[发明专利]一种半导体芯片裂片机在审
| 申请号: | 202011196888.2 | 申请日: | 2020-10-30 |
| 公开(公告)号: | CN112201621A | 公开(公告)日: | 2021-01-08 |
| 发明(设计)人: | 李健儿;冯永;胡仲波;敬春云;宋勇;王一超;李慕轩 | 申请(专利权)人: | 四川上特科技有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/78 | 分类号: | H01L21/78;H01L21/67;H01L21/304 |
| 代理公司: | 成都睿道专利代理事务所(普通合伙) 51217 | 代理人: | 王小艳 |
| 地址: | 629200 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 半导体 芯片 裂片 | ||
本发明公开了一种半导体芯片裂片机,包括机体和滑动连接于该机体的龙门架;以及轧辊,用于辊压芯片;升降辊架,配置于该龙门架、连接于该轧辊;还包括一对调节装置,配置于该龙门架与该升降辊架之间、用于调整该轧辊的水平角度;该对调节装置对称配置于该轧辊的两端;一对距离检测装置,配置于该龙门架、分别对应于该轧辊的两端;该对距离检测装置设置于同一高度,该距离检测装置用于检测该轧辊两端部之间的高度差。本发明能够提高轧辊水平角度的调整效率,提高轧辊水平角度的调整精度,在生产过程中实现轧辊水平角度的快速调整,提高生产效率。
技术领域
本发明涉及硅片加工技术领域,具体而言,涉及一种半导体芯片裂片机。
背景技术
在半导体芯片的制备工艺中,管芯加工工艺完成后需要将单个芯粒从硅片上分离,再进行后续的焊接封装等工艺,此工序也称为“裂片”,该工序分为两个主要步骤:
1.划片,使用激光划片装置,按照规划好的轨迹和参数,在硅片上划刻出具有一定深度而又未将硅片完全划透的划道,初步分隔开各个芯粒,为下一工步做好准备;
2.裂片,使用某种方式,将已初步分隔开的芯粒完全分离,。
现有已公开的专利名称为“半自动芯片裂片机及裂片方法”、公开号为CN105590884B的中国发明专利,该专利设置旋转承片台和活动龙门架,该旋转承片台用于承载芯片,该活动龙门架设置有轧辊、气缸和螺旋微测器,气缸驱动轧辊辊压旋转承片台上的芯片,该轧辊两端各设置1个螺旋微测器,利用该螺旋微测器调整轧辊下压高度和水平角度。
但是,上述专利通过前述2个螺旋微测器手动调整轧辊水平角度,在调整时需要反复转动2个螺旋微测器,以调整轧辊的水平角度,效率低且调整精度较低,在生产过程中无法实现轧辊水平角度的快速调整,降低了生产效率。
发明内容
本发明的目的包括提供一种半导体芯片裂片机,其针对半导体芯片裂片机而设计,能够提高轧辊水平角度的调整效率,提高轧辊水平角度的调整精度,在生产过程中实现轧辊水平角度的快速调整,提高生产效率。
本发明的实施例通过以下技术方案实现:
一种半导体芯片裂片机,包括机体和滑动连接于该机体的龙门架;以及轧辊,用于辊压芯片;以及升降辊架,配置于该龙门架、连接于该轧辊;还包括一对调节装置,配置于该龙门架与该升降辊架之间、用于调整该轧辊的水平角度;该对调节装置对称配置于该轧辊的两端;还包括一对距离检测装置,配置于该龙门架、分别对应于该轧辊的两端;该对距离检测装置设置于同一高度,该距离检测装置用于检测该轧辊两端部之间的高度差。
在本发明的一实施例中,所述调节装置包括固定块和活动调节块,该固定块配置于该升降辊架,该固定块配置有第一斜面;该活动调节块配置于该龙门架,该活动调节块配置有贴合于该第一斜面的第二斜面,该活动调节块可沿该第二斜面的水平分解方向滑动,该第一斜面可沿该第二斜面滑动。
在本发明的一实施例中,所述活动调节块配置有导轨,该导轨固定于所述龙门架。
在本发明的一实施例中,所述调节装置还包括水平滚珠丝杠和电机,该水平滚珠丝杠固定于所述龙门架,该电机与该水平滚珠丝杠连接;该水平滚珠丝杠配置有丝杠螺母,该丝杠螺母与该活动调节块固定。
在本发明的一实施例中,所述升降辊架包括辊架主体和一对升降导向机构,所述轧辊配置于该辊架主体;该对升降导向机构对称配置于该辊架主体的两端,该升降导向机构连接于所述龙门架。
在本发明的一实施例中,所述对升降导向机构包括导杆、一对直线轴承和连接板;该对直线轴承固定于所述龙门架;该导向杆插至该直线轴承,该导向杆的一端铰接于该辊架主体,该导向杆的一端连接于该连接板。
在本发明的一实施例中,所述固定块固定于该连接板。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





