[发明专利]清洗机台以及清洗方法

权利要求书

1.一种清洗机台，其特征在于，包括：

湿法清洗模块，用于对晶圆执行湿法清洗工艺；

干法清洗模块，用于对晶圆执行干法清洗工艺；

输送模块，用于将晶圆输入至所述湿法清洗模块或所述干法清洗模块中，或用于将所述湿法清洗模块或所述干法清洗模块中的晶圆输出；

传送模块，用于将晶圆从所述湿法清洗模块传送至所述干法清洗模块，或用于将晶圆从所述干法清洗模块传送至所述湿法清洗模块；

处理模块，用于抽取所述传送模块中的气体。

2.根据权利要求1所述的清洗机台，其特征在于，还包括：所述传送模块与所述干法清洗模块连接的第一通道，所述传送模块与所述湿法清洗模块连接的第二通道；

所述传送模块包括：承载单元，用于承载从所述湿法清洗模块传送至所述干法清洗模块的晶圆，或用于承载从所述干法清洗模块传送至所述湿法清洗模块的晶圆；

第一阻隔单元，用于打开或关闭所述第一通道，当所述承载单元需要与所述干法清洗模块进行晶圆传输，打开所述第一通道；

第二阻隔单元，用于打开或关闭所述第二通道，当所述承载单元需要与所述干法清洗模块进行晶圆传输，打开所述第二通道；

控制单元，用于打开或关闭所述第一阻隔单元和所述第二阻隔单元。

3.根据权利要求2所述的清洗机台，其特征在于，所述传送模块包括具有第一开口和第二开口的容器，所述第一开口用于所述承载单元与所述干法清洗模块进行晶圆传输，所述第二开口用于所述承载单元与所述湿法清洗模块进行晶圆传输；

所述第一阻隔单元包括设置在所述第一开口的第一挡板；

所述第二阻隔单元包括设置在所述第二开口的第二挡板；

所述控制单元连接所述第一挡板和所述第二挡板，用于控制所述第一挡板或所述第二挡板，以打开所述第一开口或所述第二开口。

4.根据权利要求2所述的清洗机台，其特征在于，所述传送模块包括具有第一开口和第二开口的容器，所述第一开口用于所述承载单元与所述干法清洗模块进行晶圆传输，所述第二开口用于所述承载单元与所述湿法清洗模块进行晶圆传输；

所述第一阻隔单元包括通过铰链弹性连接在所述第一开口一侧的第一挡板；

所述第二阻隔单元包括通过铰链弹性连接在所述第二开口一侧的第二挡板；

所述控制单元连接所述承载单元，当所述承载单元与所述干法清洗模块进行晶圆传输，所述承载单元向所述第一开口移动以带动所述第一挡板打开，当所述承载单元与所述湿法清洗模块进行晶圆传输，所述承载单元向所述第二开口移动以带动所述第二挡板打开。

5.根据权利要求1所述的清洗机台，其特征在于，所述输送模块包括：

第一输送单元，连接所述湿法清洗模块或所述干法清洗模块的其中一者，用于将晶圆输入至所述第一输送单元连接的所述湿法清洗模块或所述第一输送单元连接的所述干法清洗模块中；

第二输送单元，连接所述湿法清洗模块或所述干法清洗模块的另外一者，用于将所述第二输送单元连接的所述湿法清洗模块或所述第二输送单元连接的所述干法清洗模块中的晶圆输出。

6.根据权利要求1所述的清洗机台，其特征在于，所述传送模块包括：

第一传送单元，用于将晶圆从所述湿法清洗模块传送至所述干法清洗模块；

第二传送单元，用于将晶圆从所述干法清洗模块传送至所述湿法清洗模块。

7.根据权利要求6所述的清洗机台，其特征在于，所述传送模块还包括：第三传送单元，连接所述输送模块和所述湿法清洗模块或所述干法清洗模块的其中一者，用于将所述第三传送单元连接的所述湿法清洗模块或所述干法清洗模块中的晶圆输送至所述输送模块，以供所述输送模块将所述湿法清洗模块或所述干法清洗模块中的晶圆输出。

8.根据权利要求1所述的清洗机台，其特征在于，所述湿法清洗模块包括：

缓冲室，用于放置待清洗的晶圆；

连接所述缓冲室的多个清洁室，用于对放置在所述清洁室内的晶圆进行湿法清洗工艺。