[发明专利]一种基于Flip-chip连接的超薄封装件及其制作工艺在审

专利信息
申请号: 202011244501.6 申请日: 2020-11-10
公开(公告)号: CN112349674A 公开(公告)日: 2021-02-09
发明(设计)人: 肖国庆 申请(专利权)人: 江西芯世达微电子有限公司
主分类号: H01L23/495 分类号: H01L23/495;H01L23/31;H01L21/48;H01L21/50;H01L21/56;H01L21/60
代理公司: 南昌金轩知识产权代理有限公司 36129 代理人: 孙文伟
地址: 330000 江西*** 国省代码: 江西;36
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 flip chip 连接 超薄 封装 及其 制作 工艺
【权利要求书】:

1.一种基于Flip-chip连接的超薄封装件,其特征在于:所述封装件包括:

塑封体(4)、芯片(3)、多个金属凸点(2)、镀银层(5)、镀NiPdAu层(6)、铜倒角连接层(7)以及引线框架(1);

所述镀银层(5)为多段式层结构,且形成相互独立间隔的层段;

所述芯片(3)的电气面植有所述金属凸点(2);所述芯片(3)通过所述金属凸点(2)电气接合于所述所述镀银层(5)上;

所述塑封体(4)能够将所述金属凸点(2)、所述芯片(3)、所述镀银层(5)、所述镀NiPdAu层(6)和所述铜倒角连接层(7)填充包围;

所述金属凸点(2)与引线框架(1)通过导线连通;使其所述金属凸点(2)、所述镀银层(5)、所述铜倒角连接层(7)与所述镀NiPdAu层(6)构成电路的电源和信号通道。

2.如权利要求1所述的一种基于Flip-chip连接的超薄封装件,其特征在于:

所述塑封体(4)为绝缘材质,填充在整个封装件的空间内部。

3.一种基于Flip-chip连接的超薄封装件的制作工艺,其特征在于:具体按照以下步骤进行:

步骤1,在所述引线框架(1)的预定位置上镀NiPdAu,并形成所述镀NiPdAu层(6);所述镀NiPdAu层(6)的厚度为3um~5um;

步骤2,在步骤1所述镀NiPdAu层(6)上形成所述铜倒角连接层(7),所述铜倒角连接层(7)的厚度为50um~100um;并腐蚀成倒凸台;

步骤3,在步骤2所述铜倒角连接层(7)上镀所述镀银层(5);所述镀银层(5)的厚度为3um~5um;

步骤4,进行减薄处理,减薄厚度为50μm~200μm,并控制表面粗糙度为Ra 0.10mm~0.05mm;

步骤5,采用划片机进行划片;

步骤6,在所述芯片(3)上用植球的方式作出所述金属凸点(2),倒装上芯后直接和所述引线框架(1)连通;

步骤7,对整体进行塑封,塑封料填充满所述铜倒角连接层(7)的凹槽,形成有效的防拖拉结构,确保封装可靠性;

步骤8,用化学溶液腐蚀掉全部所述引线框架(1),并露出所述镀NiPdAu层(6);

步骤9,将步骤8形成的封装件进行切割、包装。

4.如权利要求3所述的一种基于Flip-chip连接的超薄封装件的制作工艺,其特征在于:

所述铜倒角连接层(7)的材质为A194。

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