[发明专利]一种量子点发光二极管及其制备方法有效
| 申请号: | 202010978385.4 | 申请日: | 2020-09-16 |
| 公开(公告)号: | CN114267801B | 公开(公告)日: | 2023-09-01 |
| 发明(设计)人: | 赖学森;严怡然;张建新;敖资通;杨帆 | 申请(专利权)人: | TCL科技集团股份有限公司 |
| 主分类号: | H10K50/14 | 分类号: | H10K50/14;H10K50/16;H10K50/115;H10K71/00;H10K85/20 |
| 代理公司: | 深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙) 44268 | 代理人: | 刘芙蓉;温宏梅 |
| 地址: | 516000 广东省惠州市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 量子 发光二极管 及其 制备 方法 | ||
1.一种量子点发光二极管,包括:阳极、阴极、设置于所述阳极和阴极之间的量子点发光层、设置于所述阴极和量子点发光层之间的电子传输层,其特征在于,还包括:设置于所述电子传输层和量子点发光层之间的界面修饰层,所述界面修饰层包括MrGO-AD复合纳米片;
所述MrGO-AD复合纳米片包括:石墨烯纳米片、MXene纳米片和1-氨基芘-二琥珀酸二酯分子,所述MXene纳米片设置于两相邻石墨烯纳米片之间的间隙,所述两相邻石墨烯纳米片之间通过所述1-氨基芘-二琥珀酸二酯分子交联;其中所述MXene为Ti3C2Tx,Tx为表面官能团,x代表官能团的个数。
2.根据权利要求1所述的量子点发光二极管,其特征在于,所述界面修饰层由MrGO-AD复合纳米片组成。
3.根据权利要求1所述的量子点发光二极管,其特征在于,所述界面修饰层的厚度为1-50nm。
4.一种量子点发光二极管的制备方法,其特征在于,包括步骤:
在阳极上形成量子点发光层;
在所述量子点发光层上形成界面修饰层,所述界面修饰层包括MrGO-AD复合纳米片;
在所述界面修饰层上形成电子传输层;
在所述电子传输层上形成阴极,得到所述量子点发光二极管;
或者,在阴极上形成电子传输层;
在所述电子传输层上形成界面修饰层,所述界面修饰层包括MrGO-AD复合纳米片;
在所述界面修饰层上形成量子点发光层;
在所述量子点发光层上形成阳极,得到所述量子点发光二极管;
其中,所述MrGO-AD复合纳米片包括:石墨烯纳米片、MXene纳米片和1-氨基芘-二琥珀酸二酯分子,所述MXene纳米片设置于两相邻石墨烯纳米片之间的间隙,所述两相邻石墨烯纳米片之间通过所述1-氨基芘-二琥珀酸二酯分子交联;其中所述MXene为Ti3C2Tx,Tx为表面官能团,x代表官能团的个数。
5.一种量子点发光二极管,包括:阳极、阴极、设置于所述阳极和阴极之间的量子点发光层,其特征在于,所述量子点发光层中掺杂有MrGO-AD复合纳米片;
所述MrGO-AD复合纳米片包括:石墨烯纳米片、MXene纳米片和1-氨基芘-二琥珀酸二酯分子,所述MXene纳米片设置于两相邻石墨烯纳米片之间的间隙,所述两相邻石墨烯纳米片之间通过所述1-氨基芘-二琥珀酸二酯分子交联;其中所述MXene为Ti3C2Tx,Tx为表面官能团,x代表官能团的个数。
6.根据权利要求5所述的量子点发光二极管,其特征在于,所述量子点发光层的厚度为10-200nm。
7.根据权利要求5所述的量子点发光二极管,其特征在于,所述MrGO-AD复合纳米片占所述量子点发光层的质量比为0.1%-10%。
8.一种量子点发光二极管的制备方法,其特征在于,包括步骤:
在阳极上形成量子点发光层,所述量子点发光层中掺杂有MrGO-AD复合纳米片;
在所述量子点发光层上形成阴极,得到所述量子点发光二极管;
或者,在阴极上形成量子点发光层,所述量子点发光层中掺杂有MrGO-AD复合纳米片;
在所述量子点发光层上形成阳极,得到所述量子点发光二极管;
其中,所述MrGO-AD复合纳米片包括:石墨烯纳米片、MXene纳米片和1-氨基芘-二琥珀酸二酯分子,所述MXene纳米片设置于两相邻石墨烯纳米片之间的间隙,所述两相邻石墨烯纳米片之间通过所述1-氨基芘-二琥珀酸二酯分子交联;其中所述MXene为Ti3C2Tx,Tx为表面官能团,x代表官能团的个数。
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