[发明专利]化学气相沉积装置及其温度控制方法在审
| 申请号： | 202011521736.5 | 申请日： | 2020-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN112680724A | 公开（公告）日： | 2021-04-20 |
| 发明（设计）人： | 吴铭钦;刘峰 | 申请（专利权）人： | 苏州雨竹机电有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/54 | 分类号： | C23C16/54;C23C16/46;C23C16/52;C23C16/458 |
| 代理公司： | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人： | 李怀周 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州市中国(江苏)自由*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 化学 沉积 装置 及其 温度 控制 方法 | ||
1.一种化学气相沉积装置，其特征在于，包括：
一基板座，用以放置基板；
一主加热系统，位于该基板座一侧，用以将该基板座以及在该基板座上的基板的温度加热至一预设值；以及
一辅助加热系统，位于该基板座的另一侧，用以将该基板座上的基板的各个部位的温度从该预设值加热至各自的温度目标值。
2.根据权利要求1所述的化学气相沉积装置，其特征在于，该主加热系统的功率高于该辅助加热系统的功率，该辅助加热系统的加热速度快于该主加热系统的加热速度。
3.根据权利要求1所述的化学气相沉积装置，其特征在于，该辅助加热系统是用以将该基板座上的基板的各部位加热至不同的温度目标值。
4.根据权利要求1所述的化学气相沉积装置，其特征在于，该辅助加热系统是用以将该基板座上的基板的各部位加热至相同的温度目标值。
5.根据权利要求1所述的化学气相沉积装置，其特征在于，该辅助加热系统包括红外线加热器或激光加热器。
6.根据权利要求1所述的化学气相沉积装置，其特征在于，更包括一传感器连接该辅助加热系统，用以感测该基板座上的基板的各个部位的温度产生一温度传感信号给该辅助加热系统。
7.一种化学气相沉积装置的温度控制方法，其特征在于，包括下列步骤：
利用一主加热系统对一基板座以及一基板加热，其中该基板是被放置在该基板座上；以及
在该基板的温度达到一预设值后，利用一辅助加热系统对该基板加热，以使该基板上各个部位的温度达到各自的温度目标值。
8.根据权利要求7所述的温度控制方法，其特征在于，该主加热系统的功率高于该辅助加热系统的功率，该辅助加热系统的加热速度快于该主加热系统的加热速度。
9.根据权利要求7所述的温度控制方法，其特征在于，更包括对该基板的各个部位设定不同的温度目标值。
10.根据权利要求7所述的温度控制方法，其特征在于，更包括对该基板的各个部位设定相同的温度目标值。
11.根据权利要求7所述的温度控制方法，其特征在于，该辅助加热系统包括红外线加热器或激光加热器。
12.根据权利要求7所述的温度控制方法，其特征在于，更包括感测该基板的各个部位的温度产生一温度传感信号给该辅助加热系统。
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C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
