[发明专利]研磨用组合物在审
| 申请号： | 202080067989.1 | 申请日： | 2020-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN114450376A | 公开（公告）日： | 2022-05-06 |
| 发明（设计）人： | 谷口惠;土屋公亮 | 申请（专利权）人： | 福吉米株式会社 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 研磨 组合 | ||
【权利要求书】：
1.一种研磨用组合物，其包含磨粒、碱性化合物、pH缓冲剂及水，
作为所述pH缓冲剂，包含：酸解离常数(pKa)值的至少一者为9～11的范围的盐SL，以及pKa值的至少一者为12以上的盐SH。
2.根据权利要求1所述的研磨用组合物，其中，所述盐SH的含量(CH)相对于所述盐SL的含量(CL)的比(CH/CL)为0.1以上且10以下。
3.根据权利要求1或2所述的研磨用组合物，其中，作为所述盐SH，包含选自由硅酸、精氨酸、次氮基三亚甲基膦酸、磷酸及四甲基胍组成的组中的化合物的盐。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的研磨用组合物，其中，作为所述盐SL，包含碳酸盐。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的研磨用组合物，其中，作为所述pH缓冲剂，包含具有有机碳的盐。
6.根据权利要求5所述的研磨用组合物，其中，所述具有有机碳的盐选自有机碳酸盐及有机碳酸氢盐。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的研磨用组合物，其中，作为所述磨粒，包含二氧化硅颗粒。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的研磨用组合物，其中，作为所述碱性化合物，包含季铵氢氧化物类。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的研磨用组合物，其用于赋予了硬激光标记的硅晶圆的研磨工序。
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