[发明专利]具有旁通阀的排气后处理部件在审

专利信息
申请号: 202011300551.1 申请日: 2020-11-19
公开(公告)号: CN112901318A 公开(公告)日: 2021-06-04
发明(设计)人: C·查普曼;M·罗宾森 申请(专利权)人: 佛吉亚排放控制技术美国有限公司
主分类号: F01N3/20 分类号: F01N3/20;F01N3/28;F01N9/00
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 胡晓萍
地址: 美国印*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 具有 旁通 排气 处理 部件
【权利要求书】:

1.一种排气系统,包括:

构造为接收来自发动机的排气气体的第一后处理基底;

位于所述第一后处理基底下游的第二后处理基底,其中,所述第一后处理基底小于所述第二后处理基底;以及

旁通阀,所述旁通阀构造成当排气气体温度低于预先确定的温度时在所述排气气体进入所述第二后处理基底之前引导所述排气气体穿过所述第一后处理基底,并且构造成当所述排气气体温度高于所述预先确定的温度时允许排气气体对所述第一后处理基底旁通并进入所述第二后处理基底。

2.如权利要求1所述的排气系统,其特征在于,所述第一后处理基底和第二后处理基底包括SCR基底。

3.如权利要求2所述的排气系统,其特征在于,包括位于所述第二后处理基底上游且位于所述第一后处理基底下游的混合器和DOC或DOC/DPF。

4.如权利要求3所述的排气系统,其特征在于,包括喷射系统,所述喷射系统至少具有构造成将还原剂喷射到所述混合器中的第一定量给料器和构造成在所述第一后处理基底上游喷射还原剂的第二定量给料器。

5.如权利要求4所述的排气系统,其特征在于,所述旁通阀和所述第一定量给料器以及所述第二定量给料器由至少一个电子控制单元控制。

6.如权利要求1所述的排气系统,其特征在于,所述第一后处理基底定位在涡轮增压器的紧接着的下游,并且包括:

围绕所述第二后处理基底的壳体,

第一管,所述第一管具有与涡轮增压器出口管流体连通的第一管端和与所述壳体的入口流体连通的第二管端,以及

第二管,所述第二管具有与所述涡轮增压器出口管流体连通的第一管端和与所述壳体的入口流体连通的第二管端,并且其中,所述旁通阀定位在所述第一管与所述第二管中的一者之内。

7.如权利要求6所述的排气系统,其特征在于,所述旁通阀定位在所述第一管内,并且所述第一后处理基底定位在所述第二管内以提供并联构造。

8.如权利要求6所述的排气系统,其特征在于,所述旁通阀定位在所述第一管内,并且所述第一后处理基底定位在所述第一管内、所述旁通阀下游,并且其中,当所述旁通阀处于关闭位置中时,所述排气气体对所述第一后处理基底旁通,并且经所述第二管流到壳体的入口。

9.如权利要求8所述的排气系统,其特征在于,包括入口增压室,所述入口增压室将所述第一后处理基底的出口流体连接到所述壳体的入口,并且其中所述第二管的所述第二管端在所述第一后处理基底下游直接连接到所述入口增压室。

10.如权利要求6所述的排气系统,其特征在于,所述旁通阀定位在所述第一管内,并且所述第一后处理基底定位在所述第二管内,并且其中,当所述旁通阀处于关闭位置中时,排气气体经第二管流入所述第一后处理基底。

11.如权利要求10所述的排气系统,其特征在于,包括入口增压室,所述入口增压室将所述第一后处理基底的出口流体连接到所述壳体的入口,并且其中,所述第一管的所述第二管端在所述第一后处理基底下游直接连接到所述入口增压室。

12.如权利要求6所述的排气系统,其特征在于,所述第一后处理基底包括围绕所述第一后处理基底的中心壳体、连接到所述中心壳体的上游端的入口锥体和连接到所述中心壳体的下游端的出口锥体,并且其中,所述入口锥体包括构造为接收定量给料器的定量给料器安装接口。

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