[发明专利]一种量子点发光二极管及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202010978385.4 申请日: 2020-09-16
公开(公告)号: CN114267801B 公开(公告)日: 2023-09-01
发明(设计)人: 赖学森;严怡然;张建新;敖资通;杨帆 申请(专利权)人: TCL科技集团股份有限公司
主分类号: H10K50/14 分类号: H10K50/14;H10K50/16;H10K50/115;H10K71/00;H10K85/20
代理公司: 深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙) 44268 代理人: 刘芙蓉;温宏梅
地址: 516000 广东省惠州市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 量子 发光二极管 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种量子点发光二极管,包括:阳极、阴极、设置于所述阳极和阴极之间的量子点发光层、设置于所述阴极和量子点发光层之间的电子传输层,其特征在于,还包括:设置于所述电子传输层和量子点发光层之间的界面修饰层,所述界面修饰层包括MrGO-AD复合纳米片;

所述MrGO-AD复合纳米片包括:石墨烯纳米片、MXene纳米片和1-氨基芘-二琥珀酸二酯分子,所述MXene纳米片设置于两相邻石墨烯纳米片之间的间隙,所述两相邻石墨烯纳米片之间通过所述1-氨基芘-二琥珀酸二酯分子交联;其中所述MXene为Ti3C2Tx,Tx为表面官能团,x代表官能团的个数。

2.根据权利要求1所述的量子点发光二极管,其特征在于,所述界面修饰层由MrGO-AD复合纳米片组成。

3.根据权利要求1所述的量子点发光二极管,其特征在于,所述界面修饰层的厚度为1-50nm。

4.一种量子点发光二极管的制备方法,其特征在于,包括步骤:

在阳极上形成量子点发光层;

在所述量子点发光层上形成界面修饰层,所述界面修饰层包括MrGO-AD复合纳米片;

在所述界面修饰层上形成电子传输层;

在所述电子传输层上形成阴极,得到所述量子点发光二极管;

或者,在阴极上形成电子传输层;

在所述电子传输层上形成界面修饰层,所述界面修饰层包括MrGO-AD复合纳米片;

在所述界面修饰层上形成量子点发光层;

在所述量子点发光层上形成阳极,得到所述量子点发光二极管;

其中,所述MrGO-AD复合纳米片包括:石墨烯纳米片、MXene纳米片和1-氨基芘-二琥珀酸二酯分子,所述MXene纳米片设置于两相邻石墨烯纳米片之间的间隙,所述两相邻石墨烯纳米片之间通过所述1-氨基芘-二琥珀酸二酯分子交联;其中所述MXene为Ti3C2Tx,Tx为表面官能团,x代表官能团的个数。

5.一种量子点发光二极管,包括:阳极、阴极、设置于所述阳极和阴极之间的量子点发光层,其特征在于,所述量子点发光层中掺杂有MrGO-AD复合纳米片;

所述MrGO-AD复合纳米片包括:石墨烯纳米片、MXene纳米片和1-氨基芘-二琥珀酸二酯分子,所述MXene纳米片设置于两相邻石墨烯纳米片之间的间隙,所述两相邻石墨烯纳米片之间通过所述1-氨基芘-二琥珀酸二酯分子交联;其中所述MXene为Ti3C2Tx,Tx为表面官能团,x代表官能团的个数。

6.根据权利要求5所述的量子点发光二极管,其特征在于,所述量子点发光层的厚度为10-200nm。

7.根据权利要求5所述的量子点发光二极管,其特征在于,所述MrGO-AD复合纳米片占所述量子点发光层的质量比为0.1%-10%。

8.一种量子点发光二极管的制备方法,其特征在于,包括步骤:

在阳极上形成量子点发光层,所述量子点发光层中掺杂有MrGO-AD复合纳米片;

在所述量子点发光层上形成阴极,得到所述量子点发光二极管;

或者,在阴极上形成量子点发光层,所述量子点发光层中掺杂有MrGO-AD复合纳米片;

在所述量子点发光层上形成阳极,得到所述量子点发光二极管;

其中,所述MrGO-AD复合纳米片包括:石墨烯纳米片、MXene纳米片和1-氨基芘-二琥珀酸二酯分子,所述MXene纳米片设置于两相邻石墨烯纳米片之间的间隙,所述两相邻石墨烯纳米片之间通过所述1-氨基芘-二琥珀酸二酯分子交联;其中所述MXene为Ti3C2Tx,Tx为表面官能团,x代表官能团的个数。

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