[实用新型]封装基板有效

专利信息
申请号: 202020252596.5 申请日: 2020-03-04
公开(公告)号: CN211529939U 公开(公告)日: 2020-09-18
发明(设计)人: 欧宪勋;廖顺兴;程晓玲;罗光淋;王鹏 申请(专利权)人: 日月光半导体(上海)有限公司;日月光半导体制造股份有限公司
主分类号: H01L23/498 分类号: H01L23/498;H01L21/48
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 林斯凯
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 封装
【说明书】:

本申请实施例涉及封装基板。根据一实施例的封装基板,其包括:线路顶层;线路底层;第一绝缘层,其位于线路顶层与线路底层之间;以及至少一个阶梯状斜侧面,该阶梯状斜侧面具有自线路顶层延伸至第一绝缘层的第一阶梯斜侧面及自第一绝缘层延伸至线路底层的第二阶梯斜侧面。本申请实施例提供的封装基板及其制造方法,其可从外观对封装基板的焊锡性能做有效评估。

技术领域

本申请实施例大体上涉及半导体领域,更具体地,涉及封装基板及其制造方法。

背景技术

格栅阵列(land grid array,LGA)封装技术是半导体封装技术领域“跨越性的技术革命”,原因主要在于其使用金属触点式封装取代了以往的针状插脚。然而,一般很难从格栅阵列封装的产品外观来判断其焊锡点,尤其是底部的焊锡点的性能是否良好。此外,LGA封装侧面的焊脚在生产过程中只是在封装单元连接处切断而露出焊脚切断面。相应的,由于焊脚切断面较小,焊接时很难粘附足够的焊锡。而且,暴露的焊脚切断面在一段时间后容易氧化,这就更会造成焊脚切断面上锡的困难,进而影响封装产品在应用时的操作性和稳定性。

因此,现有的格栅阵列封装类封装基板需进一步改进。

实用新型内容

本申请实施例的目的之一在于提供一种封装基板及其制造方法,其可从外观对封装基板的焊锡性能做有效评估性。

本申请的一实施例提供一封装基板,其包括:线路顶层;线路底层;第一绝缘层,其位于线路顶层与线路底层之间;以及至少一个阶梯状斜侧面,该阶梯状斜侧面具有自线路顶层延伸至第一绝缘层的第一阶梯斜侧面及自第一绝缘层延伸至线路底层的第二阶梯斜侧面。

根据本申请的另一实施例,第一绝缘层具有核心层。线路顶层进一步包括导电顶层,导电顶层上方设有抗氧化顶层。封装基板进一步包括侧导电层,其自导电顶层沿着所述至少一个阶梯状斜侧面延伸至线路底层,以及侧抗氧化层,其位于侧导电层上方,且自抗氧化顶层延伸。封装基板进一步包括覆盖线路底层的抗氧化底层,抗氧化底层自侧抗氧化层延伸。

根据本申请的另一实施例,线路底层进一步包括导电底层,导电底层下方设有抗氧化底层。导电顶层、侧导电层及导电底层为铜层,抗氧化顶层、侧抗氧化层及抗氧化底层为-镍金层。抗氧化顶层的侧面亦呈倾斜阶梯状。

本申请的另一实施例还提供一种封装基板料-条,其包括上述的封装基板。

本申请的另一实施例还提供一种制造封装基板的方法,其包括:提供具有若干封装基板单元的封装基板料-条,每一封装基板单元包含:线路顶层;线路底层;及第一绝缘层,其具有核心层,且位于线路顶层和线路底层之间;自线路顶层的上表面向下钻孔至所述第一绝缘层的部分而形成第一凹槽,第一凹槽具有自线路顶层延伸至第一绝缘层的第一阶梯斜侧面;及自第一凹槽的底部钻孔至线路底层而形成第二凹槽,第二凹槽具有自第一绝缘层延伸至线路底层的第二阶梯斜侧面;以及分割若干封装基板单元形成单独的封装基板。

根据本申请的另一实施例,线路顶层具有导电顶层,上述方法包括形成位于导电顶层上方的抗氧化顶层,进一步包括形成侧导电层,该侧导电层自导电顶层沿着第一阶梯斜侧面及第二阶梯斜侧面延伸至线路底层;以及形成侧抗氧化层,其位于侧导电层上方,且自抗氧化顶层延伸。

根据本申请的另一实施例,上述方法进一步包括形成覆盖线路底层的抗氧化底层,该抗氧化底层自侧抗氧化层延伸。

根据本申请的另一实施例,线路底层包括导电底层,上述方法进一步包括形成位于导电底层下方的抗氧化底层。

与现有技术相比,本申请实施例提供的封装基板具有焊锡可视性,从而能够有效判断封装基板的焊锡性是否良好,同时使得封装基板的切断面不容易被氧化。

附图说明

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日月光半导体(上海)有限公司;日月光半导体制造股份有限公司,未经日月光半导体(上海)有限公司;日月光半导体制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202020252596.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top