切割边缘侧的第二边界,与所述显示基板的切割边缘对齐,或者,所述第一边界、所述第二边界与所述显示基板的切割边缘之间存在预设距离。

7.根据权利要求1至5任一所述的显示基板,其特征在于,所述外围区包括绑定区域,所述间隔层设置在所述绑定区域。

8.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求1至7任一所述的显示基板。

9.一种显示基板的制备方法,所述显示基板包括显示区和外围区,包括:

在基底上的所述外围区依次形成第一绝缘层、间隔层、第二绝缘层,其中,所述间隔层设置在所述第一绝缘层远离所述显示区一侧。

10.根据权利要求9所述的显示基板的制备方法,其特征在于,在基底上的所述外围区依次形成第一绝缘层、间隔层、第二绝缘层包括:

在基底上沉积第一绝缘层薄膜,构图形成第一绝缘层图案;

沉积导电薄膜,构图形成所述间隔层以及位于所述显示区的第一电极;

沉积第二绝缘层薄膜,构图形成第二绝缘层图案。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110202458.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top