[实用新型]半导体离心旋转清洗机

权利要求书

1.半导体离心旋转清洗机，其特征在于，包括设备主机、上下料系统和用于放置工件(21)的工装篮(2)，所述设备主机包括综合工作腔(3)、清洗储水槽(6)和漂洗储水槽(7)，所述综合工作腔(3)内置有用于实现工件(21)清洁操作的清洁腔以及离心控制系统，所述上下料系统用于实现对工件(21)的传送运转操作；

所述工装篮(2)沿轴线开设有限位孔(23)，并周向设置有若干工件放置位，所述工件放置位用于对工件(21)的承载锁定；

所述清洁腔(31)开设有用于工装篮(2)进入的工作入口，所述工作入口处设置有可开启的横移密封门(311)，所述清洁腔(31)的中部设置有用于放置工装篮(2)的承载位，并于内壁朝向承载位设置有若干清洁喷嘴(33)以及干燥风刀，所述清洁腔(31)的底部设置有排水口(36)，所述清洁腔(31)安装有若干超声波换能器(34)，所述超声波换能器(34)连接有超声发生器，所述承载位为与离心控制系统相连的支撑圆台(322)，所述支撑圆台(322)沿轴线设置有一端与限位孔(23)相匹配的传动转轴(32)，所述传动转轴(32)的另一端部与离心控制系统相连，所述离心控制系统用于实现对放置于支撑圆台(322)处工装篮的旋转驱动。

2.根据权利要求1所述的半导体离心旋转清洗机，其特征在于，所述上下料系统包括传送系统(1)和横移组件(4)，所述传送系统(1)用于将工装篮(2)传送至综合工作腔(3)对应位置，并沿传送方向形成上料台、操作台和下料台，所述横移组件(4)用于实现工装篮(2)在操作台和承载位的往复拿取操作，所述工作入口开设于清洁腔(31)的上方，所述横移组件(4)包括横向驱动组件(41)、升降驱动组件(42)和拿取夹爪，所述横向驱动组件(41)架设于清洁腔(31)和操作台的上方，所述升降驱动组件(42)安装于横向驱动组件(41)并沿其轴线实现往复横移运动，所述拿取夹爪设置于升降驱动组件(42)的驱动端。

3.根据权利要求2所述的半导体离心旋转清洗机，其特征在于，所述操作台的两侧分别设置有感应挡件(11)。

4.根据权利要求1所述的半导体离心旋转清洗机，其特征在于，所述横移密封门(311)平行于横向驱动组件(41)，所述横移密封门(311)与清洁腔(31)之间设置有电磁安全锁。

5.根据权利要求1所述的半导体离心旋转清洗机，其特征在于，所述综合工作腔(3)内置有若干防水照明灯。

6.根据权利要求1所述的半导体离心旋转清洗机，其特征在于，所述漂洗储水槽(7)和/或清洗储水槽(6)设置有在线数据监测系统。

7.根据权利要求1所述的半导体离心旋转清洗机，其特征在于，所述设备主机的顶部设置有蒸汽冷凝器(35)，所述蒸汽冷凝器(35)包括连通于清洁腔(31)的收集入口以及收集出口，所述收集出口与清洗储水槽(6)或漂洗储水槽(7)相连。

8.根据权利要求1所述的半导体离心旋转清洗机，其特征在于，所述排水口(36)设置于清洁腔(31)的底部一侧，所述清洁腔(31)的底部为朝向排水口(36)的倾斜设置。

9.根据权利要求8所述的半导体离心旋转清洗机，其特征在于，所述排水口(36)连接于废水循环系统，所述废水循环系统包括废水暂存及预处理槽、双氧水槽、电催化反应槽、电絮凝反应槽以及超滤反渗透装置，所述排水口(36)连接于废水暂存及预处理槽的进水口，所述废水暂存及预处理槽、双氧水槽的出水口连接于电催化反应槽的进水口，所述电催化反应槽、电絮凝反应槽和超滤反渗透装置实现依次连接，并与清洗储水槽(6)/或漂洗储水槽(7)相连。